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Mo/B_4C软X射线多层膜结构特性研究 被引量:1
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作者 吕俊霞 马月英 +2 位作者 裴舒 陈星旦 曹健林 《光子学报》 EI CAS CSCD 2000年第5期459-461,共3页
在 6.7<λ<1 0 .0 nm波段选择 Mo/ B4 C作为多层膜材料 ,并采用磁控溅射法制备出多层膜样品 .这些多层膜样品的周期结构为 3 .3 5 nm~ 5 .5 2 nm.采用 X射线衍射仪和透射电镜 (TEM)对样品的微观结构进行研究 .结构表明 ,这些多... 在 6.7<λ<1 0 .0 nm波段选择 Mo/ B4 C作为多层膜材料 ,并采用磁控溅射法制备出多层膜样品 .这些多层膜样品的周期结构为 3 .3 5 nm~ 5 .5 2 nm.采用 X射线衍射仪和透射电镜 (TEM)对样品的微观结构进行研究 .结构表明 ,这些多层膜样品的结构质量很高 ,并有很好的热稳定性 . 展开更多
关键词 mo/b4c 多层膜 软X射线
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8.0nm X射线激光反射镜Mo/B-4C多层膜制备及其特性 被引量:1
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作者 吕俊霞 马月英 +3 位作者 裴舒 沈长斌 曹健林 陈星旦 《原子能科学技术》 EI CAS CSCD 北大核心 1999年第4期343-345,共3页
用磁控溅射法制备工作波长约80 nm 的 Mo/ B4 C多层膜作为正入射短波长(λ< 10.0 nm )软 X 射线激光反射腔的反射镜。经 X 射线衍射仪和 T E M 检测,多层膜周期结构准确,热稳定性高。
关键词 软X射线 多层膜 磁控溅射法 激光反射镜 膜系
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磁控溅射法制备Mo/B_4C软X射线多层膜 被引量:1
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作者 吕俊霞 马月英 +2 位作者 裴舒 曹健林 陈星旦 《真空科学与技术》 CSCD 北大核心 1999年第2期143-145,共3页
用DC和RF磁控溅射法制备出了波长小于 10nm波段的Mo/B4 C软X射线多层膜反射镜。掠入射X射线衍射仪的测量结果表明 ,磁控溅射法有很高的控制精度 ,制备出的Mo/B4 C软X射线多层膜周期结构非常好 ,表 (界 )面粗糙度非常小 ,约为 0 4nm。
关键词 软X射线 多层膜 磁控溅射 mo/b4c
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磁控溅射法制备极紫外6.8~11.0nm波段Mo/B_4C横向梯度多层膜(英文)
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作者 朱京涛 李淼 +3 位作者 朱圣明 张嘉怡 冀斌 崔明启 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第6期16-20,共5页
用直流磁控溅射法结合掩模板控制膜厚的方法在Si衬底上制备了工作于6.8~11.0nm波段的[Mo/B_4C]60横向梯度多层膜。利用X射线掠入射反射测试以及同步辐射反射率测试对梯度多层膜的结构及性能进行了测试。X射线掠入射反射测试结果表明,... 用直流磁控溅射法结合掩模板控制膜厚的方法在Si衬底上制备了工作于6.8~11.0nm波段的[Mo/B_4C]60横向梯度多层膜。利用X射线掠入射反射测试以及同步辐射反射率测试对梯度多层膜的结构及性能进行了测试。X射线掠入射反射测试结果表明,多层膜周期厚度沿着长轴方向从4.39nm逐渐增加到7.82nm,周期厚度平均梯度为0.054nm/mm。对横向梯度多层膜沿长轴方向每隔5mm进行了一次同步辐射反射率测试,结果显示,横向梯度多层膜在45°入射角下的反射率约为10%,反射峰的半高全宽介于0.13nm到0.31nm之间。 展开更多
关键词 极紫外 横向梯度多层膜 mo/b4c 磁控溅射 同步辐射
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高反射率Mo/B_4C多层膜设计及制备 被引量:6
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作者 张慧晶 张众 +8 位作者 朱京涛 白亮 陈锐 黄秋实 刘丽琴 谭默言 王风丽 王占山 陈玲燕 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第1期67-70,共4页
运用遗传算法优化设计了Mo/B4C多层膜结构。入射光入射角度取10°时,设计的理想多层膜膜对数为150,周期为3.59 nm,Gamma值(Mo膜厚与周期的比值)为0.41,峰值反射率为33.29%。采用恒功率模式直流磁控溅射方法制作Mo/B4C多层膜。通过在... 运用遗传算法优化设计了Mo/B4C多层膜结构。入射光入射角度取10°时,设计的理想多层膜膜对数为150,周期为3.59 nm,Gamma值(Mo膜厚与周期的比值)为0.41,峰值反射率为33.29%。采用恒功率模式直流磁控溅射方法制作Mo/B4C多层膜。通过在Mo/B4C多层膜与基底之间增加15 nm厚的Cr粘附层,提高多层膜与基底的粘附力。另外,还采用调整多层膜Gamma值的方法减小其内应力,调整后多层膜结构周期为3.59 nm,Mo膜厚1.97 nm,B4C膜厚1.62 nm,峰值反射率26.34%。制备了膜对数为150的Mo/B4C膜并测量了其反射率,在波长7.03 nm处,Mo/B4C多层膜的近正入射反射率为21.0%。最后对测量结果进行了拟合,拟合得到Mo/B4C多层膜的周期为3.60 nm,Gamma值0.60,界面粗糙度为0.30 nm。 展开更多
关键词 软X射线 mo/b4c多层膜 遗传算法 直流磁控溅射 应力 反射率
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软X射线Mo/B_4C多层膜应力和热稳定性研究 被引量:1
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作者 徐德超 王海霞 +3 位作者 张众 朱杰 连玉红 王占山 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第6期118-122,共5页
为了实现7nm波段Mo/B4C多层膜反射镜元件的制备,研究了不同退火方式对Mo/B4C多层膜应力和热稳定性的影响。首先,采用直流磁控溅射方法分别基于石英和硅基板制作Mo/B4C多层膜样品,设计周期为3.58nm、周期数为60,Mo膜层厚度与周期的比值为... 为了实现7nm波段Mo/B4C多层膜反射镜元件的制备,研究了不同退火方式对Mo/B4C多层膜应力和热稳定性的影响。首先,采用直流磁控溅射方法分别基于石英和硅基板制作Mo/B4C多层膜样品,设计周期为3.58nm、周期数为60,Mo膜层厚度与周期的比值为0.4。其次,采用不同的退火方式对所制作的样品进行退火实验,最高退火温度500℃。最后,分别采用X射线掠入射反射、X射线散射和光学干涉仪的方法对退火前后的Mo/B4C多层膜的周期、界面粗糙度和应力进行测试。测试结果表明采用真空退火方式能够有效降低Mo/B4C多层膜的应力,且退火前后Mo/B4C多层膜的周期和界面粗糙度无明显变化,证明Mo/B4C多层膜在500℃以内具有很好的热稳定性。 展开更多
关键词 软X射线 mo/b4c 直流磁控溅射 应力 热稳定性
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Characteristics of electrodeposited RE-Ni-W-B-B_4C-MoS_2 composite coating 被引量:2
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作者 马克毅 郭忠诚 +1 位作者 朱晓云 徐瑞东 《中国有色金属学会会刊:英文版》 CSCD 2003年第5期1220-1225,共6页
The high temperature oxidation resistance of RE Ni W B B 4C MoS 2 composite coating, the effects of electrodeposition conditions on the morphologies of the coating and the effect of heat treatment temperature on its h... The high temperature oxidation resistance of RE Ni W B B 4C MoS 2 composite coating, the effects of electrodeposition conditions on the morphologies of the coating and the effect of heat treatment temperature on its hardness, abrasion resistance and phase structure were investigated by using scanning electron microscope(SEM), X ray diffractometer, microhardness tester and abrasion machine. The results show that the oxidation degree of RE Ni W B B 4C MoS 2 composite coating is small when the temperature is lower than 700 ℃, but it increases sharply when the temperature is higher than 700 ℃. The hardness of RE Ni W B B 4C MoS 2 composite coating increases with increasing heat treatment temperature, it comes up to the maximum value at 400 ℃,but it decreases gradually if the temperature rises continuously. The most favourable abrasion resistance was attained after RE Ni W B B 4C MoS 2 composite coating being heat treated at 400 ℃. Without heat treating, it is mainly amorphous and partially crystallized, but wholly crystallized after being heat treated at 500 ℃. RE in the composite coating is in the form of CeO 2 and additions of CeO 2 and B 4C can enhance the thermostability of RE Ni W B B 4C MoS 2 composite coating. 展开更多
关键词 电沉积 复合涂层 RE-Ni-W-b-b4c-moS2 二硫化钼 自润滑材料
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正入射Mo/B_4C软X射线多层膜 被引量:3
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作者 吕俊霞 马月英 +1 位作者 张俊平 曹健林 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1998年第1期109-111,共3页
采用Mo/B4C材料在短波长波段(λ<10.0nm)进行软X射线多层膜实验研究。在指定波长(8.0nm附近)处对多层膜进行结构设计,并制备出了周期结构准确的Mo/B4C多层膜样品。
关键词 软X射线 多层膜 正入射 钼/碳化硼 薄膜光学
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