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Direct observation of the f–c hybridization in the ordered uranium films on W(110)
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作者 Qiuyun Chen Shiyong Tan +3 位作者 Wei Feng Lizhu Luo Xiegang Zhu Xinchun Lai 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2019年第7期444-448,共5页
A key issue in metallic uranium and its related actinide compounds is the character of the f electrons, whether it is localized or itinerant.Here we grew well ordered uranium films on a W(110) substrate.The surface to... A key issue in metallic uranium and its related actinide compounds is the character of the f electrons, whether it is localized or itinerant.Here we grew well ordered uranium films on a W(110) substrate.The surface topography was investigated by scanning tunneling microscopy.The Fermi surface and band structure of the grown films were studied by angle-resolved photoemission spectroscopy.Large spectral weight can be observed around the Fermi level, which mainly comes from the f states.Additionally, we provided direct evidence that the f bands hybridize with the conduction bands in the uranium ordered films, which is different from previously reported mechanism of the direct f–f interaction.We propose that the above two mechanisms both exist in this system by manifesting themselves in different momentum spaces.Our results give a comprehensive study of the ordered uranium films and may throw new light on the study of the 5 f-electron character and physical properties of metallic uranium and other related actinide materials. 展开更多
关键词 uranium films 5f-electron character angle-resolved PHOTOEMISSION spectroscopy
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连山关地区铀矿地质钻探技术优化
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作者 王琳 孙祺斌 +2 位作者 刘忠存 王野 丛源鹏 《现代矿业》 CAS 2024年第5期27-30,35,共5页
由于连山关地区存在着地层复杂、岩石胶结松散、水敏性强等诸多不利因素,钻探施工中存在钻孔漏失、掉块卡钻以及坍塌埋钻等问题,导致钻孔报废,降低了铀矿地质钻探施工的经济效益。为了解决以上问题,以ZK93-1孔钻为对象,针对铀矿地质地... 由于连山关地区存在着地层复杂、岩石胶结松散、水敏性强等诸多不利因素,钻探施工中存在钻孔漏失、掉块卡钻以及坍塌埋钻等问题,导致钻孔报废,降低了铀矿地质钻探施工的经济效益。为了解决以上问题,以ZK93-1孔钻为对象,针对铀矿地质地层特性以及常用设备、泥浆等存在的不利因素,对钻孔设备进行优化,选用CSD-1800A型全液压动力头钻机、HQ绳索取心钻具,并配备镦粗钻杆的NQ绳索取心钻具,提高了钻进效率及安全性,也降低了劳动强度;选用成膜防塌无固相冲洗液,有效降低钻孔偏斜,保证了岩矿心采取率,降低了施工成本,为类似地质条件地区的钻探工作提供参考依据。 展开更多
关键词 铀矿地质钻探 复杂地层 钻孔事故 成膜防塌无固相冲洗液
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可剥离膜去除不锈钢表面铀污染的研究 被引量:12
3
作者 金永东 冯立 +4 位作者 谢家理 夏传琴 王科太 汪小琳 陆春海 《化学研究与应用》 CAS CSCD 北大核心 2002年第1期116-118,共3页
The conditions under which decontaminate uranyl compounds from the surface of stainless steel by using film have been studied.The films which are composed of different decontaminating agent and polyvinyl alcohol are c... The conditions under which decontaminate uranyl compounds from the surface of stainless steel by using film have been studied.The films which are composed of different decontaminating agent and polyvinyl alcohol are coated on the surfaces of the contaminated samples,then make it dry.At last strippoff the film,the decontamination is attained.The efficiency of decontamination reachs as high as 99%. 展开更多
关键词 退役 成膜 去污 核设施 铀污染 不锈钢 酸性去污液 成膜剂
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磁控溅射沉积U薄膜性能研究 被引量:6
4
作者 鲜晓斌 吕学超 +1 位作者 张永彬 任大鹏 《原子能科学技术》 EI CAS CSCD 2002年第4期396-398,共3页
采用X射线光电子能谱仪 (XPS)和扫描透射电镜 (STEM )分析了在Al薄膜基材上磁控溅射沉积U薄膜的表面形貌、组织和结构 ;分别采用排代法、霍美尔 (T2 0S)粗糙度测量仪测量了薄膜的密度和表面粗糙度。结果表明 :溅射沉积的U薄膜由金属U和... 采用X射线光电子能谱仪 (XPS)和扫描透射电镜 (STEM )分析了在Al薄膜基材上磁控溅射沉积U薄膜的表面形貌、组织和结构 ;分别采用排代法、霍美尔 (T2 0S)粗糙度测量仪测量了薄膜的密度和表面粗糙度。结果表明 :溅射沉积的U薄膜由金属U和少量UO2 组成 ,薄膜结构属微晶和无定形态 ,密度是块材密度的 (75± 5 ) % ,表面粗糙度小于 0 3 μm。 展开更多
关键词 磁控溅射沉积 性能 U薄膜 组织 结构 密度 XPS STEM 铀薄膜
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蒸发、磁控溅射沉积真空对铀薄膜组成和结构的影响 被引量:5
5
作者 鲜晓斌 吕学超 +1 位作者 伏晓国 任大鹏 《材料导报》 EI CAS CSCD 2001年第7期62-63,55,共3页
用 X-光电子能谱仪(XPS)、扫描透射电镜(STEM)分析了蒸发、磁控溅射沉积真空对铀薄膜组成和结构的影响。结果表明,在沉积真空2Pa 下,蒸发、磁控溅射沉积的铀薄膜已完全氧化;在沉积真空2×10^(-1)Pa 下,磁控溅射沉积的铀薄膜由金属... 用 X-光电子能谱仪(XPS)、扫描透射电镜(STEM)分析了蒸发、磁控溅射沉积真空对铀薄膜组成和结构的影响。结果表明,在沉积真空2Pa 下,蒸发、磁控溅射沉积的铀薄膜已完全氧化;在沉积真空2×10^(-1)Pa 下,磁控溅射沉积的铀薄膜由金属铀和二氧化铀组成,薄膜呈微晶或无定形结构。 展开更多
关键词 铀薄膜 组成 结构 制备 真空蒸发沉积 磁控溅射沉积
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磁控溅射制备金属铀膜 被引量:7
6
作者 易泰民 邢丕峰 +5 位作者 唐永建 张林 郑凤成 谢军 李朝阳 杨蒙生 《原子能科学技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第7期869-872,共4页
研究了通过磁控溅射方法制备高纯金属铀膜的可行性。采用X射线衍射(XRD)、俄歇电子能谱(AES)、扫描电镜(SEM)、表面轮廓仪分析了沉积在单晶硅或金基材上铀薄膜的微观结构、成分、界面结构及厚度、表面形貌和表面粗糙度。分析结果表明:... 研究了通过磁控溅射方法制备高纯金属铀膜的可行性。采用X射线衍射(XRD)、俄歇电子能谱(AES)、扫描电镜(SEM)、表面轮廓仪分析了沉积在单晶硅或金基材上铀薄膜的微观结构、成分、界面结构及厚度、表面形貌和表面粗糙度。分析结果表明:磁控溅射制备的铀薄膜为纯金属态,氧含量和其它杂质含量均低于俄歇电子能谱仪的探测下限;溅射沉积的铀镀层与铝镀层之间存在界面作用,两者相互扩散并形成合金相,扩散层厚度约为10nm。铀薄膜厚度可达微米级,表面光洁,均方根(RMS)粗糙度优于15nm。 展开更多
关键词 金属铀膜 磁控溅射 表面粗糙度
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堆外核测量用裂变电离室铀膜均匀性研究 被引量:6
7
作者 孙光智 任才 +9 位作者 毛从吉 张宓 李树成 刘文臻 曾乐 邱顺利 程辉 冯红艺 徐玲 王益元 《核技术》 CAS CSCD 北大核心 2019年第9期81-87,共7页
堆外核测量用裂变电离室铀膜厚度的均匀性对其测量准确性影响甚大,因此有必要探索适当的电镀工艺及检验方法,本文在对堆外核测量用裂变电离室铀膜厚度及分布特性研究的基础上,建立了一套能够用于裂变电离室圆筒形电极内壁铀膜厚度分布... 堆外核测量用裂变电离室铀膜厚度的均匀性对其测量准确性影响甚大,因此有必要探索适当的电镀工艺及检验方法,本文在对堆外核测量用裂变电离室铀膜厚度及分布特性研究的基础上,建立了一套能够用于裂变电离室圆筒形电极内壁铀膜厚度分布测量的装置,并利用该装置测量了采用竖直静置和水平动态两种工艺电镀的电极内部的铀膜厚度分布情况,对比分析了两种电镀工艺下铀膜成膜机理及分布差异原因,理论分析与实验结果吻合,可用于指导裂变电离室的生产工艺控制。 展开更多
关键词 裂变电离室 电镀 铀膜厚度 半导体探测器
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Ar^+离子束对U薄膜表面粗糙度的影响 被引量:3
8
作者 张厚亮 吕学超 +3 位作者 任大鹏 李嵘 赖新春 赵天明 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2010年第5期889-891,共3页
采用Ar+离子束对U薄膜表面进行反应溅射,通过白光干涉仪和台阶仪的测量与分析,着重研究Ar+离子束溅射能量、入射角度对其表面粗糙度Ra的影响,并与Ar+离子束刻蚀试验进行比对。结果表明,以30°角入射,随溅射时间的增加,能量为0.5keV... 采用Ar+离子束对U薄膜表面进行反应溅射,通过白光干涉仪和台阶仪的测量与分析,着重研究Ar+离子束溅射能量、入射角度对其表面粗糙度Ra的影响,并与Ar+离子束刻蚀试验进行比对。结果表明,以30°角入射,随溅射时间的增加,能量为0.5keV的Ar+离子束较1.0keV对U薄膜表面粗糙度趋于减小,表面愈光滑,溅射深度仅限于纳米级,而与金属Mo的刻蚀效果相比与之相反。Ar+离子束溅射对材料表面具有超精细抛光的效果,辅之于离子束微米级刻蚀减薄,将有助于U薄膜表面精细加工。 展开更多
关键词 Ar+离子束 反应溅射 刻蚀 U薄膜 表面粗糙度
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金属铀膜的制备及应用现状 被引量:4
9
作者 易泰民 邢丕峰 +3 位作者 李朝阳 谢军 郑凤成 李国荣 《核技术》 CAS CSCD 北大核心 2009年第12期905-910,共6页
介绍了国内外目前主要采用的制备金属铀膜的技术及各制备技术的应用现状,包括机械研磨、轧制、高真空蒸发沉积,脉冲激光气相沉积和溅射沉积,重点介绍了各种制备铀膜技术的工艺条件和制备出铀膜的厚度、表面质量、成分、晶粒结构以及其... 介绍了国内外目前主要采用的制备金属铀膜的技术及各制备技术的应用现状,包括机械研磨、轧制、高真空蒸发沉积,脉冲激光气相沉积和溅射沉积,重点介绍了各种制备铀膜技术的工艺条件和制备出铀膜的厚度、表面质量、成分、晶粒结构以及其表征方法。以及薄膜沉积过程中生长速率和厚度监控的常用方法。 展开更多
关键词 金属铀膜 蒸镀 磁控溅射
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磁控溅射沉积铀薄膜组织结构研究 被引量:4
10
作者 鲜晓斌 汪小琳 +5 位作者 吕学超 柏朝茂 李科学 伏晓国 唐凯 任大鹏 《真空》 CAS 北大核心 2000年第3期22-24,共3页
采用扫描透射电镜 (STEM) ,研究了铝上磁控溅射沉积铀薄膜的形貌、组织、结构以及铀薄膜的生长模型。结果表明 :磁控溅射沉积铀薄膜是由微晶和非晶态两态组成 ,属层状 +岛状生长模型。
关键词 铀薄膜 非晶态 生长模型 磁控油射沉积
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沉积态铀薄膜表面氧化的X射线光电子能谱 被引量:2
11
作者 杨蒙生 易泰民 +7 位作者 郑凤成 唐永建 张林 杜凯 李宁 赵利平 柯博 邢丕峰 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2018年第2期224-233,共10页
含铀(U)薄膜在激光惯性约束聚变的实验研究中有重要的用途.研究其在不同气氛下的氧化性能可以为微靶制备、储存及物理实验提供关键的实验数据.通过超高真空磁控溅射技术制备了纯U薄膜及金-铀(Au-U)复合平面膜,将其在大气、高纯氩(Ar)气... 含铀(U)薄膜在激光惯性约束聚变的实验研究中有重要的用途.研究其在不同气氛下的氧化性能可以为微靶制备、储存及物理实验提供关键的实验数据.通过超高真空磁控溅射技术制备了纯U薄膜及金-铀(Au-U)复合平面膜,将其在大气、高纯氩(Ar)气及超高真空度环境中暴露一段时间后,利用X射线光电子能谱仪结合Ar^+束深度剖析技术考察U层中氧(O)元素分布及价态,分析氧化产物及机理.结果显示,初始状态的U薄膜中未检测到O的存在.Au-U复合薄膜中的微观缺陷减弱了Au防护层的屏蔽效果,使其在3周左右时间内严重氧化,产物为U表面致密的氧化膜及缺陷周围的点状腐蚀物,主要成分均为二氧化铀(UO_2).在高纯Ar气中纯U薄膜仅暴露6 h后表面即被严重氧化,生成厚度不均匀的UO_2.在超高真空度环境下保存12 h后,纯U薄膜表面也发生明显氧化,生成厚度不足1 nm的UO_2.Ar^+束对铀氧化物的刻蚀会因择优溅射效应而使UO_2被还原成非化学计量的UO_(2-x),但这种效应受O含量的影响. 展开更多
关键词 沉积态 铀薄膜 氧化 X射线光电子能谱
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铀真空热氧化膜的XPS研究 被引量:7
12
作者 周萍 汪小琳 +2 位作者 杨江荣 伏晓国 罗丽珠 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2008年第1期94-97,共4页
采用X射线光电子能谱(XPS)研究了表面氧化物的铀金属在低真空条件下加热后表面形成的银白色氧化膜的化学组成。结果表明,氧化膜的组成由表及里依次为:UO2+x,UO2和碳氧化铀UCxO1-x,其中立方密排结构的碳氧化铀相的存在是延缓铀在大气中... 采用X射线光电子能谱(XPS)研究了表面氧化物的铀金属在低真空条件下加热后表面形成的银白色氧化膜的化学组成。结果表明,氧化膜的组成由表及里依次为:UO2+x,UO2和碳氧化铀UCxO1-x,其中立方密排结构的碳氧化铀相的存在是延缓铀在大气中腐蚀的关键因素。 展开更多
关键词 XPS 氧化膜 真空热氧化
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超高真空磁控溅射法沉积铀薄膜及其表面状态 被引量:1
13
作者 陈秋云 赖新春 +3 位作者 黄火根 罗丽珠 蒋春丽 谭世勇 《材料保护》 CAS CSCD 北大核心 2009年第12期10-11,共2页
铀薄膜有助于原子参数的测试研究,目前对铀薄膜研究的报道较少。利用超高真空磁控溅射法在单晶Si片上制备了铀薄膜。通过扫描电子显微镜(SEM)对铀薄膜的表面形貌进行了观察,利用X射线光电子能谱仪(XPS)及X射线衍射仪(XRD)对铀薄膜的表... 铀薄膜有助于原子参数的测试研究,目前对铀薄膜研究的报道较少。利用超高真空磁控溅射法在单晶Si片上制备了铀薄膜。通过扫描电子显微镜(SEM)对铀薄膜的表面形貌进行了观察,利用X射线光电子能谱仪(XPS)及X射线衍射仪(XRD)对铀薄膜的表面结构及元素状态进行了分析和表征。结果表明:铀薄膜呈片状式生长,比较致密、连续,表面由铀及氧化铀组成,之下为纯铀。 展开更多
关键词 磁控溅射 铀薄膜 膜表面状态
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铀表面电弧离子镀Ti基薄膜耐蚀性能与机理研究 被引量:3
14
作者 刘天伟 江帆 +1 位作者 唐凯 魏强 《核技术》 CAS CSCD 北大核心 2009年第11期823-827,共5页
利用电弧离子镀技术在铀表面制备了TiN单层膜、梯度膜和Ti/TiN多层薄膜,并进行了Cl-腐蚀和极化实验。结果表明:性能最好的-800V脉冲偏压下,样品在50μg/gCl-溶液中,Ecorr升高了~714mV,Icorr降低了~2个数量级。单层膜、梯度膜为贯穿基... 利用电弧离子镀技术在铀表面制备了TiN单层膜、梯度膜和Ti/TiN多层薄膜,并进行了Cl-腐蚀和极化实验。结果表明:性能最好的-800V脉冲偏压下,样品在50μg/gCl-溶液中,Ecorr升高了~714mV,Icorr降低了~2个数量级。单层膜、梯度膜为贯穿基体的缺陷失效,抗腐蚀性能差;而多层膜提高抗腐蚀性能源于层状失效,腐蚀介质到达基体更加困难,抗腐蚀性能优良。 展开更多
关键词 Ti-N薄膜 耐蚀
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用AES研究铝薄膜与基体金属铀之间的界面反应 被引量:3
15
作者 周韦 刘柯钊 +3 位作者 杨江荣 肖红 蒋春丽 陆雷 《原子能科学技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第B07期151-155,共5页
在俄歇电子能谱(AES)仪超高真空分析室中利用氩离子溅射沉积方法将Al沉积在U基体上。对不同Al沉积量的铀表面实时采集AES和低能电子损失谱(EELS),以研究沉积Al原子与U表面原子间的相互作用以及Al膜的生长过程。将实验样品进行退火处理... 在俄歇电子能谱(AES)仪超高真空分析室中利用氩离子溅射沉积方法将Al沉积在U基体上。对不同Al沉积量的铀表面实时采集AES和低能电子损失谱(EELS),以研究沉积Al原子与U表面原子间的相互作用以及Al膜的生长过程。将实验样品进行退火处理后进行深度剖析。研究结果表明:Al沉积在U基体上是以岛状方式生长的;室温下,沉积Al原子与U表面原子间存在界面作用,两者在界面处相互扩散形成了合金相。退火促使界面扩散速率增大,界面结合力增强,并有可能形成化合物UAlx。 展开更多
关键词 铝薄膜 界面 俄歇电子能谱
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铜上溅射沉积铀薄膜AES研究 被引量:1
16
作者 蒋春丽 鲜晓斌 +1 位作者 肖红 陆雷 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第2期135-138,共4页
在俄歇电子能谱仪超高真空室内,采用离子束溅射沉积方法在多晶Cu上沉积了铀薄膜,采用俄歇电子能谱技术(AES)研究铀薄膜的生长方式,铀、铜的相互作用及退火引起U膜成分结构变化。沉积初期观察到铀与铜发生相互作用,随着铀薄膜厚度的增加,... 在俄歇电子能谱仪超高真空室内,采用离子束溅射沉积方法在多晶Cu上沉积了铀薄膜,采用俄歇电子能谱技术(AES)研究铀薄膜的生长方式,铀、铜的相互作用及退火引起U膜成分结构变化。沉积初期观察到铀与铜发生相互作用,随着铀薄膜厚度的增加,UOPV/CuLMM俄歇跃迁峰强度值变化说明铀薄膜为层状+岛状生长。退火促进了界面扩散,随着温度的升高,铀与铜发生了相互作用和扩散,温度继续升高,铀与碳形成了铀碳化物。 展开更多
关键词 铀薄膜 俄歇电子能谱
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UO_2薄膜制备和光学常数及厚度测定 被引量:2
17
作者 陈秋云 赖新春 +3 位作者 白彬 张桂凯 罗丽珠 蒋春丽 《原子能科学技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第9期1126-1130,共5页
利用磁控溅射法制备了UO2薄膜,通过扫描电子显微镜、X射线光电子能谱仪及X射线衍射仪,对薄膜进行了分析和表征。利用反射光谱法测得了薄膜在400~1200nm波长范围内的反射率。通过对反射图谱进行数据拟合,得出UO2薄膜在450~950nm波长范... 利用磁控溅射法制备了UO2薄膜,通过扫描电子显微镜、X射线光电子能谱仪及X射线衍射仪,对薄膜进行了分析和表征。利用反射光谱法测得了薄膜在400~1200nm波长范围内的反射率。通过对反射图谱进行数据拟合,得出UO2薄膜在450~950nm波长范围内的折射率为2.1~2.65,消光系数约0.51,厚度为637nm。 展开更多
关键词 UO2 薄膜 反射光谱 厚度 光学常数
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离子镀膜法制备铀薄膜的表征 被引量:1
18
作者 于震 孙亮 +2 位作者 张志忠 张生栋 张晓卫 《核化学与放射化学》 CAS CSCD 北大核心 2014年第5期277-281,共5页
研究了离子镀膜法制备铀薄膜的性质,可为改善薄膜性能、完善过程模型、优化制备参数和提高制备效率提供依据。本工作通过扫描电子显微镜和X射线衍射分别测量了离子镀膜法制备铀薄膜的表面形貌和物相结构,通过俄歇电子能谱和X射线光电子... 研究了离子镀膜法制备铀薄膜的性质,可为改善薄膜性能、完善过程模型、优化制备参数和提高制备效率提供依据。本工作通过扫描电子显微镜和X射线衍射分别测量了离子镀膜法制备铀薄膜的表面形貌和物相结构,通过俄歇电子能谱和X射线光电子能谱结合Ar+溅射深度剖析,对离子镀膜法制备铀薄膜的元素成分、化学形态及纵深方向的分布进行了分析。分析结果表明:制备的铀薄膜在基体上分布连续,主要物相为CaF2类型面心结构UO2,主要形态为UO2、金属U和FeUO4化合物。 展开更多
关键词 铀膜 离子镀膜 形貌 结构 价态 组成
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脉冲偏压对贫铀表面磁控溅射CrN_x薄膜结构与性能的影响 被引量:2
19
作者 朱生发 吴艳萍 +4 位作者 刘天伟 黄河 江帆 唐凯 魏强 《材料热处理学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第5期116-120,共5页
为改善金属铀基体的抗腐蚀性能,采用非平衡磁控溅射离子镀技术在不同偏压下于金属铀表面制备CrNx薄膜。采用SEM和AFM研究了薄膜形貌和表面粗糙度,采用X射线光电子能谱研究了薄膜表面的元素分布及化学价态。试验结果表明,采用磁控溅射在... 为改善金属铀基体的抗腐蚀性能,采用非平衡磁控溅射离子镀技术在不同偏压下于金属铀表面制备CrNx薄膜。采用SEM和AFM研究了薄膜形貌和表面粗糙度,采用X射线光电子能谱研究了薄膜表面的元素分布及化学价态。试验结果表明,采用磁控溅射在较低脉冲偏压下沉积的CrNx薄膜晶粒较细小,偏压越高,表面粗糙度越大。生成的薄膜为Cr+CrN+Cr2N混合结构,并含有少量的Cr2O3,随着偏压的升高,金属态Cr的含量减少,而铬的氮化物的含量增加,所制备薄膜的自然腐蚀电位升高,腐蚀电流密度减小。偏压为-800 V时,所制备的薄膜具有较好的抗腐蚀性能。 展开更多
关键词 贫铀 非平衡磁控溅射 CRNX薄膜
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铀表面非平衡磁控溅射离子镀Ti基薄膜的组织结构与腐蚀性能 被引量:5
20
作者 朱生发 刘天伟 +4 位作者 吴艳萍 江帆 黄河 唐凯 魏强 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第3期240-243,共4页
金属铀的化学性质十分活泼,极易发生氧化腐蚀。本文采用磁过滤多弧离子镀在金属铀表面制备Ti过渡层,然后采用非平衡磁控溅射离子镀技术制备了Ti、TiN单层膜及Ti/TiN多层薄膜,以期改善基体的抗腐蚀性能。采用X射线衍射、极化曲线、盐雾... 金属铀的化学性质十分活泼,极易发生氧化腐蚀。本文采用磁过滤多弧离子镀在金属铀表面制备Ti过渡层,然后采用非平衡磁控溅射离子镀技术制备了Ti、TiN单层膜及Ti/TiN多层薄膜,以期改善基体的抗腐蚀性能。采用X射线衍射、极化曲线、盐雾腐蚀试验对镀层的结构、表面形貌、抗腐蚀性能进行了分析。结果表明,采用磁控溅射在金属铀表面制备一层Ti/TiN多层膜后,多层膜界面较清晰,大量的界面可终止柱状晶的生长,细化晶粒,提高镀层的致密性,有效地改善了基体的抗腐蚀性能。 展开更多
关键词 贫铀 非平衡磁控溅射多层膜腐蚀性能
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