在多孔基底上形成免污离子壁垒超薄膜技术的新途径

文中介绍了在多孔基底MCP输入面上制作免污离子壁垒膜层的新工艺的基本原理和方法 ,给出了膜层成分分析和带膜MCP特性测试结果 ,并初步讨论了电子通过与膜厚的关系。