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Cu-Sn界面上金属间化合物生长的抑制
被引量:
8
1
作者
任 峰
高 苏
张启运
《金属学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002年第7期727-730,共4页
用金相和润湿力测定的方法研究了带不同隔离层的Cu线在热浸Sn和电镀Sn制备电子元件引线时仓储可焊性的变化.实验表明,Ni隔离层与Cu芯线的结合能力和保护能力最强,但只适用于350℃以下热浸Sn工艺.Co隔离层则可完满地适用至450℃.Fe隔离...
用金相和润湿力测定的方法研究了带不同隔离层的Cu线在热浸Sn和电镀Sn制备电子元件引线时仓储可焊性的变化.实验表明,Ni隔离层与Cu芯线的结合能力和保护能力最强,但只适用于350℃以下热浸Sn工艺.Co隔离层则可完满地适用至450℃.Fe隔离层由于热浸Sn时往往局部破裂,不能使Cu-Sn得到完全的隔离.Fe,Co,Ni隔离层在电镀法覆锡制备引线时均能获得良好的效果.
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关键词
金属间化合物
电子元件引线
隔离层
钎焊
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职称材料
题名
Cu-Sn界面上金属间化合物生长的抑制
被引量:
8
1
作者
任 峰
高 苏
张启运
机构
北京大学化学系
出处
《金属学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002年第7期727-730,共4页
基金
北京市自然科学基金资助项目 2982017
文摘
用金相和润湿力测定的方法研究了带不同隔离层的Cu线在热浸Sn和电镀Sn制备电子元件引线时仓储可焊性的变化.实验表明,Ni隔离层与Cu芯线的结合能力和保护能力最强,但只适用于350℃以下热浸Sn工艺.Co隔离层则可完满地适用至450℃.Fe隔离层由于热浸Sn时往往局部破裂,不能使Cu-Sn得到完全的隔离.Fe,Co,Ni隔离层在电镀法覆锡制备引线时均能获得良好的效果.
关键词
金属间化合物
电子元件引线
隔离层
钎焊
Keywords
intermetallics
lead wire of electronic components
diffusion barriers soldering
分类号
TG146.1 [金属学及工艺—金属材料]
TM24 [一般工业技术—材料科学与工程]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
Cu-Sn界面上金属间化合物生长的抑制
任 峰
高 苏
张启运
《金属学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002
8
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