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TFT-LCD阵列基板栅极半透掩膜版设计研究
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作者 乔亚峥 沈鹭 +2 位作者 江鹏 刘信 丁俊 《电子技术与软件工程》 2023年第7期126-129,共4页
本文采用40%和45%透光率的栅极半透掩膜版,详细分析了各透光率下的曝光特性、工艺波动性、生产节拍、量产可行性等。研究表明:栅极半透掩膜版透光率设计可结合产品性能要求和生产节拍进行选择。高端产品,工艺稳定性要求高,需求品质优,... 本文采用40%和45%透光率的栅极半透掩膜版,详细分析了各透光率下的曝光特性、工艺波动性、生产节拍、量产可行性等。研究表明:栅极半透掩膜版透光率设计可结合产品性能要求和生产节拍进行选择。高端产品,工艺稳定性要求高,需求品质优,可以选择40%透光率;中低端产品,工艺波动性容忍度大,考虑生产产能,可以选择45%透光率。 展开更多
关键词 超维场转换技术 栅极半透掩膜版 透光率
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盐浴氮碳共渗对65Mn弹簧钢耐磨性的影响 被引量:5
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作者 张伟林 赵靖宇 +3 位作者 王光辉 乔亚峥 梁晓颖 孙玉福 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第2期127-132,共6页
目的探究一种可以显著提高65Mn弹簧钢耐磨性能的工艺,以满足其在高磨损环境下的使用性能要求。方法通过正交试验对65Mn进行QPQ处理,利用金相组织观察、SEM扫描及能谱分析、磨粒磨损等手段,探究不同氮碳共渗温度、共渗时间、氧化温度和... 目的探究一种可以显著提高65Mn弹簧钢耐磨性能的工艺,以满足其在高磨损环境下的使用性能要求。方法通过正交试验对65Mn进行QPQ处理,利用金相组织观察、SEM扫描及能谱分析、磨粒磨损等手段,探究不同氮碳共渗温度、共渗时间、氧化温度和氧化时间对试样显微组织结构及耐磨性能的影响,优化出常规QPQ和深层QPQ处理方案。结果经过QPQ处理的试样,渗层组织由外向内为氧化物层、疏松层、化合物层和扩散层。经深层QPQ处理的试样,在化合物层和扩散层中间有一层含氮奥氏体层。氧化物层的主要物相是Fe_3O_4,化合物层的主要物相是Fe_3N。QPQ处理后的试样经面扫描后,C、N、O元素分布有一定规律,其中C元素集中分布在试样表面,N元素主要集中在致密化合物层,O元素主要集中在样品表层和疏松空洞之中。结论深层QPQ工艺为640℃共渗2 h、350℃氧化40 min时,试样氧化层厚度达到15μm,化合物层厚30μm,奥氏体层厚10μm。深层QPQ处理后的65Mn的耐磨性能优异,磨损率达到0.166 mg/m。 展开更多
关键词 65Mn 盐浴氮碳共渗 深层QPQ 化学热处理 渗层 耐磨性
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大尺寸TFT-LCD GOA Channel CD管控方案的研究
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作者 熊嘉琪 乔亚峥 +8 位作者 刘子源 张杰 魏炎 董春垒 郭会斌 向红伟 林敏 邱航 郑帅 《电子世界》 CAS 2021年第5期82-87,共6页
随着GOA(Gate On Array)技术的不断发展,GOA技术在TFT-LCD行业,尤其在窄边框TV显示屏上的应用也愈来愈频繁,但是由于GOA驱动电路工艺的不稳定性和复杂性,可能会导致显示不稳定的问题,同时随着TV市场需求的日益增长,GOA产品的工艺稳定性... 随着GOA(Gate On Array)技术的不断发展,GOA技术在TFT-LCD行业,尤其在窄边框TV显示屏上的应用也愈来愈频繁,但是由于GOA驱动电路工艺的不稳定性和复杂性,可能会导致显示不稳定的问题,同时随着TV市场需求的日益增长,GOA产品的工艺稳定性对于客户端的品质表现显得十分重要。 展开更多
关键词 驱动电路 工艺稳定性 窄边框 管控方案 显示屏 不稳定性 客户端 市场需求
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