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ZnO和铪锆氧化物(Hf_(0.5)Zr_(0.5)O_(2))堆栈能带对准研究
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作者 郑旭 孙垚鑫 +8 位作者 刘澳 冯泽 井美艺 单一洋 刘晖 王维华 卢峰 程雅慧 董红 《真空电子技术》 2024年第1期36-41,共6页
铪锆氧化物(HZO)克服了传统铁电材料的缺陷,能够与CMOS工艺兼容,并且可以微缩,在高端芯片领域有很大的发展潜力。而其瓶颈在于循环寿命低,主流研究试图通过界面工程、介质掺杂等工艺改善其铁电性能并提高其寿命。本工作提出了以ZnO作为... 铪锆氧化物(HZO)克服了传统铁电材料的缺陷,能够与CMOS工艺兼容,并且可以微缩,在高端芯片领域有很大的发展潜力。而其瓶颈在于循环寿命低,主流研究试图通过界面工程、介质掺杂等工艺改善其铁电性能并提高其寿命。本工作提出了以ZnO作为HZO与上电极的过渡层,制备HZO/ZnO堆栈,并通过X射线光电子能谱研究了ZnO过渡层与HZO的基本物理问题,即二者的能带结构和退火对能带对准的影响。结果表明,退火过程中界面处发生了元素扩散和偶极子的改变,使HZO/ZnO的能带偏移发生变化,异质结由type-Ⅱ型变为type-Ⅰ型。本工作将为HZO存储器的改善寿命的ZnO过渡层提供基础物理学依据。 展开更多
关键词 HZO ZNO XPS 界面
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利用^(18)O追踪研究退火对InAs/Al_(2)O_(3)堆栈中界面元素扩散行为的影响
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作者 井美艺 冯泽 +10 位作者 刘澳 郑旭 刘晖 王维华 卢峰 程雅慧 罗锋 孔亚萍 李治云 黄荣 董红 《真空电子技术》 2023年第6期57-63,共7页
研究了Al_(2)O_(3)/InAs堆栈在退火前后表面界面的物理和化学,通过X射线光电子能谱仪发现了扩散的In原子总是以氧化态的形式存在,通过湿法去除InAs衬底的氧化物后,利用18 O的水蒸汽预先氧化,再利用飞行时间二次离子质谱分析追踪18 O原子... 研究了Al_(2)O_(3)/InAs堆栈在退火前后表面界面的物理和化学,通过X射线光电子能谱仪发现了扩散的In原子总是以氧化态的形式存在,通过湿法去除InAs衬底的氧化物后,利用18 O的水蒸汽预先氧化,再利用飞行时间二次离子质谱分析追踪18 O原子,发现In原子与界面氧原子各自独立扩散。阐明界面O原子的扩散物理,为Ⅲ-Ⅴ族半导体基器件的应用奠定基础。 展开更多
关键词 高K栅介质 Ⅲ-Ⅴ族半导体 原子层沉积 元素扩散 沉积后退火
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原子层沉积的TiN/HZO堆栈界面元素的扩散研究
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作者 刘澳 郑旭 +8 位作者 冯泽 井美艺 单一洋 孙垚鑫 刘晖 王维华 卢峰 程雅慧 董红 《真空与低温》 2023年第5期480-485,共6页
传统钙钛矿材料微缩后难以保存铁电性,并且与CMOS的兼容性差,而薄至10 nm以内的铪锆氧化物(HZO)材料仍然具有铁电性且与CMOS兼容性好,这弥补了传统钙钛矿的本征短板,备受学界和产业界关注,有望替代动态随机存储器应用于非易失性铁电存储... 传统钙钛矿材料微缩后难以保存铁电性,并且与CMOS的兼容性差,而薄至10 nm以内的铪锆氧化物(HZO)材料仍然具有铁电性且与CMOS兼容性好,这弥补了传统钙钛矿的本征短板,备受学界和产业界关注,有望替代动态随机存储器应用于非易失性铁电存储器(FERAM)和铁电晶体管基集成电路中。基于目前应用最广泛的TiN/HZO/TiN堆栈,采用具有高端应用前景的原位ALD技术生长TiN电极,很好地控制了电极层的生长速度及其纳米级的膜厚。研究了堆栈界面元素扩散问题,通过飞行时间二次离子质谱技术发现了界面元素的外扩散现象,采用角分辨X射线光电子能谱研究了外扩散行为的机制,提出了一个可能的理论解释,即由于TiN和HZO之间发生了氧化还原反应引发表面活性剂效应,导致界面元素外扩散。本研究将为HZO基FERAM的应用奠定基础。 展开更多
关键词 HZO 扩散 XPS 飞行时间二次离子质谱 界面
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ZrO_(2)/InP和ZrO_(2)/InAs堆栈的元素扩散研究
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作者 刘澳 冯泽 +11 位作者 井美艺 郑旭 单一洋 刘晖 王维华 卢峰 程雅慧 罗锋 孔亚萍 李治云 黄荣 董红 《真空电子技术》 2023年第6期50-56,共7页
Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体有望在5 nm以下节点替代Si作为场效应管的沟道材料,其与高k栅介质界面质量对器件性能极为关键。本文分别在InAs和InP衬底上通过H_(2)^(18)O蒸汽预处理表面,再利用原子层沉积技术原位制备了ZrO_(2)薄膜,通过角分辨X... Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体有望在5 nm以下节点替代Si作为场效应管的沟道材料,其与高k栅介质界面质量对器件性能极为关键。本文分别在InAs和InP衬底上通过H_(2)^(18)O蒸汽预处理表面,再利用原子层沉积技术原位制备了ZrO_(2)薄膜,通过角分辨X射线光电子能谱和飞行时间二次离子质谱技术系统性地研究了退火前后界面处衬底元素原子和氧原子扩散行为,并讨论了物理机制。本工作将加深Ⅲ-Ⅴ/高k栅介质界面在材料学上的理解。 展开更多
关键词 18 O同位素示踪法 INP ZrO 2 角分辨X射线光电子能谱 飞行时间二次离子质谱 退火
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原子层沉积LiPON薄膜的表面钝化研究
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作者 王一同 冯泽 +4 位作者 井美艺 孙勇 罗锋 黄晓东 董红 《真空电子技术》 2021年第6期67-73,共7页
LiPON是一种重要的固态电解质,然而LiPON薄膜会与空气中的水和CO_(2)发生反应产生Li_(2)CO_(3),导致器件的电学性能变差。本工作利用X射线光电子能谱研究了通过原子层沉积(ALD)技术生长Al_(2)CO_(3)薄膜来钝化LiPON薄膜,并且对比了多种... LiPON是一种重要的固态电解质,然而LiPON薄膜会与空气中的水和CO_(2)发生反应产生Li_(2)CO_(3),导致器件的电学性能变差。本工作利用X射线光电子能谱研究了通过原子层沉积(ALD)技术生长Al_(2)CO_(3)薄膜来钝化LiPON薄膜,并且对比了多种方案:在ALD生长Al_(2)CO_(3)薄膜之前对样品表面不做预处理,利用O_(3)作为生长Al_(2)CO_(3)薄膜的前驱体,以及N_(2)和O_(2)的等离子体预处理后再在LiPON薄膜表面生长Al_(2)CO_(3)薄膜。结果显示只有通过原位O_(2)等离子体预处理,可以实现Al_(2)CO_(3)薄膜在LiPON薄膜表面的生长,并且抑制住了暴露空气后LiPON表面Li_(2)CO_(3)的形成,起到了钝化效果。本研究通过原位钝化,提高了LiPON薄膜在空气中的稳定性,为其在微型全固态锂电池工业应用奠定基础。 展开更多
关键词 LIPON 原子层沉积 Al_(2)O_(3) 钝化 X射线光电子能谱
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Designing high k dielectric films with LiPON-Al_(2)O_(3)hybrid structure by atomic layer deposition
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作者 冯泽 王一同 +7 位作者 郝继龙 井美艺 卢峰 王维华 程雅慧 王盛凯 刘晖 董红 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2022年第5期647-651,共5页
A large amount of ultra-low-power consumption electronic devices are urgently needed in the new era of the internet of things,which demand relatively low frequency response.Here,atomic layer deposition has been utiliz... A large amount of ultra-low-power consumption electronic devices are urgently needed in the new era of the internet of things,which demand relatively low frequency response.Here,atomic layer deposition has been utilized to fabricate the ion polarization dielectric of the Li PON-Al_(2)O_(3) hybrid structure.The Li PON thin film is periodically stacked in the Al_(2)O_(3) matrix.This hybrid structure presents a frequency-dependent dielectric constant,of which k is significantly higher than the aluminum oxide matrix from 1 k Hz to 200 k Hz in frequency.The increased dielectric constant is attributed to the lithium ions shifting locally upon the applied electrical field,which shows an additional polarization to the Al_(2)O_(3) matrix.This work provides a new strategy with promising potential to engineers for the dielectric constant of the gate oxide and sheds light on the application of electrolyte/dielectric hybrid structure in a variety of devices from capacitors to transistors. 展开更多
关键词 high k dielectric atomic layer deposition POLARIZATION
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