TFT-LCD行业显影液参数对半色调光刻胶膜厚的影响

通过对TFT-LCD行业用显影液浓度(质量分数)C1和其中酸根离子浓度(质量分数)C2与半色调光刻胶膜厚(Half Tone Thickness,THK)的影响研究,提出了改善THK波动的方法。首先,固定光刻工艺生产条件,采用单因素实验法分别对C1和C2对THK的影响进行试验,研究表明,C1、C2的变化都会影响显影液的显影能力,导致THK的变化,且都呈线性负相关。其次,根据C1和C2变化对THK的影响程度,将二者之间建立公式对应关系,通过系统对C1进行调整,改善C2波动的影响。最终将关系公式导入系统,稳定了显影能力,有效改善了THK的波动,沟道相关不良发生率从0.20%以上降低到0.03%以下。

TFT-LCD光刻工艺前烘对沟道膜厚均一性的影响

随着TFT-LCD技术向高分辨率、低成本和高良品率的趋势不断发展,TFT-LCD对光刻工艺沟道膜厚均一性的管控要求越来越高。为了对沟道膜厚均一性进行改善,文章通过实验分别验证了前烘热盘的热盘温度、处理时间、局部温度补正、预热位置/预热时间和辅助支撑销高度五个工艺参数对沟道膜厚均一性的影响。最终明确了前烘热盘的五个工艺参数对膜厚均一性影响及其相互关系,为更好的调控膜厚均一性探索出了可行的技术路线。