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SiC晶须在高压静电场作用下单向排列的研究 被引量:3
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作者 姚奎毅 郭英奎 +1 位作者 潘显荣 肖锐来 《机械工程材料》 CAS CSCD 北大核心 1997年第3期19-20,共2页
研究了在高压静电场作用下,经过预处理的SiC晶须在含有适量非离子表面活性剂的氟里昂(R-113)中单向排列的工艺,探讨了SiC晶须单向排列可能的机理。结果表明,在高压静电场的作用下,SiC晶须首先极化并且在电场力的作用下朝着静电... 研究了在高压静电场作用下,经过预处理的SiC晶须在含有适量非离子表面活性剂的氟里昂(R-113)中单向排列的工艺,探讨了SiC晶须单向排列可能的机理。结果表明,在高压静电场的作用下,SiC晶须首先极化并且在电场力的作用下朝着静电场方向定向排列。 展开更多
关键词 金属基 复合材料 组织结构 碳化硅晶须
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