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化学镀铜的现状与未来 被引量:1
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作者 藤波知之 中南所 +1 位作者 荆文丽 李荣 《印制电路信息》 1995年第2期3-10,共8页
本文对用于印制线路板的导体形成和多层板内层处理等的化学镀铜液的组成和工作条件、反应机理、镀层的特性、快速镀以及非甲醛化等进行了评述。
关键词 化学镀铜液 现状与未来 印制线路板 还原剂 稳定剂 络合剂 反应速度 表面活性剂 反应机理 次亚磷酸盐
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