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基底温度对射频磁控溅射PI基ITO薄膜的影响
被引量:
1
1
作者
刘祖一
徐文正
+5 位作者
杨旭
汪邓兵
丁正钰
张海峰
许召辉
凤权
《微纳电子技术》
CAS
北大核心
2023年第6期965-970,共6页
采用射频(RF)磁控溅射法在柔性耐高温聚酰亚胺(PI)薄膜上沉积了氧化铟锡(ITO)薄膜,研究了基底温度对ITO薄膜性能的影响。运用四探针测试仪研究了基底温度对ITO薄膜方块电阻及电阻率的影响,并用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)研...
采用射频(RF)磁控溅射法在柔性耐高温聚酰亚胺(PI)薄膜上沉积了氧化铟锡(ITO)薄膜,研究了基底温度对ITO薄膜性能的影响。运用四探针测试仪研究了基底温度对ITO薄膜方块电阻及电阻率的影响,并用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)研究了基底温度对ITO薄膜表面形貌及结晶度的影响。采用X射线光电子能谱仪(XPS)、附着力测试仪分析电学性能最优的样品化学组成与附着力。研究结果表明,ITO薄膜方块电阻及电阻率随基底温度上升先下降后上升,在基底温度为250℃时,ITO薄膜方块电阻为14.1Ω/□,电阻率为1.9×10^(-4)Ω·cm,基膜附着力好,薄膜结晶度高,(222)晶面存在择优取向。
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关键词
射频(RF)磁控溅射
柔性材料
基底温度
氧化铟锡(ITO)薄膜
柔性导电
下载PDF
职称材料
题名
基底温度对射频磁控溅射PI基ITO薄膜的影响
被引量:
1
1
作者
刘祖一
徐文正
杨旭
汪邓兵
丁正钰
张海峰
许召辉
凤权
机构
安徽工程大学纺织服装学院
安徽省先进纤维材料工程研究中心
中航华东光电有限公司
出处
《微纳电子技术》
CAS
北大核心
2023年第6期965-970,共6页
基金
安徽省自然科学基金面上项目(2008085ME139)
芜湖市核心技术攻关项目(2021hg09)。
文摘
采用射频(RF)磁控溅射法在柔性耐高温聚酰亚胺(PI)薄膜上沉积了氧化铟锡(ITO)薄膜,研究了基底温度对ITO薄膜性能的影响。运用四探针测试仪研究了基底温度对ITO薄膜方块电阻及电阻率的影响,并用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)研究了基底温度对ITO薄膜表面形貌及结晶度的影响。采用X射线光电子能谱仪(XPS)、附着力测试仪分析电学性能最优的样品化学组成与附着力。研究结果表明,ITO薄膜方块电阻及电阻率随基底温度上升先下降后上升,在基底温度为250℃时,ITO薄膜方块电阻为14.1Ω/□,电阻率为1.9×10^(-4)Ω·cm,基膜附着力好,薄膜结晶度高,(222)晶面存在择优取向。
关键词
射频(RF)磁控溅射
柔性材料
基底温度
氧化铟锡(ITO)薄膜
柔性导电
Keywords
radio frequency(RF)magnetron sputtering
flexible material
substrate temperature
indium tin oxide(ITO)film
flexible conductivity
分类号
TB381 [一般工业技术—材料科学与工程]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
基底温度对射频磁控溅射PI基ITO薄膜的影响
刘祖一
徐文正
杨旭
汪邓兵
丁正钰
张海峰
许召辉
凤权
《微纳电子技术》
CAS
北大核心
2023
1
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