为深入探索老山芹种子休眠机理,以老山芹层积前后种子为研究对象,采用气相色谱-飞行时间质谱联用技术(gas chromatography-time of flight mass spectrometry,GC-TOF/MS)对其非层积种子(non-lamellarized seeds,NS)和层积后达到发芽状...为深入探索老山芹种子休眠机理,以老山芹层积前后种子为研究对象,采用气相色谱-飞行时间质谱联用技术(gas chromatography-time of flight mass spectrometry,GC-TOF/MS)对其非层积种子(non-lamellarized seeds,NS)和层积后达到发芽状态种子(germination seeds,GS)的差异代谢物进行分析。结果表明,共检测到995种代谢产物,NS和GS的代谢物存在明显分离,差异代谢物有126种,其中极显著差异代谢物75种,包括35种上调,40种下调。对极显著差异代谢物所在代谢通路分析表明,涉及10条关键代谢通路。和弦图分析表明,差异代谢物中脂质类化合物(含类脂分子)与苯类化合物呈极显著正相关;苯丙烷类化合物(含聚酮类化合物)与有机氧类化合物呈极显著负相关。以上研究结果为探索老山芹种子成熟后萌发提供了代谢组学理论基础,为更好地研究老山芹种子后成熟及休眠机制提供了依据和支撑。展开更多
为深入了解高压绝缘子污秽的组成和带电清洗剂对高压绝缘子表面污秽的去除机理,对高压绝缘子表面污秽进行了扫描电镜、红外光谱、x-射线衍射、x-射线荧光光谱和离子色谱分析,用接触角法研究了污秽粘附于绝缘子表面的作用力,测定了带电...为深入了解高压绝缘子污秽的组成和带电清洗剂对高压绝缘子表面污秽的去除机理,对高压绝缘子表面污秽进行了扫描电镜、红外光谱、x-射线衍射、x-射线荧光光谱和离子色谱分析,用接触角法研究了污秽粘附于绝缘子表面的作用力,测定了带电清洗剂和高压绝缘子的表面张力(γ);通过杨氏和表面能方程,分别计算出粘附功Wa、铺展系数Sw/s和浸湿功Wi。研究结果表明,污秽与绝缘子表面之间为van der Waals引力,无氢键形成。带电清洗剂表面张力较小,Wa>Wi>Sw/s≥0,表明带电清洗剂能在被污染的绝缘子表面自发浸湿和铺展。在带电清洗剂的作用下,减小了污秽与绝缘子表面的van der Waals结合力,使污秽从绝缘子表面脱附下来。该研究对开发新的绝缘子带电清洗剂提供了实验与理论依据。展开更多
文摘为深入探索老山芹种子休眠机理,以老山芹层积前后种子为研究对象,采用气相色谱-飞行时间质谱联用技术(gas chromatography-time of flight mass spectrometry,GC-TOF/MS)对其非层积种子(non-lamellarized seeds,NS)和层积后达到发芽状态种子(germination seeds,GS)的差异代谢物进行分析。结果表明,共检测到995种代谢产物,NS和GS的代谢物存在明显分离,差异代谢物有126种,其中极显著差异代谢物75种,包括35种上调,40种下调。对极显著差异代谢物所在代谢通路分析表明,涉及10条关键代谢通路。和弦图分析表明,差异代谢物中脂质类化合物(含类脂分子)与苯类化合物呈极显著正相关;苯丙烷类化合物(含聚酮类化合物)与有机氧类化合物呈极显著负相关。以上研究结果为探索老山芹种子成熟后萌发提供了代谢组学理论基础,为更好地研究老山芹种子后成熟及休眠机制提供了依据和支撑。
文摘为深入了解高压绝缘子污秽的组成和带电清洗剂对高压绝缘子表面污秽的去除机理,对高压绝缘子表面污秽进行了扫描电镜、红外光谱、x-射线衍射、x-射线荧光光谱和离子色谱分析,用接触角法研究了污秽粘附于绝缘子表面的作用力,测定了带电清洗剂和高压绝缘子的表面张力(γ);通过杨氏和表面能方程,分别计算出粘附功Wa、铺展系数Sw/s和浸湿功Wi。研究结果表明,污秽与绝缘子表面之间为van der Waals引力,无氢键形成。带电清洗剂表面张力较小,Wa>Wi>Sw/s≥0,表明带电清洗剂能在被污染的绝缘子表面自发浸湿和铺展。在带电清洗剂的作用下,减小了污秽与绝缘子表面的van der Waals结合力,使污秽从绝缘子表面脱附下来。该研究对开发新的绝缘子带电清洗剂提供了实验与理论依据。