TFT5次光刻背沟道刻蚀型与保护型工艺

5次光刻工艺(简称5PEP)是一种新的研究,分为背沟道刻蚀型和背沟道保护型。5PEP改变了TFT结构和原理,相对于常用的7 PEP可缩短生产周期,减少使用设备,提升成品率,降低成本。研究制定了背沟道刻蚀型与背沟道保护型5PEP的主要工序步骤,并通过50.8 mm液晶屏多次小批量投产进行试验。探讨了刻蚀型5PEP中a-Si岛刻蚀不良、SiNx刻蚀跨断等问题。取得合理的工艺参数,使5PEP能应用于小尺寸液晶屏的TFT量产。

像素设计中沟道宽和长的选择

讨论了沟道宽(W)和长(L)对薄膜晶体管的开态电流(I_(on)),关态电流(I_(off))、开口率以及跳变电压(△V_p)的影响。