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Si(100)在NaOH/NH_4F/Na_2CO_3体系中的绒面制备
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作者 储清梅 刘翔 +1 位作者 张鹏翔 戴永年 《电源技术》 CAS CSCD 北大核心 2012年第9期1301-1302,共2页
用NaOH/NH4F/Na2CO3溶液体系对单晶硅(100)进行了表面织构。结果发现腐蚀所得表面沟壑纵横,沟壑间是类似金字塔的小凸起。在优化条件下,平均反射率低且不随腐蚀时间的延长而增大,可重复性好,是比较理想的碱腐蚀液。
关键词 单晶硅 腐蚀 表面织构 naoh/nh4f/na2co3溶液
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氨性硫代硫酸盐浸金体系中硫代硫酸盐的消耗 被引量:30
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作者 童雄 张艮林 普传杰 《有色金属》 CSCD 北大核心 2005年第2期69-72,77,共5页
分别从模拟浸出环境和实际浸金过程两个方面研究硫代硫酸盐的消耗规律。S2O32-的损失率基本上随Cu2+浓度和NH4+浓度的增大而增大。pH由8.00升高到9.70时溶液中的S2O32-不但没有损耗,反而有所增加。在氨性溶液中,SO42-存在的条件下,随Na2... 分别从模拟浸出环境和实际浸金过程两个方面研究硫代硫酸盐的消耗规律。S2O32-的损失率基本上随Cu2+浓度和NH4+浓度的增大而增大。pH由8.00升高到9.70时溶液中的S2O32-不但没有损耗,反而有所增加。在氨性溶液中,SO42-存在的条件下,随Na2SO3添加量增加,溶液中S2O32-损失率急剧下降,最后甚至出现溶液中S2O32-浓度快速升高的现象。用(NH4)2CO3代替(NH4)2SO4,最终溶液中S2O32-的损失率都很大。硫代硫酸盐浸金法具有较强的抗外来阳离子干扰的能力。实际矿样柱浸过程与搅拌浸出静置过程中硫代硫酸盐的损耗规律基本一致。 展开更多
关键词 氨性硫代硫酸盐 浸金 (nh4)2SO4 SO4^2- na2SO3 nh4^+ CU^2+ 损失率 消耗规律 氨性溶液 离子干扰 搅拌浸出 浓度 添加量 增大 损耗
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