基于现代信息技术,对高校课程建设的思考

高校课程建设要与现代信息技术进行整合,发挥信息技术在教育教学中的作用,应以现代教育技术为指导,确立观念先导、整体规划、数字化教学资源建设、教与学优化等策略.

薄膜厚度对ZnO∶Zr透明导电薄膜光电性能的影响

利用射频磁控溅射法在室温水冷玻璃衬底上制备出了可见光透过率高、电阻率低的ZnO∶Zr透明导电薄膜。讨论了厚度对ZnO∶Zr透明导电薄膜光学、电学性能的影响。当薄膜厚度为213nm时,薄膜电阻率达到最小值1.81×10-3Ω.cm。所制备的薄膜样品都具有高透光率,其可见光区平均透过率超过了93.0%。当薄膜厚度从125nm增加到350nm时,薄膜的光学带隙从3.58eV减小到3.50eV。

ZnO基紫外光电探测器的研究进展

ZnO基紫外光探测器被认为是目前研究紫外探测器的重点之一。简要介绍了ZnO基紫外光探测器采用的基本结构:包括光电导型、肖特基势垒型以及p-n结型;比较了不同结构的ZnO紫外光探测器所具有的优缺点,对光电导型、肖特基势垒型以及p-n结型紫外光探测器近几年的发展分别进行了详细评述。

基于分数阶傅立叶变换的伪码体制引信线性调频干扰抑制技术

分析线性调频(LFM)干扰对伪码体制引信相关检测性能的影响,结果表明当LFM干扰超出伪码体制引信自身抗干扰容限时,相关输出严重恶化,因此必须在相关检测前对LFM干扰进行抑制。通过对LFM干扰信号分数阶傅立叶变换计算结果的分析,提出在分数阶域进行LFM干扰抑制的方法;为避免固定门限方法在强干扰情况下造成有用信号的损失,提出了自适应门限的干扰抑制方法。通过仿真分析发现该方法能够有效消除LFM干扰,相关输出曲线明显改善,信干比得到显著提高。

基于免疫的防火墙系统安全技术研究

针对各种网络攻击技术,特别是对防火墙的攻击技术进行了系统的研究,在分析典型的网络攻击技术的基础上,提出了一个防火墙安全技术模型:基于免疫的防火墙系统安全模型和基于协议的防火墙安全策略模型,并详细介绍了采用的安全策略。

大学学术权力的本源及制度作为

大学学术权力往往是作为高教管理问题而引起重视的,其实,它也是法律应当关涉的领域。我们对大学学术权力现象的分析视角就是从权力本源肇始的,通过大学学术权力结构、冲突及特征等权力本源的探究,在与国外比较研究的基础上,从制度建设(包括法理、法规、校内外制度等)的角度对我国大学学术权力的有效行使进行了探析,有一定的建构意义。

视觉文化研究对教育技术学科发展的启示

视觉文化已经进入教育技术领域的研究视野。视觉文化研究的传统由来已久,并与多个学科领域有着密切联系,视觉文化研究与信息技术的结合将为学生视觉文化素养的培养开辟新途径。

基于相关光声技术的纳米SnO_2热扩散率的测量

提出了利用相关光声技术测量材料热扩散率的方法,利用该方法对不同退火温度和成型压力下的纳米SnO2的热扩散率进行了测量。实验结果表明,纳米SnO2的热扩散率随退火温度升高和成型压力的增大而减小。

信息素质浅议

介绍了信息素质的概念,阐述了对信息素质教育的基本理解,探讨了实施信息素质教育的战略意义。

ZnO基紫外探测器及关键技术研究

对ZnO基紫外光探测器的原理、结构、特点进行了论述,并对探测器制备过程中的关键技术进行了探讨。

论视觉文化时代的教育技术学科建设

视觉文化与教育技术的融合正在悄然发生。借助于跨学科研究的方法，对其进行细致的学理耙梳和理论推演，将开辟视觉文化与教育技术学科建设相结合的新思路。

射频磁控溅射法低温制备ZnO∶Zr透明导电薄膜及特性研究

利用射频磁控溅射法在室温水冷玻璃衬底上制备出了可见光透过率高、电阻率低的掺锆氧化锌(ZnO∶Zr)透明导电薄膜。讨论了薄膜厚度对ZnO∶Zr薄膜结构、形貌、光电性能的影响。实验结果表明,厚度对ZnO∶Zr薄膜的形貌和电学性能有很大影响。SEM和XRD研究结果表明,ZnO∶Zr薄膜为六角纤锌矿结构的多晶薄膜,具有垂直于衬底方向的C轴择优取向。当厚度为300nm时,薄膜的电阻率具有最小值1.77×10-3Ω.cm。所制备薄膜具有良好的附着性能,其可见光区平均透过率超过92%。

高效三倍频全固态Nd∶YAG/LBO紫外激光器

报道了一种侧面泵浦Nd∶YAG、声光调Q、LBO晶体腔外倍频和三倍频的355nm准连续波紫外激光器.采用结构简单、紧凑的平-凹腔设计,在152W的泵浦功率下,重复频率5kHz时,获得平均功率1.62W的355nmTEM00模激光输出,三倍频的转换效率为25%;重复频率1kHz时,获得平均功率518mW、单脉冲能量518μJ、脉宽17ns、峰值功率高达30kW的紫外激光输出.

利用射频磁控溅射法在柔性衬底上制备ZnO:Zr透明导电薄膜(英文)

利用射频磁控溅射法首次在室温水冷柔性衬底PET上制备出了可见光透过率高、电阻率低的掺锆氧化锌(ZnO:Zr)透明导电薄膜。X射线衍射和扫描电子显微镜表明,ZnO:Zr薄膜为六角纤锌矿结构的多晶薄膜,且具有平行于衬底方向的择优取向。实验获得ZnO:Zr薄膜的最小电阻率为1 .55×10-3Ω.cm。实验制备的ZnO:Zr薄膜具有良好的附着性能,其可见光区平均透过率超过90 %。

求解车间调度问题的一种新遗传退火混合策略

综合了遗传算法和模拟退火算法的优点,提出了一种新的遗传退火混合优化策略。该算法引入模拟退火算法作为遗传算法种群的变异算子,增强和补充了遗传算法的进化能力,同时将机器学习原理引入混合算法中,增加了种群的平均适值,有效地避免了最优解的丢失,加快了进化速度,使系统能够在很短的时间内得到最优解。针对车间调度的典型问题进行了仿真,结果证明了新算法的有效性。

一种基于免疫原理的新优化遗传算法

将静态繁殖理论和机器学习原理引入到免疫遗传算法中,利用自适应疫苗,增强个体免疫力,以增加种群的平均适值,从而有效地避免了最优解的丢失,缩小了搜索空间,加快了进化速度,使系统能够在很短的时间内得到最优解。同时,针对典型车间调度问题,分别对改进算法和其他优化算法的计算结果进行了比较,表明改进算法更有效。

射频磁控溅射法制备掺锆氧化锌透明导电薄膜

利用射频磁控溅射法在室温下制备出了掺锆氧化锌(ZnO∶Zr)透明导电薄膜。研究了溅射压强对ZnO∶Zr薄膜表面形貌、结构、光学和电学性能的影响。结果表明:ZnO∶Zr薄膜为六角纤锌矿结构的多晶薄膜,且具有c轴择优取向,溅射压强对薄膜电阻率有显著影响,压强为1.5Pa时,电阻率具有最小值1.77×10–3Ω·cm。所制备的ZnO∶Zr薄膜具有良好的附着性能,在可见光区平均透过率超过93%。

柔性透明导电薄膜ZAO

随着电子器件向小型化和轻便化方向发展,柔性衬底的透明导电薄膜有望成为硬质衬底透明导电薄膜的更新换代产品,因此其研究备受关注。柔性透明导电薄膜ZAO具有优异的光电性能且资源丰富、成本低、对环境无污染,成为当前的研究热点。总结了近年来对柔性衬底材料处理的方法,介绍了柔性透明导电薄膜ZAO的结构和光电特性。评述了柔性ZAO薄膜的研究现状,并对其近期研究和应用工作做了展望。

掺锆氧化锌透明导电薄膜的制备及特性研究

利用射频磁控溅射法在室温水冷玻璃衬底上成功地制备出了掺锆氧化锌(ZnO∶Zr)透明导电薄膜。研究了溅射功率对ZnO∶Zr薄膜结构、形貌和光电性能的影响。研究结果表明,溅射功率对ZnO∶Zr薄膜的结构和电阻率有显著影响。X射线衍射(XRD)表明,ZnO∶Zr薄膜为六角纤锌矿结构的多晶薄膜,且具有C轴择优取向。在溅射功率为150 W时,实验获得的ZnO∶Zr薄膜电阻率具有最小值3.8×10-3Ω.cm。实验制备的ZnO∶Zr薄膜具有良好的附着性能,可见光区平均透过率超过92%。ZnO∶Zr薄膜可以用作薄膜太阳能电池和液晶显示器的透明电极。

p-Si TFT栅绝缘层用SiNx薄膜界面特性的研究

以NH3和SiH4为反应源气体,在低温下采用射频等离子体增强化学气相沉积(RF-PECVD)法在多晶硅(p-Si)衬底上沉积了SiNx薄膜。系统地分析讨论了沉积温度、射频功率、反应源气体流量比对SiNx薄膜界面特性的影响。分析表明,沉积温度和射频功率主要是通过影响SiNx薄膜中的Si/N比和H含量影响薄膜的界面特性,而NH3/SiH4流量比则主要通过影响薄膜中的H含量影响薄膜界面特性。实验制备的SiNx薄膜层中的固定电荷密度、可动离子密度、SiNx与p-Si之间的界面态密度分别达到了1.7×1012/cm2、1.4×1012/cm2、3.5×1012/(eV.cm2),其界面特性达到了制备高质量p-SiTFT栅绝缘层的性能要求。