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真空紫外到深紫外波段基底材料的光学特性 被引量:14
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作者 薛春荣 易葵 +2 位作者 魏朝阳 邵建达 范正修 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第2期287-290,共4页
研究了真空紫外到深紫外波段常用的基底材料,给出了常用基底材料的光学特性和在真空紫外波段的截止波长,测量了这些材料在120~500nm的透过率,给出了通过透过率计算弱吸收基底光学常数的计算方法,并用该方法得到了熔石英、氟化镁晶... 研究了真空紫外到深紫外波段常用的基底材料,给出了常用基底材料的光学特性和在真空紫外波段的截止波长,测量了这些材料在120~500nm的透过率,给出了通过透过率计算弱吸收基底光学常数的计算方法,并用该方法得到了熔石英、氟化镁晶体、氟化钙晶体、氟化锂晶体在120~500nm的折射率和消光系数,对这些常用基底的使用范围和特点进行了一定的比较和分析,并将所得基底的光学常数与公开发表的文献进行了比较,证明了所得结果的可靠性。 展开更多
关键词 深紫外 真空紫外 弱吸收基底 透过率 消光系数
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几种氟化物薄膜材料的光学特性 被引量:7
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作者 薛春荣 易葵 +1 位作者 邵建达 范正修 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第7期1507-1512,共6页
为了进一步明确氟化薄膜材料在紫外(UV)-真空紫外(VUV)波段的光学常数,研究了真空紫外领域常用的基底材料和6种大带隙的氟化物薄膜材料的光学特性。分别在熔石英(JGS1)基底和氟化镁单晶基底上用热舟蒸发法以不同的沉积速率和不同的基底... 为了进一步明确氟化薄膜材料在紫外(UV)-真空紫外(VUV)波段的光学常数,研究了真空紫外领域常用的基底材料和6种大带隙的氟化物薄膜材料的光学特性。分别在熔石英(JGS1)基底和氟化镁单晶基底上用热舟蒸发法以不同的沉积速率和不同的基底温度镀制了3种高折射率材料薄膜LaF3、NdF3、GdF3和3种低折射率材料薄膜MgF2、AlF3、Na3AlF6;在国家同步辐射真空紫外实验站测定了它们120~300nm的透射光谱曲线,用商用lambda900光谱仪测量了它们190~500nm的透射光谱曲线,两者相结合标定了透射率的准确值。用包络法和模拟退火相结合研究了它们在120~500nm的折射率和消光系数,给出了6种氟化物材料的光谱色散曲线。结果显示,3种高折射率薄膜的折射率在157nm处约为1.77~1.89,而3种低折射率薄膜的折射率在157nm处约为1.44~1.48;研究表明,选用折射率相差较大的高、低折射率氟化物薄膜,可在膜系设计中组成高低折射率材料对,用于设计各种实用的薄膜器件。 展开更多
关键词 真空紫外 同步辐射 氟化物材料 光学特性
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碳纤维基PtSn催化剂直接乙醇燃料电池制备及性能研究 被引量:12
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作者 王旭红 袁善美 +1 位作者 朱昱 倪红军 《燃料化学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第12期1454-1458,共5页
采用自制的碳纤维基PtSn催化剂薄膜作为阳极催化剂,商用Pt/C作为阴极催化剂,Nafion 115膜作为质子交换膜,通过热压制成膜电极,组装平板型直接乙醇燃料单电池,搭建测试系统并进行性能的测试,研究了温度、乙醇浓度、溶液流量、进气流量等... 采用自制的碳纤维基PtSn催化剂薄膜作为阳极催化剂,商用Pt/C作为阴极催化剂,Nafion 115膜作为质子交换膜,通过热压制成膜电极,组装平板型直接乙醇燃料单电池,搭建测试系统并进行性能的测试,研究了温度、乙醇浓度、溶液流量、进气流量等参数对DEFC的影响。结果表明,当乙醇溶液浓度为1.0 mol/L、溶液进样流量为1.0 mL/min、溶液温度为80℃、氧气进样流量为100 mL/min时结果较优,单电池的最高功率密度达18.2 mW/cm2。 展开更多
关键词 直接乙醇燃料电池(DEFC) 碳纤维 PtSn催化剂 膜电极
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Pt-SnO_2/C电催化剂异型直接乙醇燃料电池的性能 被引量:2
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作者 倪红军 吕灿灿 +2 位作者 王旭红 江学范 汤东 《江苏大学学报(自然科学版)》 EI CAS 北大核心 2012年第4期379-384,共6页
以掺杂石墨粉的中间相碳微球(MCMB/G)烧结管为阴极支撑体,采用浸涂工艺分别制备了扩散层和催化层,通过在其外表面包裹Nafion 117膜制得管状异型阴极并组装成异型直接乙醇燃料电池,采用水热乙二醇制备了适用于直接乙醇燃料电池的阳极电... 以掺杂石墨粉的中间相碳微球(MCMB/G)烧结管为阴极支撑体,采用浸涂工艺分别制备了扩散层和催化层,通过在其外表面包裹Nafion 117膜制得管状异型阴极并组装成异型直接乙醇燃料电池,采用水热乙二醇制备了适用于直接乙醇燃料电池的阳极电催化剂,并通过XRD,TEM和EDS等技术对其进行了表征.采用线性循环伏安曲线、交流阻抗等测试手段,对Pt-SnO2/C电催化剂异型直接乙醇燃料电池进行了性能测试,并考察了温度、氧气流量等对电池极化性能的影响.结果表明:异型电池阻抗大于传统的平板电池,但其活化后电池阻抗明显下降;较高的氧气流量和较高的工作温度有利于提高电池性能;60℃条件下,Pt-SnO2/C电催化剂异型直接乙醇燃料电池功率密度达到8.5 mW.cm-2. 展开更多
关键词 异型直接乙醇燃料电池 Pt-SnO2/C电催化剂 管状阴极 电池性能 功率密度
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直接乙醇燃料电池阳极电催化剂的研究进展 被引量:3
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作者 吕灿灿 倪红军 +3 位作者 李志扬 黄明宇 江学范 汤东 《化工新型材料》 CAS CSCD 北大核心 2010年第3期13-15,64,共4页
介绍了直接乙醇燃料电池(DEFC)具有无毒,来源丰富的优点,分析了DEFC在Pt上的电催化氧化机理,讨论了DEFC的阳极电催化剂的重要作用;探讨了具有高电催化活性的新型Pt基催化剂、新型非贵金属催化剂、新型催化剂载体、新型的催化剂制备方法... 介绍了直接乙醇燃料电池(DEFC)具有无毒,来源丰富的优点,分析了DEFC在Pt上的电催化氧化机理,讨论了DEFC的阳极电催化剂的重要作用;探讨了具有高电催化活性的新型Pt基催化剂、新型非贵金属催化剂、新型催化剂载体、新型的催化剂制备方法等的研究现状;指明了阳极催化剂将是今后DEFC研究和发展的重要方向之一。 展开更多
关键词 直接乙醇燃料电池(DEFC) 电催化机理 阳极电催化剂
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193nm氟化物增透膜的特性 被引量:2
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作者 薛春荣 易葵 邵建达 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第3期675-680,共6页
为了研制低损耗、高性能的193 nm氟化物增透膜,研究了基底和不同氟化物材料组合对氟化物增透膜的影响。在熔石英基底上,将挡板法和预镀层技术相结合,采用热舟蒸发方式制备了不同氟化物材料组合增透膜,对增透膜的剩余反射率和光学损耗等... 为了研制低损耗、高性能的193 nm氟化物增透膜,研究了基底和不同氟化物材料组合对氟化物增透膜的影响。在熔石英基底上,将挡板法和预镀层技术相结合,采用热舟蒸发方式制备了不同氟化物材料组合增透膜,对增透膜的剩余反射率和光学损耗等光学特性,以及表面粗糙度和应力等特性进行了测量和比较。在分析比较和优化的基础上,设计制备的3层1/4波长规整膜系AlF3/LaF3增透膜在193 nm的剩余反射率低于0.14%,单面镀膜增透膜的透射率为93.85%,增透膜表面均方根粗糙度为0.979 nm,总的损耗约为6%。要得到高性能的193 nm增透膜,应选用超级抛光基底。 展开更多
关键词 氟化物薄膜 193nm增透膜 预镀层 基底 剩余反射率
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157nm氟化物光学薄膜制备 被引量:1
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作者 薛春荣 易葵 邵建达 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第11期1961-1966,共6页
为了研制低损耗、高性能的157nm薄膜,研究了常用的六种宽带隙氟化物薄膜材料.制备和研究了六种氟化物单层膜,并以不同高低折射率材料对,设计制备了157nm高反膜和增透膜;讨论和比较了不同氟化物材料对所组成的高反膜和增透膜的反射率、... 为了研制低损耗、高性能的157nm薄膜,研究了常用的六种宽带隙氟化物薄膜材料.制备和研究了六种氟化物单层膜,并以不同高低折射率材料对,设计制备了157nm高反膜和增透膜;讨论和比较了不同氟化物材料对所组成的高反膜和增透膜的反射率、透射率、光学损耗等特性.结果表明,采用NdF3/AlF3材料对设计制备的157nm高反膜的透过率为1.7%,反射率接近93%,散射损耗为2.46%,已经与吸收损耗相当;以AlF3/LaF3材料对设计制备的157nm增透膜的剩余反射率低于0.17%. 展开更多
关键词 氟化物材料 157nm 高反膜 增透膜
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Al_2TiO_5-Al_2O_3复相陶瓷的研究
8
作者 陈建华 陆洪彬 +2 位作者 冯春霞 李文丹 单月圆 《常熟理工学院学报》 2008年第2期63-67,共5页
利用一次烧成和二次烧成两种方法制备了Al2TiO5-A12O3复相陶瓷,研究了Al2TiO5-A12O3复相陶瓷的烧结工艺和原料组成对其性能的影响.研究结果表明:Al2TiO5-A12O3复相陶瓷的组成和烧成工艺对其性能具有重要影响.利用一次烧成制得的Al2TiO5-... 利用一次烧成和二次烧成两种方法制备了Al2TiO5-A12O3复相陶瓷,研究了Al2TiO5-A12O3复相陶瓷的烧结工艺和原料组成对其性能的影响.研究结果表明:Al2TiO5-A12O3复相陶瓷的组成和烧成工艺对其性能具有重要影响.利用一次烧成制得的Al2TiO5-A12O3复相陶瓷的综合性能优于二次烧成.一次烧成组成为80wt%氧化铝和20wt%钛酸铝的复相陶瓷,其吸水率仅有0.11%,显气孔率为0.32%,体积密度为3.00g.cm-3,弯曲强度达152.88MPa,热膨胀系数为7.5×10-6/℃. 展开更多
关键词 氧化铝 钛酸铝 热膨胀系数 弯曲强度
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如何让大学课堂不再受“冷落”
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作者 薛春荣 侯海虹 《中国市场》 北大核心 2007年第39期136-137,共2页
面对越来越受冷落的大学课堂,分析指出教师授课的质量是造成大学生冷落课堂的最直接的原因。要提高教师授课的质量,必须解决教学投入不足的问题。课堂教学投入不足主要与学校对教师工作的评价指标有关。教师是经济人,在时间和精力成本... 面对越来越受冷落的大学课堂,分析指出教师授课的质量是造成大学生冷落课堂的最直接的原因。要提高教师授课的质量,必须解决教学投入不足的问题。课堂教学投入不足主要与学校对教师工作的评价指标有关。教师是经济人,在时间和精力成本一定的条件下,要实现自身利益最大化,就必须按照教育行政部门和学校的评价指标来安排投入组合,因此造成大学生冷落课堂最根本和最主要的原因则是学校制度及其政策导向。 展开更多
关键词 大学课堂 教学质量 学校制度
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应力作用下的钛酸钡/钛酸锶超晶格的热力学性质
10
作者 陶永梅 《常熟理工学院学报》 2007年第2期27-30,共4页
应用朗道——德文希尔理论研究了生长在(001)SrTiO3上的BaTiO3/SrTiO3超晶格的热力学性质。计算结果表明:通过改变生长在(001)SrTiO3上的BT/ST双层超晶格的层比例,可以得到不同的热电响应和电滞回线。
关键词 应力 BT/ST超晶格 热力学性质
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深紫外/紫外薄膜材料的光学常数研究 被引量:16
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作者 薛春荣 易葵 +2 位作者 齐红基 范正修 邵建达 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第8期2135-2139,共5页
为了进一步明确氟化薄膜材料在深紫外-紫外波段(DUV-UV)的光学常数,研究了深紫外-紫外波段常用的6种大带隙的氟化物薄膜材料,分别在熔石英(JGS1)基底和氟化镁单晶基底上用热舟蒸发镀制了3种高折射率材料薄膜LaF_3,NdF_3,GdF_3和3种低折... 为了进一步明确氟化薄膜材料在深紫外-紫外波段(DUV-UV)的光学常数,研究了深紫外-紫外波段常用的6种大带隙的氟化物薄膜材料,分别在熔石英(JGS1)基底和氟化镁单晶基底上用热舟蒸发镀制了3种高折射率材料薄膜LaF_3,NdF_3,GdF_3和3种低折射率材料薄膜MgF_2,AlF_3,Na_3AlF_6;用商用Lambda900光谱仪测量了它们在190~500 nm范围的透射率光谱曲线;用包络法和迭代算法相结合研究了它们的折射率和消光系数,由柯西色散公式和指数色散公式对得到的离散折射率和消光系数的值用最小二乘法进行曲线拟合,得到了6种薄膜材料在所测波段内的折射率和消光系数的色散公式和色散曲线。所得结果与文献报道的MgF_2和LaF_3的结果相一致,证明了结果的可靠性。 展开更多
关键词 薄膜光学 氟化物薄膜 光学常数 包络法 迭代算法
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氟化物材料在深紫外波段的光学常数 被引量:8
12
作者 薛春荣 易葵 +2 位作者 齐红基 邵建达 范正修 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2009年第7期5035-5040,共6页
研究了紫外领域常用的6种大带隙的氟化物薄膜材料,在氟化镁单晶基底上用热舟蒸发镀制了三种高折射率材料薄膜LaF3,NdF3,GdF3和三种低折射率材料薄膜MgF2,AlF3,Na3AlF6;用商用lambda900光谱仪测量了它们在190—500 nm范围的透射率光谱曲... 研究了紫外领域常用的6种大带隙的氟化物薄膜材料,在氟化镁单晶基底上用热舟蒸发镀制了三种高折射率材料薄膜LaF3,NdF3,GdF3和三种低折射率材料薄膜MgF2,AlF3,Na3AlF6;用商用lambda900光谱仪测量了它们在190—500 nm范围的透射率光谱曲线;用包络法研究了它们的折射率和消光系数,研究了影响透射率和光学常数的主要因素,给出了6种氟化物材料的光学常数公式和光谱色散曲线,为紫外技术与应用研究提供了参考. 展开更多
关键词 光学常数 包络法 氟化物材料 深紫外
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193nm氟化物高反膜研究 被引量:4
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作者 薛春荣 易葵 +1 位作者 邵建达 范正修 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第8期2068-2072,共5页
为了研制低损耗、高性能的193 nm氟化物高反膜,对193 nm氟化物高反膜的设计、制备与性能分析进行了深入探讨。用挡板法和预镀层技术相结合,实现了在现有镀膜机上对193 nm薄膜的膜厚控制。在熔石英基底(JGS1)上,用热舟蒸发制备了不同氟... 为了研制低损耗、高性能的193 nm氟化物高反膜,对193 nm氟化物高反膜的设计、制备与性能分析进行了深入探讨。用挡板法和预镀层技术相结合,实现了在现有镀膜机上对193 nm薄膜的膜厚控制。在熔石英基底(JGS1)上,用热舟蒸发制备了不同氟化物材料组合高反膜,对不同氟化物材料组合高反膜的反射率、透射率和光学损耗等光学特性,横截面形貌和表面粗糙度等微结构以及应力等特性进行了讨论和比较。在对不同材料组合高反膜性能分析比较的基础上,对应用于高反膜膜材料组合进行了优化选择,以NdF3/AlF3为材料对,设计制备了193 nm高反膜。193 nm氟化物高反膜的反射率达到96%。 展开更多
关键词 薄膜 氟化物薄膜 193nm 高反膜 预镀层技术
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