有关双极晶体管关键参数的探索

双极晶体管在电子设备中应用十分广泛,对于电子领域的发展起到非常重要的作用。本文概述了当前双极晶体管的关键的工艺,指出了双极晶体管的应用和生产中的关键参数,最后对双极晶体管的关键参数的优化以及改进进行探究,总结出关键参数变化对于双极晶体管性能的影响,希望本文对于双极晶体管的研究能够提供一定的参考指导价值。

对高速双极晶体管工艺条件的优化分析

随着科技的不断发展,对高速双极晶体管的研发与生产受到了更多的重视。本文基于深槽隔离与注入基区、为发射极扩散与Ti硅2经快速退火提出双层多晶硅双极技术。在选择性注入集电极与RTA工艺条件的影响进行分析,并提出相关的优化,结合实验结果,制造出质量更高的高速双极晶体管。