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LiNbO3负极薄膜电化学性能及全固态薄膜锂离子电池应用
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作者 胡雪晨 夏求应 +5 位作者 岳钒 何欣怡 梅正浩 王金石 夏晖 黄晓东 《物理化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2024年第2期89-95,共7页
全固态薄膜锂离子电池具有易微型化与集成化等优点,因此,非常适合为微系统供电。负极对全固态薄膜锂离子电池的性能有重要影响。现有电池通常采用金属锂作为负极,然而其枝晶生长问题及低的热稳定性限制了相应电池在工业、军事等高温、... 全固态薄膜锂离子电池具有易微型化与集成化等优点,因此,非常适合为微系统供电。负极对全固态薄膜锂离子电池的性能有重要影响。现有电池通常采用金属锂作为负极,然而其枝晶生长问题及低的热稳定性限制了相应电池在工业、军事等高温、高安全场合应用。为此,本文系统研究了LiNbO_(3)薄膜的电化学性能,结果表明:LiNbO_(3)薄膜呈现高比容量(410.2 mAh·g^(-1))、高倍率(30C时比容量80.9 mAh·g^(-1))和长循环性能(2000圈循环后的容量保持率为100%),以及高的室温离子电导率(4.5×10^(-8)S·cm-1)。在此基础上,基于LiNbO_(3)薄膜构建出全固态薄膜锂离子电池Pt|NCM523|LiPON|LiNbO_(3)|Pt,其展现出较高的面容量(16.3μAh·cm^(-2))、良好的倍率(30μA·cm^(-2)下比容量1.9μAh·cm^(-2))及长循环稳定性(300圈循环后的容量保持率为86.4%)。此外,该电池表现出优秀的高温性能,连续在100℃下工作近200 h的容量保持率高达95.6%。研究表明:LiPON|LiNbO_(3)界面不论在充放电循环还是高温下均非常稳定,这有助与提升全电池综合性能。 展开更多
关键词 全固态锂离子电池 linbo3薄膜 负极 界面 高温 稳定性
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脉冲激光沉积金刚石基c轴取向LiNbO3压电薄膜 被引量:1
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作者 田四方 梅欣丽 +2 位作者 赵明岗 王前进 王新昌 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第5期372-375,共4页
采用等化学计量比的LiNbO3多晶陶瓷为靶材,利用脉冲激光沉积技术在以非晶SiO2为缓冲层的金刚石/Si衬底上制备c轴取向LiNbO3薄膜。研究了靶材与衬底之间的距离对LiNbO3薄膜的结晶质量和c轴取向性的影响,发现在靶材与衬底之间的距离为4.0c... 采用等化学计量比的LiNbO3多晶陶瓷为靶材,利用脉冲激光沉积技术在以非晶SiO2为缓冲层的金刚石/Si衬底上制备c轴取向LiNbO3薄膜。研究了靶材与衬底之间的距离对LiNbO3薄膜的结晶质量和c轴取向性的影响,发现在靶材与衬底之间的距离为4.0cm时获得了具有优异结晶质量的完全c轴取向LiNbO3压电薄膜。采用扫描电子显微镜和原子力显微镜对最佳条件下制备的薄膜进行了分析,结果表明制得的薄膜呈与衬底垂直的柱状结构,且薄膜表面光滑,晶粒均匀致密,表面平均粗糙度约为9.5 nm。 展开更多
关键词 linbo3压电薄膜金刚石/Si缓冲层脉冲激光沉积
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低能Ar+刻蚀时间对抛光单晶LiNbO3薄膜忆阻器的影响
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作者 梁翔 帅垚 +2 位作者 潘忻强 乔石珺 吴传贵 《电子元件与材料》 CAS CSCD 北大核心 2020年第5期60-66,共7页
调节低能Ar+刻蚀对单晶LiNbO3(LN)的刻蚀时间,制备了不同LN厚度的单晶薄膜忆阻器。利用扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)和电子顺磁共振(EPR)对器件的微观形貌与表面氧空位进行了表征。通过电流-电压曲线(IV曲线)、数据保持特性(... 调节低能Ar+刻蚀对单晶LiNbO3(LN)的刻蚀时间,制备了不同LN厚度的单晶薄膜忆阻器。利用扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)和电子顺磁共振(EPR)对器件的微观形貌与表面氧空位进行了表征。通过电流-电压曲线(IV曲线)、数据保持特性(Retention)和抗疲劳特性(Endurance)的测试,探究了刻蚀时长对器件电学行为的影响。结果表明,随刻蚀时间增加,器件表面光滑均匀,氧空位浓度增加,电形成电压显著降低。同时,尽管LN薄膜厚度减小后,器件的开关比(On/Off)略有降低,但其具有更好的数据保持特性。该方法适用于对由离子注入剥离法制备的单晶薄膜进行改性,以调控其阻变特性,使之可在高密度存储、神经形态计算等领域得到应用。 展开更多
关键词 忆阻器 linbo3薄膜 阻变 低能离子辐照
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LiNbO_3薄膜的研究进展 被引量:3
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作者 王新昌 叶志镇 《材料导报》 EI CAS CSCD 2002年第9期26-28,59,共4页
LiNbO_3薄膜具有优良的压电、热释电、声光及非线性光学特性,在光电子学及集成光学等领域有许多重要应用。着重介绍LiNbO_3的结构、性质与薄膜制备技术,以及在光通信领域中的应用。
关键词 研究进展 linbo3 薄膜 制备 光通信 铌酸锂 结构 性质 集成光学 光电子学 应用
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Pechini方法制备铌酸锂薄膜的研究 被引量:2
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作者 赵九蓬 强亮生 +1 位作者 权茂华 张蕾 《无机化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2006年第11期1957-1961,共5页
采用Pechini方法,以柠檬酸为配位剂与金属离子配位,在Pt/Ti/SiO2/Si基片上制备了多晶铌酸锂(LiNbO3)薄膜。以13C核磁共振、拉曼光谱和红外光谱分析研究了柠檬酸与金属离子的配位情况,提出了一种Nb-柠檬酸配合物可能的分子结构,即柠檬酸... 采用Pechini方法,以柠檬酸为配位剂与金属离子配位,在Pt/Ti/SiO2/Si基片上制备了多晶铌酸锂(LiNbO3)薄膜。以13C核磁共振、拉曼光谱和红外光谱分析研究了柠檬酸与金属离子的配位情况,提出了一种Nb-柠檬酸配合物可能的分子结构,即柠檬酸作为三齿配体,以端羧基、-OH和中间羧基与Nb离子配位。以TG-DTA对Li-Nb凝胶前驱体的热分解历程进行分析,以拉曼光谱和XRD分析了LiNbO3薄膜在不同温度下热处理的相组成和结构。结果表明,600℃下退火2h可得到单相多晶LiNbO3薄膜,薄膜表面致密、平整,晶粒的平均尺寸为50 nm。 展开更多
关键词 linbo3薄膜 Pechini方法 Nb-柠檬酸配合物
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SAW器件用金刚石基c轴取向LiNbO_3压电薄膜的制备 被引量:1
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作者 王新昌 田四方 +1 位作者 贾建峰 王前进 《材料科学与工程学报》 CAS CSCD 北大核心 2010年第6期810-812,817,共4页
采用脉冲激光沉积技术,在以c轴取向ZnO作为缓冲层的金刚石/硅基底上制备出了结晶良好的高c轴取向LiNbO3薄膜。利用X射线衍射对薄膜的结晶质量和c轴取向性进行了研究,结果表明制得的LiNbO3薄膜具有高度c轴取向且结晶质量良好。采用扫描... 采用脉冲激光沉积技术,在以c轴取向ZnO作为缓冲层的金刚石/硅基底上制备出了结晶良好的高c轴取向LiNbO3薄膜。利用X射线衍射对薄膜的结晶质量和c轴取向性进行了研究,结果表明制得的LiNbO3薄膜具有高度c轴取向且结晶质量良好。采用扫描电子显微镜和原子力显微镜对薄膜的表面形貌进行了分析,发现薄膜表面光滑,晶粒尺寸均匀,薄膜表面粗糙度约为20nm。 展开更多
关键词 linbo3压电薄膜 金刚石/硅基底 脉冲激光沉积
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射频磁控溅射法LiNbO_3薄膜的制备及其影响因素研究 被引量:1
7
作者 孙大智 熊瑛 杨晓萍 《天津理工大学学报》 2008年第4期39-41,共3页
采用射频磁控溅射法在Si(111)和Si(100)上制备LiNbO3薄膜.通过XRD技术探讨了硅基片取向和所制备的薄膜的取向之间的联系,研究了不同靶材对薄膜的影响,讨论了热处理温度、工艺和所制备的薄膜取向的关系.报道了在Si(111)基片上制备高c轴... 采用射频磁控溅射法在Si(111)和Si(100)上制备LiNbO3薄膜.通过XRD技术探讨了硅基片取向和所制备的薄膜的取向之间的联系,研究了不同靶材对薄膜的影响,讨论了热处理温度、工艺和所制备的薄膜取向的关系.报道了在Si(111)基片上制备高c轴取向的LiNbO压电薄膜的制备方法. 展开更多
关键词 linbo3薄膜 射频磁控溅射 薄膜取向
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硅基LiNbO_3薄膜的光波导性能研究
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作者 王新昌 叶志镇 +2 位作者 李士玲 曹亮亮 赵炳辉 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第4期245-248,共4页
利用脉冲激光沉积技术在硅衬底上生长高c轴取向LiNbO3薄膜。研究了衬底温度对薄膜质量的影响,发现衬底温度在600℃时获得了具有优异结晶质量的高c轴取向LiNbO3薄膜。采用扫描电镜和透射电镜分别对薄膜的表面、截面进行了分析,结果表明,... 利用脉冲激光沉积技术在硅衬底上生长高c轴取向LiNbO3薄膜。研究了衬底温度对薄膜质量的影响,发现衬底温度在600℃时获得了具有优异结晶质量的高c轴取向LiNbO3薄膜。采用扫描电镜和透射电镜分别对薄膜的表面、截面进行了分析,结果表明,薄膜表面光滑,晶粒均匀致密,薄膜呈与衬底垂直的柱状结构。棱镜耦合技术制备的LiNbO3薄膜具有优异的光波导性能,光损耗为1.14 dB/cm。 展开更多
关键词 脉冲激光沉积 linbo3薄膜 光波导 硅衬底
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铌酸锂铁电薄膜的制备与表征
9
作者 杨海波 林营 王芬 《无机盐工业》 CAS 北大核心 2007年第4期20-22,共3页
采用柠檬酸盐法制备铌酸锂铁电薄膜。探讨了柠檬酸(CA)和乙二醇(EG)的用量、pH和水浴温度等工艺参数对溶胶性能的影响。采用XRD和TG-DTA研究了铌酸锂(LiNbO3)晶相的形成过程,用XRD和AFM对所制得薄膜的物相组成和表面形貌进行了表征。结... 采用柠檬酸盐法制备铌酸锂铁电薄膜。探讨了柠檬酸(CA)和乙二醇(EG)的用量、pH和水浴温度等工艺参数对溶胶性能的影响。采用XRD和TG-DTA研究了铌酸锂(LiNbO3)晶相的形成过程,用XRD和AFM对所制得薄膜的物相组成和表面形貌进行了表征。结果表明,当前驱体溶胶的pH为7.5,水浴温度大于80℃,n(CA)∶n(Li+Nb)=3∶1,n(CA)∶n(EG)=1∶2时,可以获得稳定性好的溶胶。薄膜经缓慢升温至800℃热处理,可以获得单相、表面光滑、晶粒大小均匀、晶粒大小为70 nm的LiNbO3铁电薄膜。 展开更多
关键词 铌酸锂 铁电 薄膜 聚合物前驱体 柠檬酸
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磁控溅射法在LiNbO_3衬底上制备ZnO薄膜及性能研究
10
作者 王银珍 初本莉 +1 位作者 何琴玉 徐军 《激光与红外》 CAS CSCD 北大核心 2008年第8期796-798,共3页
采用磁控溅射法在(001)LiNbO3衬底上制备了ZnO薄膜,并对其进行了退火处理。利用X射线衍射仪(XRD)、紫外-可见光谱仪和光致发光谱(PL)对ZnO薄膜的结构和光学性能进行了分析。结果表明,ZnO薄膜具有(002)的择优取向,退火后ZnO薄膜的(002)... 采用磁控溅射法在(001)LiNbO3衬底上制备了ZnO薄膜,并对其进行了退火处理。利用X射线衍射仪(XRD)、紫外-可见光谱仪和光致发光谱(PL)对ZnO薄膜的结构和光学性能进行了分析。结果表明,ZnO薄膜具有(002)的择优取向,退火后ZnO薄膜的(002)衍射峰的强度增强,半高宽减小,(002)峰向高角度方向移动。退火后样品可见光透过率增加,光学带隙发生红移。退火后的样品,紫外发光峰强度增强,可见光发光峰强度相对减弱。 展开更多
关键词 ZNO薄膜 磁控溅射 linbo3
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超快激光制备铌酸锂基金属叉指电极工艺研究
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作者 周天丰 张丹梅 +4 位作者 刘朋 李沛桓 谢秋晨 李紫薇 王西彬 《航空制造技术》 CSCD 北大核心 2022年第23期81-89,共9页
利用波长1064 nm、脉冲宽度10 ps、重复频率100 kHz的超快脉冲激光,刻蚀了铌酸锂基底上的银铬双层薄膜,研究了激光能量密度和扫描速度对银铬双层薄膜表面刻蚀沟槽质量的影响以提高沟槽质量。结果表明,激光能量密度5.38 J/cm~2、扫描速度... 利用波长1064 nm、脉冲宽度10 ps、重复频率100 kHz的超快脉冲激光,刻蚀了铌酸锂基底上的银铬双层薄膜,研究了激光能量密度和扫描速度对银铬双层薄膜表面刻蚀沟槽质量的影响以提高沟槽质量。结果表明,激光能量密度5.38 J/cm~2、扫描速度500 mm/s是激光刻蚀沟槽的最佳激光参数,沟槽底部基底完整无损,沟槽边缘没有明显裂纹,保证最终刻蚀获得的叉指电极具有优良性能,同时相应的沟槽宽度约为14μm,使得加工线宽14μm及以上的高质量叉指电极成为可能,能够满足生物医学领域声表面波器件对叉指电极的需求。设计并以优化参数加工了一对应用于生物医学领域声表面波器件的叉指电极,其加工精度较高,表面形貌良好,电极间无粘连等缺陷。 展开更多
关键词 超快激光 叉指电极(IDT) 金属薄膜 铌酸锂 声表面波(SAW)
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射频磁控溅射制备c轴取向LiNbO_3薄膜研究
12
作者 安玉凯 左长云 刘技文 《天津理工大学学报》 2011年第4期1-4,共4页
采用射频磁控溅射技术,用富Li的LiNbO3靶材在Si(100)和Si(111)基底上制备了LiNbO3薄膜.通过X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和X射线光电子能谱(XPS)对LiNbO3薄膜的结晶程度、晶体取向和表面形貌及薄膜与基底结合处的界面结构进... 采用射频磁控溅射技术,用富Li的LiNbO3靶材在Si(100)和Si(111)基底上制备了LiNbO3薄膜.通过X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和X射线光电子能谱(XPS)对LiNbO3薄膜的结晶程度、晶体取向和表面形貌及薄膜与基底结合处的界面结构进行了研究.结果表明:样品在空气中经1 000℃退火1 h处理后,薄膜与Si基底界面处有SiO2生成,得到的LiNbO3薄膜结晶性好,具有高c轴取向,晶粒排列致密且粒径尺寸均匀. 展开更多
关键词 linbo3薄膜 C轴取向 射频磁控溅射
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脉冲激光沉积法在GaN基片上制备c轴取向LiNbO_3薄膜 被引量:1
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作者 廖秀尉 朱俊 +1 位作者 罗文博 郝兰众 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第5期496-499,共4页
采用LiNbO3单晶靶材,以激光脉冲沉积方法在六方GaN(0001)基片上沉积制备c轴取向的LiNb03薄膜。利用x射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和原子力显微镜(ARM)研究了沉积温度和氧气压强对生长的薄膜的相组成、外延关系、表面... 采用LiNbO3单晶靶材,以激光脉冲沉积方法在六方GaN(0001)基片上沉积制备c轴取向的LiNb03薄膜。利用x射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和原子力显微镜(ARM)研究了沉积温度和氧气压强对生长的薄膜的相组成、外延关系、表面形貌、晶粒大小的影响。结果显示,沉积温度500℃、氧分压20~30Pa是在GaN基片上生长C轴取向LiNbO3薄膜的最优生长条件。XRD分析表明,生长的LiNbO3薄膜具有两种晶畴结构,其外延关系分别为[1-100](0001)LiNbO3//[11-20](0001)GaIN和[10-10](0001)LiNbO3//[-12—10](0001)GaN。SEM和AFM对薄膜的表面形貌表征表明,在最优生长条件下沉积的薄膜表面平整,致密度好。 展开更多
关键词 linbo3薄膜 C轴取向 脉冲激光沉积 XRD
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铁电极化调控SnSe薄膜光电性质研究
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作者 宋波 韩杰才 +2 位作者 郝润豹 李加杰 王先杰 《哈尔滨工业大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第11期1-6,共6页
利用脉冲激光沉积(PLD)技术在铌酸锂基片上沉积SnSe薄膜,研究了不同极化方向的铁电基片对SnSe薄膜光电性质的影响.控制PLD沉积时间,在铌酸锂基片上沉积出不同厚度的SnSe薄膜.X射线衍射和X射线光电子能谱的结果显示制备了高取向的单相SnS... 利用脉冲激光沉积(PLD)技术在铌酸锂基片上沉积SnSe薄膜,研究了不同极化方向的铁电基片对SnSe薄膜光电性质的影响.控制PLD沉积时间,在铌酸锂基片上沉积出不同厚度的SnSe薄膜.X射线衍射和X射线光电子能谱的结果显示制备了高取向的单相SnSe薄膜.薄膜横截面高分辨透射电镜结果显示了薄膜具有较高的结晶质量.在无光照情况下,当铁电极化方向指向薄膜时,极化场可向SnSe薄膜中注入电子,使p型SnSe薄膜的电阻增加;当极化方向背离薄膜时,极化场可向SnSe薄膜中注入空穴,使p型SnSe薄膜的电阻降低.当用仅能使SnSe薄膜发生电子-空穴分离的632 nm激光照射时,不同极化方向的样品都表现出光电导增加的现象.当用405 nm激光照射时,不同极化方向的铌酸锂与薄膜界面处发生的电子-空穴分离使SnSe薄膜表现出完全不同的光电导效应.利用能带模型解释了不同铁电极化方向的铁电基片对SnSe薄膜光电导性质调控的机理. 展开更多
关键词 铁电极化 铌酸锂 SnSe薄膜 光电调控 脉冲激光沉积
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硅基LiNbO_3薄膜的工艺研究及其性能分析
15
作者 余凌 戴基智 《电子科技》 2008年第10期5-7,10,共4页
利用射频磁控溅射法在硅衬底上生长c轴取向LiNbO3薄膜。研究了生成高质量薄膜的实验条件和快速退火处理对薄膜结晶质量的影响。发现以600℃衬底温度制备薄膜并以650℃进行快速退火时获得了具有优异结晶质量的LiNbO3薄膜。采用扫描电镜... 利用射频磁控溅射法在硅衬底上生长c轴取向LiNbO3薄膜。研究了生成高质量薄膜的实验条件和快速退火处理对薄膜结晶质量的影响。发现以600℃衬底温度制备薄膜并以650℃进行快速退火时获得了具有优异结晶质量的LiNbO3薄膜。采用扫描电镜分别对薄膜的表面、截面进行了分析。结果表明,薄膜表面光滑,晶粒均匀致密。 展开更多
关键词 光波导 linbo3薄膜 射频磁控溅射法 硅衬底
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LiNbO_3/ZnO:Al集成结构的外延生长及电性能研究
16
作者 邓杰 朱俊 +1 位作者 吴智鹏 马陈鹏 《电子元件与材料》 CAS CSCD 北大核心 2013年第5期9-12,共4页
采用脉冲激光沉积(PLD)法在蓝宝石衬底上先后外延生长了ZnO:Al(ZAO)和LiNbO3(LN)薄膜。通过X射线衍射分析(XRD)可知二者之间的外延关系为:LN(001)//ZAO(001)、LN[110]//ZAO[110]、LN[100]//ZAO[120]。制备了Au/LN/ZAO和ZAO/LN/ZAO两种... 采用脉冲激光沉积(PLD)法在蓝宝石衬底上先后外延生长了ZnO:Al(ZAO)和LiNbO3(LN)薄膜。通过X射线衍射分析(XRD)可知二者之间的外延关系为:LN(001)//ZAO(001)、LN[110]//ZAO[110]、LN[100]//ZAO[120]。制备了Au/LN/ZAO和ZAO/LN/ZAO两种电容器结构,对其进行了电流-电压(J-E)测试和铁电(P-E)分析,结果表明:LN/ZAO集成结构具有整流作用,ZAO/LN/ZAO结构表现出较好的绝缘性能,所制备的LN薄膜在室温下的剩余极化强度(Pr)约为1×10–6C/cm2,温度的升高能够促进电畴的翻转,使Pr增加为3×10–6C/cm2。 展开更多
关键词 脉冲激光沉积 linbo3 ZNO Al 外延薄膜 集成结构 J-E P-E
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铌酸锂薄膜制备的研究现状及进展
17
作者 张澎丽 刘技文 +3 位作者 赵捷 刘莹 李延辉 李昌龄 《天津理工大学学报》 2006年第4期43-47,共5页
铌酸锂是人工合成的具有优良的电学和光学性质的铁电体材料,在光电子学和集成光学等领域有许多重要的应用.本文介绍了铌酸锂的结构、性质和铌酸锂薄膜的制备研究现状及进展,并对应用前景进行了展望.
关键词 铌酸锂 薄膜制备 现状与进展
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LiNbO_3压电薄膜的研究进展
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作者 王俊喜 董向丹 +1 位作者 张丽伟 王新昌 《真空与低温》 2010年第1期55-60,共6页
LiNbO3因其优异的压电性能和声表面波特性而被广泛应用于声表面波器件中。对LiNbO3的声表面波特性及薄膜制备技术进行了综述,并着重介绍了LiNbO3/蓝宝石及LiNbO3/金刚石多层结构的制备、声表面波特性的理论研究及压电薄膜研究进展。
关键词 linbo3 压电薄膜 声表面波
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Highly C-axis oriented LiNbO3 thin film on amorphous SiO2 buffer layer and its growth mechanism
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作者 HEJunhui YEZhizhent 《Chinese Science Bulletin》 SCIE EI CAS 2003年第21期2290-2294,共5页
LiNbO3 waveguiding films with highly C-axis orientation and superior crystallographic quality have been deposited on the amorphous SiO2 buffer layer of Si wafer by pulsed laser deposition (PLD) technique. X-ray diffra... LiNbO3 waveguiding films with highly C-axis orientation and superior crystallographic quality have been deposited on the amorphous SiO2 buffer layer of Si wafer by pulsed laser deposition (PLD) technique. X-ray diffraction, high-resolution electron transmission microscopy and atomic force microscopy were applied to characterizing the quality and orientation of LiNbO3 thin film, and the optimized depo-sition conditions have been determined for C-axis oriented growth. LiNbO3 thin films on amorphous SiO2 buffer layer were composed of intimate arrangements of quadrangular single crystal domain (150 nm 150 nm) with C-axis orienta-tion, and displayed sharp interface structures. The meas-urements of prism coupling technique indicate that the laser can be coupled into the LiNbO3 film and TE and TM waveguiding modes were detected. In addition, the possible mechanism of oriented growth on amorphous buffer layer and film-substrate effects?were discussed briefly, which suggests that its growth mechanism is likely analogous to the Volmer model with characteristics of three-dimensional is-lands nucleation on the smooth crystal surface. 展开更多
关键词 linbo3薄膜 SIO2 生长机制 二氧化硅 脉冲激光沉积 铁电氧化物
原文传递
铌酸锂的光致发光研究进展
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作者 刘莹 刘技文 +3 位作者 赵捷 张澎丽 李延辉 李昌龄 《天津理工大学学报》 2006年第5期1-5,共5页
铌酸锂(L iNbO3)优良的电光、声光、压电、铁电和非线性光学特性可用于制备性能优良的频率转换器、固体激光器等,更为重要的是与光发射性能相结合可能成为实现硅基光电子集成技术的重要途径之一.本文介绍了L iN-bO3掺杂过渡金属元素、... 铌酸锂(L iNbO3)优良的电光、声光、压电、铁电和非线性光学特性可用于制备性能优良的频率转换器、固体激光器等,更为重要的是与光发射性能相结合可能成为实现硅基光电子集成技术的重要途径之一.本文介绍了L iN-bO3掺杂过渡金属元素、稀土元素和L iNbO3多层结构薄膜的光致发光机理及影响因素,指出了目前L iNbO3光致发光存在的问题,并对其发光性能的应用前景进行了展望. 展开更多
关键词 linbo3 光致发光 过渡金属元素 稀土元素 多层结构薄膜
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