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真孔板沉铜后直接填孔工艺探讨
1
作者
丘天冠
《印制电路资讯》
2015年第3期100-102,共3页
目前我司填孔板流程为“沉铜一小电流短时间闪镀一填孔电镀”,相对于普通电镀,多了闪镀流程,大大影响了电镀的产能。因此工艺部对“填孔板进行沉铜后直接填孔”流程进行测试分析,评估不闪镀直接填镀作业能否满足我司产品对品质及工...
目前我司填孔板流程为“沉铜一小电流短时间闪镀一填孔电镀”,相对于普通电镀,多了闪镀流程,大大影响了电镀的产能。因此工艺部对“填孔板进行沉铜后直接填孔”流程进行测试分析,评估不闪镀直接填镀作业能否满足我司产品对品质及工艺的要求。
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关键词
填孔
闪镀流程
沉铜
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职称材料
题名
真孔板沉铜后直接填孔工艺探讨
1
作者
丘天冠
机构
博敏电子股份有限公司
出处
《印制电路资讯》
2015年第3期100-102,共3页
文摘
目前我司填孔板流程为“沉铜一小电流短时间闪镀一填孔电镀”,相对于普通电镀,多了闪镀流程,大大影响了电镀的产能。因此工艺部对“填孔板进行沉铜后直接填孔”流程进行测试分析,评估不闪镀直接填镀作业能否满足我司产品对品质及工艺的要求。
关键词
填孔
闪镀流程
沉铜
分类号
TN405 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
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1
真孔板沉铜后直接填孔工艺探讨
丘天冠
《印制电路资讯》
2015
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