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分子外流源L1211中近红外HH天体的发现(英文) 被引量:1
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作者 姚永强 陈亚峰 +3 位作者 杨戟 石井未来 长田哲也 佐藤修三 《天文学报》 CSCD 北大核心 1999年第3期235-246,共12页
报告分子外流源L1211 中新发现的12 个近红外HH 天体.在L1211 的~4’区域,取得了JHK’宽带和H2  v = 10  S(1) 发射线窄带的近红外图像.分析表明,新探测到的许多红外源与浓密分子云物理成协,其... 报告分子外流源L1211 中新发现的12 个近红外HH 天体.在L1211 的~4’区域,取得了JHK’宽带和H2  v = 10  S(1) 发射线窄带的近红外图像.分析表明,新探测到的许多红外源与浓密分子云物理成协,其中有20 多个源表现出典型的T Tauri 星、Herbig Ae/Be星和原恒星的红外超.L1211 中的IRAS点源没有被观测到,可能是更深地埋于分子云中.对红外观测和分子线观测消光估计的比较显示,小于2μm 的近红外观测还不足以揭示深埋于分子云的整个年轻星团.根据近红外HH 天体的形态分布和红外源性质,能进一步证认这些HH 天体的激发源.其结果表明,L1211 展开更多
关键词 红外成像 HH天体 恒星形成 分子外流源
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HV-9000型精密平坦化装置 被引量:2
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作者 佐藤修三 万力 何宝光 《电子工业专用设备》 1998年第3期60-64,共5页
SONY公司在该装置中所采用的半固定颗粒研磨轮与CMP技术中所用的研磨装置相似,对半导体制造中单元分离、层间绝缘膜平坦化等工艺残留台阶误差的除去,效率相当高。已面市的HV-9000型精密平坦化装置还可适用于今后的30... SONY公司在该装置中所采用的半固定颗粒研磨轮与CMP技术中所用的研磨装置相似,对半导体制造中单元分离、层间绝缘膜平坦化等工艺残留台阶误差的除去,效率相当高。已面市的HV-9000型精密平坦化装置还可适用于今后的300mm圆片加工。本文对其作一简要介绍。 展开更多
关键词 半导体器件 制造工艺 平坦化装置
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