等离子体显示器自适应低功耗寻址方法

摘要为降低等离子体显示器(PDP)的寻址功耗,在分析了AERCs,no-AERCs,以及IPS等寻址方法的原理和特点的基础上,提出了一种自适应低功耗寻址方法及其实现电路——自适应寻址能量恢复电路(AAERCs),同时也给出了寻址数据变化率的检测方法。AAERCs首先检测PDP各子场寻址数据的变化率,然后根据不同寻址方法中寻址功耗和寻址数据变化率的关系,计算出相应的寻址功耗,根据计算结果,自适应改变PDP的扫描时序和对应的寻址数据,使AAERCs始终工作在寻址功耗最低的模式下。50英寸WXGA双扫PDP的实验结果表明:对于任何图像,AAERCs的寻址功耗均低于现有的任何一种寻址方法,典型图案下,寻址功耗最大可节省81W。

基于SG3525的液晶显示器平面背光源驱动电路设计

介质阻挡放电平面荧光灯（Flat Fluorescent Lamps，FFL）是一种新型的平面光源，在液晶显示器背光源方面具有很好的应用前景。研制了一种基于PWM控制芯片SG3525的FFL驱动电路，采用一种反激逆变结构，以直流80～100V作为输入电压，产生出脉宽为3～4μs，幅值为1500-2000V的高压高频尖峰脉冲信号。本方案具有电路设计简单、灵活、效率高及成本低的优点。对FFL进行点屏试验的结果表明，设计出的电路可使FFL的平均亮度达到6000cd／m^2，亮度均匀性达到80％以上。

介质阻挡放电平面光源的高频高压电源电路研究

研制了一种可用于驱动介质阻挡放电平面光源的电源电路,并对其工作过程进行了理论分析,同时对介质阻挡放电平面光源的亮度及发光效率的影响因素进行了实验研究。结果表明,电路的开关频率、输入电压和输出波形占空比对光源亮度和发光效率均有很大影响。

利用导电性测试检测PLED器件功能层的稳定性

在25℃、相对湿度50%的条件下,分别在玻璃上旋涂了PEDOT∶PSS,MEH-PPV薄膜,蒸镀了Al薄膜,研究了它们在空气中的导电性能,试验结果表明,PEDOT∶PSS需100s,吸水过程就基本完成,电阻变化率约为66.5%;MEH-PPV薄膜需13.6min吸收水、氧的过程基本完成,电阻变化率为245.5%;Al薄膜仅需50s,和空气中的水、氧的反应已基本完成,其电阻变化率为24.9%,在较短时间内,它们的电阻就发生了迅速的变化。其原因为它们吸收了空气中的水蒸气或者与空气中的水、氧气等发生反应,使其电性能发生了变化。由此得出结论,在PLED器件的功能层制备过程中或者在器件的封装过程中,防止空气中的水、氧气对器件的侵蚀是非常重要的。

基于单存储器架构的PDP图像数据处理方法

为降低PDP的成本,提高PDP图像数据处理的效率,在分析了双存储器架构图像数据处理方法的基础上,提出了一种单存储器架构的图像数据处理的方法。该方法通过压缩行场同步时间,提高数据处理速度,通过随机读写仲裁,实现一行时间内图像数据的随机读写。32英寸PDP的验证结果表明,单存储器架构使存储空间利用率提高了13.2%,时间利用效率提高了22%,并使存储器数量减少一半。

LED背光源亮度均匀性改善方法

针对液晶显示器中直下式LED(light-emitting diode)背光源边缘亮度较低的问题,本文提出了一种LED非均匀排列提高背光源亮度均匀性的方法。在等间距排列的基础上,通过测量单颗LED的亮度分布函数,计算出水平和垂直方向上的LED不等间距排列距离,并对该距离进行优化调整。非均匀排列的LED背光源亮度均匀性仿真计算结果表明,背光源的全屏亮度均匀性可达到90%以上。

基于PDP的液晶场序驱动物理仿真研究

在分析等离子体显示器(Plasma display panel,PDP)和LCD场序驱动原理的基础上,提出了一种场序液晶(Fieldsequential color LCD,FSC-LCD)色彩分离(Color breakup,CBU)现象的物理仿真方法,并建立了基于PDP的场序驱动物理仿真平台。实验验证表明该实验平台能够实现对FSC-LCD的CBU仿真。在此基础上,利用彩色分离角度方法定量评价了图像运动速度、图像亮度、观察距离、子场频率和图像尺寸对CBU的影响,实验结果表明图像运动速度对CBU的影响最为严重。

LED背光源热设计研究

在分析LED背光源热设计已有解决方案的基础上,指出已有的解决方案虽然从客观上缓解了LED背光源热设计问题,但却增加了LED背光源的生产成本。同时本文还指出最根本解决LED热设计的方案还需要从LED本身的光效上来考虑,也就是说,如何提高LED本身的发光效率依然是LED背光源热设计的关键。

AMOLED大尺寸化面临的技术挑战

文章综述了目前大尺寸AMOLED面临的技术挑战,尤其是像素制作工艺。并详细介绍了各彩色化技术包括FMM蒸镀、激光转印及溶液涂布的优劣势,针对目前各工艺存在的主要问题,介绍了国外有代表性的公司的解决方案。

FED下基板制作工艺及介质的耐压特性研究

在制作场发射显示器(FED)下基板的工艺过程中,设计了两种方案来制作下基板的阴栅极,用扫描电镜观察所得样品的横截面,并计算出各结构尺寸,分析阴栅极易形成短路的原因。优选出其中一种方案作为介质耐压试验的工艺方法,测试介质在中性溶液中浸泡不同时间后的耐压曲线,并分析击穿电压降低的原因。

基于图像信息的彩色PDP动态子场编码优化方法

为改善"累积"发光驱动方法显示静态图像时的灰度级轮廓,提出了一种基于有效灰度级均匀分割采样的动态子场编码(DSC)算法。首先对输入图像中的孤立灰度区间进行灰度采样,然后对剩余灰度级均匀分割,选择各灰度区间概率密度较大的灰度级作为采样灰度级,相邻采样灰度级之差即为子场编码权值,从而使采样灰度级均匀分布在输入图像的有效灰度区间,并使采样灰度级和子场编码权值随图像变化。仿真和实验结果表明,该算法不仅能真实再现大面积的背景,而且使图像细节信息尽可能保留,显著减小了静态图像的轮廓。