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(日本)电子产品成膜技术的动向
被引量:
3
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作者
伊藤隆生
《真空》
CAS
北大核心
1998年第3期1-10,共10页
本文介绍了平板显示器制造过程中真空设备的应用,其中介绍了液晶制造过程中所应用的溅射成膜工艺和设备,以及低温多晶硅TFT的成膜技术。
关键词
薄膜晶体管
等离子体显示器
电子产品
成膜技术
下载PDF
职称材料
TFT/PDP用真空成膜技术和设备
2
作者
伊藤隆生
《真空》
CAS
北大核心
1998年第5期7-13,共7页
本文介绍了TFT/PDP用真空成膜技术和设备,主要介绍TFT用ITO膜和PDP用MgO/Cu.Cr.Al膜的成膜技术和设备。
关键词
保护膜
电极膜
滤光片
CF
TFT
PDP
薄膜技术
铬
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职称材料
题名
(日本)电子产品成膜技术的动向
被引量:
3
1
作者
伊藤隆生
机构
日本真空技术株式会社半导体电子机器营业本部
出处
《真空》
CAS
北大核心
1998年第3期1-10,共10页
文摘
本文介绍了平板显示器制造过程中真空设备的应用,其中介绍了液晶制造过程中所应用的溅射成膜工艺和设备,以及低温多晶硅TFT的成膜技术。
关键词
薄膜晶体管
等离子体显示器
电子产品
成膜技术
分类号
TN605 [电子电信—电路与系统]
下载PDF
职称材料
题名
TFT/PDP用真空成膜技术和设备
2
作者
伊藤隆生
机构
日本真空技术株式会社半导体电子机器营业本部
出处
《真空》
CAS
北大核心
1998年第5期7-13,共7页
文摘
本文介绍了TFT/PDP用真空成膜技术和设备,主要介绍TFT用ITO膜和PDP用MgO/Cu.Cr.Al膜的成膜技术和设备。
关键词
保护膜
电极膜
滤光片
CF
TFT
PDP
薄膜技术
铬
分类号
TB43 [一般工业技术]
O484.1 [理学—固体物理]
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职称材料
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作者
出处
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1
(日本)电子产品成膜技术的动向
伊藤隆生
《真空》
CAS
北大核心
1998
3
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职称材料
2
TFT/PDP用真空成膜技术和设备
伊藤隆生
《真空》
CAS
北大核心
1998
0
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职称材料
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