三名工程入选书家·何来胜

王强：何来胜的隶书以伊秉绶为墙壁,兼纳《张迁》、《杨孟文》之苍劲,更从金冬心处学得几分峻爽。此作展示了何来胜对隶书的理解,体格清健,笔法干净利索,不急不躁,且毫不拖泥带水。

泥岩地基及嵌岩灌注桩的承载特性试验

红土崖组(KwH)泥岩是一种分布于青岛地区的白垩系王氏群泥岩,是一种非典型的黏土岩,其透水性弱,具有一定的膨胀特性。为研究泥岩的物理力学性质、变形特性及嵌入泥岩中灌注桩的承载特性,以红土崖组(KwH)泥岩为试验对象,在青岛某地区开展了泥岩常规物理力学试验、泥岩地基及泥岩地基中嵌岩灌注桩的静载荷试验。试验结果表明,红土崖组(KwH)泥岩含砂,吸水膨胀率较小,是一种非膨胀性岩;全风化及强风化泥岩地基的P-s曲线基本呈缓变型;而中风化泥岩地基在破坏时发生了压裂及隆起,P-s曲线呈陡降型,而且变异性较大。该场地泥岩地基中灌注桩分别加载至10800、12960 kN,试桩均未发生破坏,嵌岩灌注桩的桩侧摩阻力和桩端阻力均未充分发挥;中风化泥岩的承载力较高,可作为桩基理想的持力层。研究成果对青岛地区泥岩地基中的工程建设具有参考价值。

土岩组合深基坑围护结构受力与变形特性分析——以青岛海天中心深基坑为例

为了研究土岩组合二元地层超深基坑受力、变形和邻近建筑沉降随基坑开挖的演化规律,依托于青岛海天中心城市综合体桩锚支护结构体系超深基坑工程,对预应力锚索轴力、基坑水平和竖向位移以及周边建筑物沉降进行了实时监测。结果表明,基坑开挖期间内,预应力锚索轴力随时间的变化规律主要分快速下降、稳定变化和基本稳定3个阶段,锚索轴力平均损失率约为15.08%;基坑最大水平位移为12.30 mm,最大竖向位移为11.01 mm,基坑临近建筑物最大沉降量为1.2 mm,远小于设计和现行《建筑基坑工程监测技术标准》的容许变形值,说明桩锚支护结构体系可以有效控制基坑变形,确保毗邻建筑物安全;同时表明该基坑的支护设计方案有较大的优化空间,从而节约工程成本。研究成果对相似地质条件的超深基坑围护结构设计具有重要参考价值。

泥岩地基动力打入桩承载特性研究进展

泥岩地基中的锤击打入桩,经常出现承载力异常问题,不能满足设计要求,需要补强处理,造成材料浪费和工期拖延,严重影响着工程建设。迄今为止尚未查清出现问题的原因,成为当前迫切需要解决的理论和技术难题。泥岩作为一种特殊的软岩,因其浸水易软化、受挤压易变形等特点,在荷载作用下易发生承载力不足的现象。归纳了现阶段泥岩地基锤击打入桩承载力不足的原因,明确了泥岩的基本工程性质,结合青岛地区泥岩桩的工程实例分析了泥岩中打入桩的工作机制和破坏模式,总结了动力打桩造成的泥岩损伤、泥岩桩的室内模型试验以及数值模拟等方面的研究进展,最后对泥岩地基动力打入桩的承载力问题进行了梳理,指出了目前研究存在的不足;同时,考虑到未来泥岩地区的发展及桩基工程的实际需求,针对泥岩的现场取样技术、泥岩桩的室内试验及数值模拟等方面提出了未来的发展方向。

灰铸铁缸体缸盖的材质选择与控制

分析当前我国缸体缸盖生产中材质的选择与控制,并探讨了今后的发展方向。通过采用低合金化、高碳当量、获得高温优质铁液和孕育处理等措施,可以有效地提高发动机缸体和缸盖等薄壁高强度灰铸铁件的成品率。

抗浮锚杆在地下结构抗浮中的耐久性研究进展与发展方向

锚杆的耐久性问题是当前岩土锚固技术中非常重要但相对薄弱的研究环节,抗浮锚杆工作环境恶劣,常处于水下或干湿交替、荷载波动范围、冻融循环及腐蚀介质等环境中,锚筋极易遭受侵蚀破坏,对抗浮锚杆的耐久性提出了新的挑战。简要介绍了抗浮锚杆的结构及作用机制,明确抗浮锚杆在地下结构中的基本工作原理,对影响抗浮锚杆耐久性的主要因素进行了详细分析,分别介绍了腐蚀环境、黏结剂以及多因素耦合作用对抗浮锚杆长期服役性能的影响,以及对于如何提高抗浮锚杆的耐久性给出解决方法,最后对抗浮锚杆在地下结构中的应用进行了归纳总结,提出了目前仍存在的不足与挑战,并针对抗浮锚杆的耐久性问题提供了相应建议。

混凝土结构钢筋设计施工中几个细节探讨

1复合箍筋设计施工我国房屋建筑设计中,钢筋混凝土柱、梁、剪力墙边缘构件都是采用封闭箍筋;在复合箍筋中,大多采用外箍套内箍,基本不用外箍加拉筋的形式,且不论外箍或内箍,都是采用封闭箍筋。从设计上来说,这是我国的一种习惯做法。但是,从施工上来说,封闭箍筋的安装是一道费工费时的工序,特别是在纵向钢筋分布密、箍筋直径较大的情况下,封闭箍筋的安装不仅要消耗大量人工,而且由于施工困难,

一种用于硅基光电子芯片端面封装的深硅刻蚀工艺

硅基光电子芯片的端面耦合器具有大带宽、低损耗、偏振不敏感等优点,使人们希望在端面封装方面获得突破。提出了一种用于硅基光电子芯片端面封装的深硅刻蚀工艺,利用等离子体刻蚀形成的斜面与光纤阵列的封装面进行匹配封装,降低封装中的耦合反射;利用斜面刻蚀工艺和深硅刻蚀工艺相结合的方法制备深硅刻蚀槽,提高了晶圆划片的冗余度,通过控制深硅刻蚀槽内的划片位置来消除台阶凸起对光纤封装造成的不利影响,使在后续封装过程中无需对芯片端面台阶凸起实施磨抛工艺。实验结果显示,基于该工艺,端面耦合器损耗劣化小于0.1 dB。该封装结构可以在晶圆流片阶段实现制备,具有可大规模生产、降低硅基光电子芯片端面封装成本的优点,以及广阔的工程应用前景。

书法创作与审美趣味

古人云:『书,心画也。』书法是书者的精神风貌和品位的外在映示。书法的审美趣味是指人们在品赏书法作品过程中所产生的一种愉悦的心理体验,是人的内在心理生活与书作之间交互感知的结果。笔者通过多年的创作感知,在书法创作中,线条的空间艺术要靠创作者的形象思维去把握、协调,但最难的并不是如何用线条去经营空间,而在于线条本身。书法创作就是创作者心随笔动,笔随意走,运用线条的美感、趣味去营造独特的艺术感染力。

创作解析

近来写字，有意无意，总想尽量地均衡一些。行书之外，也尝试些章草、魏碑之类，想努力地使自己的面目能够显得丰富，或者是增加一些可读、可看的资本。其实内心里也很清楚，自己既非通才，也不是什么多面手，而且也一贯主张写字如做事，崇尚简净单一。