固结磨料研磨过程中声发射信号与材料去除率关系研究

固结磨料研磨垫在加工过程中因钝化、磨损需要修整,材料去除率是判断研磨垫修整的特征指标之一。建立声发射信号与材料去除率的关系,有利于优化固结磨料研磨垫的修整、提高加工效率、降低生产成本。实验研究研磨压力、研磨转速、磨粒粒径、研磨液pH值4个因素对固结磨料研磨K9玻璃的材料去除率和声发射信号的影响,并建立材料去除率和声发射信号的线性回归方程。研究结果表明:4个因素对材料去除率和声发射信号的影响趋势相同,回归方程的预测误差小于5%。采用声发射技术可以预测研磨的材料去除率,为在线监测固结磨料研磨垫的修整奠定基础。

抛光垫磨损非均匀性研究

抛光垫是化学机械抛光的重要组成部分,其磨损的非均匀性对被加工工件面型精度和抛光垫修整有重要影响。基于直线摆动式抛光方式,研究了抛光过程中抛光垫与工件的相对运动,建立了抛光垫磨损模型,分析了抛光工艺参数对抛光垫磨损及均匀性的影响。研究结果表明,工件与抛光垫的转速比为1.11,正弦偏心直线摆动形式,摆动幅度系数为2,摆动频率系数在0.1~0.2之间,抛光垫表面磨损更均匀,并根据抛光垫表面磨损特性优化了抛光垫形状。优化的抛光垫具有更好的面型保持性,延长了修整间隔,为抛光工艺设计提供理论指导。