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高频溅射生长ZnS∶Tb,F薄膜的结构与发光 被引量:4
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作者 余庆选 班大雁 +1 位作者 张纪发 方容川 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1996年第3期225-229,共5页
本文采用X射线衍射和阴极射线发光技术对溅射法生长的ZnS∶Tb,F薄膜的发光光谱和薄膜的微观结构进行了研究,得出了激晶薄膜的晶粒尺寸与发光强度的关系.讨论了稀土离子的价态对掺杂稀土微晶薄膜的发光性质与晶粒尺寸的关系的... 本文采用X射线衍射和阴极射线发光技术对溅射法生长的ZnS∶Tb,F薄膜的发光光谱和薄膜的微观结构进行了研究,得出了激晶薄膜的晶粒尺寸与发光强度的关系.讨论了稀土离子的价态对掺杂稀土微晶薄膜的发光性质与晶粒尺寸的关系的影响. 展开更多
关键词 薄膜 微观结构 发光光谱 硫化锌
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MOCVD GaInP材料生长过程热力学及其特性 被引量:2
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作者 余庆选 励翠云 彭瑞伍 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1997年第4期253-257,共5页
本文通过MOCVDGaInP的生长速率,组分In的气相分配比与生长温度的关系,较强细地对GaInP生长过程中的热力学进行了研究,并研究了低温GaInP缓冲层对高温GaInP外延生长的影响,根据GaInP的组分.随生长温度的变化关系,生长出质量较好的... 本文通过MOCVDGaInP的生长速率,组分In的气相分配比与生长温度的关系,较强细地对GaInP生长过程中的热力学进行了研究,并研究了低温GaInP缓冲层对高温GaInP外延生长的影响,根据GaInP的组分.随生长温度的变化关系,生长出质量较好的短波长Ga0.65In0.35P材料. 展开更多
关键词 MOCVD 外延生长 半导体材料 热力学
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MOCVD GaInP材料本底浓度及其掺Zn时组分的控制
3
作者 余庆选 彭瑞伍 励翠云 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1995年第1期31-35,共5页
本文用MOCVD法研究了GaInP及其掺Zn材料的生长和特性,并进行了生长速率对生长动力学、Zn的掺杂效率、In的组分、表面形貌、电学性质的影响研究.
关键词 掺杂 MOCVD GAINP 发光材料
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高频溅射法氮碳膜的生长及结构
4
作者 余庆选 方容川 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1997年第4期541-544,共4页
本文用扫描电镜、红外吸收光谱、X射线光电子能谱和X射线衍射技术对高频溅射沉积法制备的氮化碳膜的生长过程进行了研究.改变溅射条件,研究了氮化碳膜的形貌和结构与其性质之间的关系,通过溅射条件的优化,可使氮化碳膜中的氮含量增... 本文用扫描电镜、红外吸收光谱、X射线光电子能谱和X射线衍射技术对高频溅射沉积法制备的氮化碳膜的生长过程进行了研究.改变溅射条件,研究了氮化碳膜的形貌和结构与其性质之间的关系,通过溅射条件的优化,可使氮化碳膜中的氮含量增加,薄膜的结构接近β-C3N4相. 展开更多
关键词 高频溅射 氮化碳薄膜 结构 薄膜生长
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GaInP气相外延中Si的掺杂行为及发光二极管材料的制备
5
作者 余庆选 励翠云 彭瑞伍 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 1997年第3期286-290,共5页
用MOCVD方法生长GaInP及其掺杂材料,并对Si的掺杂行为进行了较详细的研究。采用低温度冲层技术可有效地控制高温(>700℃)生长GaInP及其掺杂材料的组分,从而使得GaInP掺Si的电子浓度达8×1018cm-3。在此基础上,进行了GaInP发... 用MOCVD方法生长GaInP及其掺杂材料,并对Si的掺杂行为进行了较详细的研究。采用低温度冲层技术可有效地控制高温(>700℃)生长GaInP及其掺杂材料的组分,从而使得GaInP掺Si的电子浓度达8×1018cm-3。在此基础上,进行了GaInP发光二极管材料的生长,所得器件具有良好的I-V曲线。 展开更多
关键词 MOCVD 掺杂 镓铟磷化合物 发光二极管 外延生长
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热丝CVD生长SiCN薄膜的研究 被引量:11
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作者 牛晓滨 廖源 +2 位作者 常超 余庆选 方容川 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2004年第2期397-403,共7页
在HFCVD系统中采用SiH4/CH4/H2/N2混合气体成功的制备了SiCN薄膜.SEM照片显示制备的SiCN薄膜由棒状结构构成,而在HRTEM下发现这些棒状结构是由生长在无定型SiCN基体当中的纳米晶粒组成的.进一步的SAED和XRD分析说明SiCN纳米晶粒具有类... 在HFCVD系统中采用SiH4/CH4/H2/N2混合气体成功的制备了SiCN薄膜.SEM照片显示制备的SiCN薄膜由棒状结构构成,而在HRTEM下发现这些棒状结构是由生长在无定型SiCN基体当中的纳米晶粒组成的.进一步的SAED和XRD分析说明SiCN纳米晶粒具有类似于α-Si3N4的结构.XPS和FTIR分析表明薄膜中含有Si、C、N和O几种元素以及C=N、Si-N和C-N等共价键,但是并没有观察到C-Si的存在.由实验得出结论,SiCN晶体的生长包括两个步骤:α-Si3N4团簇的生长和C取代其中Si的过程. 展开更多
关键词 HFCVD SiCN薄膜 α-Si3N4 化学气相沉积 纳米晶粒 薄膜生长
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脉冲激光淀积MgF_2薄膜的制备及性质研究 被引量:7
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作者 于琳 韩新海 +4 位作者 王冠中 揭建胜 廖源 余庆选 方容川 《量子电子学报》 CAS CSCD 北大核心 2004年第1期48-50,共3页
本文采用脉冲激光淀积方法(PLD)制备了MgF2光学薄膜,并对其表面形貌以及光学性质进行了测试分析, X射线光电子能谱分析显示MgF2样品具有很好的化学组分配比, F/Mg原子比在1.9-2.1之间,接近于体材料;在可见光波段其光学透过率为60%-80%... 本文采用脉冲激光淀积方法(PLD)制备了MgF2光学薄膜,并对其表面形貌以及光学性质进行了测试分析, X射线光电子能谱分析显示MgF2样品具有很好的化学组分配比, F/Mg原子比在1.9-2.1之间,接近于体材料;在可见光波段其光学透过率为60%-80%,在红外波段更是达到了90%以上,由KK变换计算MgF2的折射率大约为1.39,也接近于体材料的折射率1.38。 展开更多
关键词 脉冲激光淀积 MgF2薄膜 折射率 透过率 薄膜光学
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ZnO:Ag薄膜的结构对其紫外发光增强的研究 被引量:5
8
作者 金运姜 余庆选 +1 位作者 刘书见 廖源 《量子电子学报》 CAS CSCD 北大核心 2008年第1期43-48,共6页
利用脉冲激光沉积方法(PLD),在Si(100)衬底上生长了银掺杂的氧化锌薄膜(ZnO:Ag),所用的激光波长分别是1064 nm和355 nm。通过X射线衍射分析发现,两种不同激光沉积样品的晶体结构有很大的区别。此外,由1064 nm激光制备的ZnO:Ag薄膜,在氧... 利用脉冲激光沉积方法(PLD),在Si(100)衬底上生长了银掺杂的氧化锌薄膜(ZnO:Ag),所用的激光波长分别是1064 nm和355 nm。通过X射线衍射分析发现,两种不同激光沉积样品的晶体结构有很大的区别。此外,由1064 nm激光制备的ZnO:Ag薄膜,在氧气中800℃的条件下退火一个小时后,在其光致发光(PL)谱中发现,样品的紫外发光峰强度随薄膜中Ag含量增加而急剧增强,但在同样条件下处理的由355 nm激光制备的薄膜,没有观察到类似现象。经过分析和比较,我们认为这种紫外发光增强的特殊现象,是ZnO:Ag薄膜中的纳米Ag颗粒所引起的局部等离子共振而导致。 展开更多
关键词 薄膜光学 氧化锌 光致发光 局部等离子共振
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PLD方法在CVD金刚石膜上生长ZnO薄膜及其特性研究 被引量:3
9
作者 张吉明 廖源 +2 位作者 张五堂 余庆选 傅竹西 《量子电子学报》 CAS CSCD 北大核心 2008年第2期240-245,共6页
采用脉冲激光沉积(PLD)技术,在(110)和(100)织构金刚石膜上成功制备出高度c-轴取向的ZnO薄膜,然后在纯氮气氛条件下对ZnO薄膜进行退火处理.作为比较。也在(100)Si上生长的ZnO薄膜进行了相同的处理.通过测量X射线衍射(XRD)谱和光致发光(... 采用脉冲激光沉积(PLD)技术,在(110)和(100)织构金刚石膜上成功制备出高度c-轴取向的ZnO薄膜,然后在纯氮气氛条件下对ZnO薄膜进行退火处理.作为比较。也在(100)Si上生长的ZnO薄膜进行了相同的处理.通过测量X射线衍射(XRD)谱和光致发光(PL)谱,研究了不同衬底性质和退火对薄膜结构和发光特性的影响.实验结果表明,在(100)织构金刚石上的ZnO膜具有最好的结晶质量,其半高宽只有0.2°.退火之后近紫外发光峰明显减弱的同时,绿色发光峰得到增强.这里归结为氮气退火后氧空位的增加,这点从退火后的XPS谱中可以得到进一步的确认. 展开更多
关键词 材料 氧化锌薄膜 脉冲激光沉积法 金刚石 应力
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硼掺杂对金刚石薄膜生长特性的影响 被引量:2
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作者 刘卫平 余庆选 +3 位作者 田宇全 廖源 王冠中 方容川 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2005年第5期1270-1274,共5页
采用HFCVD方法制备了掺硼金刚石薄膜,通过扫描电子显微镜和X射线衍射光谱对样品的表面形貌及结构进行了分析.结果表明,随着硼含量的增加,薄膜中晶粒的取向由(100)变为(111),然后趋向于无序化.硼的掺入同样影响到孪晶晶粒的形态及生长因... 采用HFCVD方法制备了掺硼金刚石薄膜,通过扫描电子显微镜和X射线衍射光谱对样品的表面形貌及结构进行了分析.结果表明,随着硼含量的增加,薄膜中晶粒的取向由(100)变为(111),然后趋向于无序化.硼的掺入同样影响到孪晶晶粒的形态及生长因子α,使得α变小.通过对样品的Raman光谱分析,得出在适当的硼掺杂浓度下,孪晶的出现使金刚石薄膜中的应力得到松弛,从而中心声子线Raman位移红移较小. 展开更多
关键词 孪晶 HFCVD 硼掺杂 金刚石薄膜
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退火过程对c轴择优取向的ZnO薄膜光学性质的影响 被引量:1
11
作者 谢学武 廖源 +2 位作者 张五堂 余庆选 傅竹西 《量子电子学报》 CAS CSCD 北大核心 2010年第2期221-226,共6页
利用溶胶凝胶法在石英衬底上采用旋涂法制备出ZnO薄膜,通过X射线衍射仪发现不同的退火温度对ZnO薄膜的择优取向有很大影响;通过紫外可见分光光度计和室温发光谱可以看出,制备的薄膜有很好的光学透过性和很强的紫外发光特性,而不同的退... 利用溶胶凝胶法在石英衬底上采用旋涂法制备出ZnO薄膜,通过X射线衍射仪发现不同的退火温度对ZnO薄膜的择优取向有很大影响;通过紫外可见分光光度计和室温发光谱可以看出,制备的薄膜有很好的光学透过性和很强的紫外发光特性,而不同的退火温度对其光学性质有很大的影响。实验发现采用此种方法在650℃左右退火是一个合适的退火温度,结构特性和光学性质都相对较好;采用热分析方法可知ZnO将在375℃左右从非晶转向结晶状态,因而在常规ZnO薄膜制备方法中增加一步500℃的热处理将有助于提高ZnO薄膜的结晶质量。 展开更多
关键词 材料 溶胶凝胶法 ZNO薄膜 c轴择优取向 退火
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银单晶纳米线的气相合成及其表面增强拉曼散射特性(英文)
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作者 李志 祝巍 +3 位作者 余庆选 杨乾辉 邵智斌 楼立人 《中国科学技术大学学报》 CAS CSCD 北大核心 2014年第2期106-111,共6页
通过气-液-固(VLS)机制,利用热蒸发方法在Ag/ZnO同轴结构纳米线中合成了单晶Ag纳米线.ZnO壳的限制作用被认为是促成了Ag单晶相的形成.通过腐蚀掉ZnO壳而获得的银纳米线,其直径可以通过改变源中银的含量来调控.这些高质量的银纳米线具有... 通过气-液-固(VLS)机制,利用热蒸发方法在Ag/ZnO同轴结构纳米线中合成了单晶Ag纳米线.ZnO壳的限制作用被认为是促成了Ag单晶相的形成.通过腐蚀掉ZnO壳而获得的银纳米线,其直径可以通过改变源中银的含量来调控.这些高质量的银纳米线具有明显的表面增强拉曼散射(SERS)增强效果. 展开更多
关键词 银纳米线 化学气相沉积(CVD) 氧化锌 同轴结构纳米线 表面增强拉曼散射(SERS)
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半导体外延材料导电类型及载流子浓度的简易判定法
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作者 励翠云 韦光宇 余庆选 《上海金属(有色分册)》 1993年第3期35-38,共4页
本文利用金属—半导体接触的基本理论,发展了一种炉前简易判别化合物半导体外延层导电类型和载流子浓度范围的方法,其准确率为:GaAs和GaInP达100%,GaInAsSb可达90%左右。
关键词 化合物半导体 延层 导电类型
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Growth and Characterization of GaInP Layers on GaAs Substrates by MOCVD
14
作者 余庆选 彭瑞伍 +1 位作者 励翠云 任尧成 《Rare Metals》 SCIE EI CAS CSCD 1993年第4期264-266,共3页
GaInP is an important material in fabrication of optoelectronic and microwave devices. Growth process of GaInP by MOCVD (metal-organic chemical vapor deposition) was investigated, and the effect of growth parameters o... GaInP is an important material in fabrication of optoelectronic and microwave devices. Growth process of GaInP by MOCVD (metal-organic chemical vapor deposition) was investigated, and the effect of growth parameters on the epilayer properties was discussed. It is found that the distribution coefficient of indium is close to unity, while the growth temperature of GaInP is 700°C. The background concentration at 300K is 5.34×1015cm-3 and Hall mobility is 2.27×103cm2&middotV-1&middotS-1. 展开更多
关键词 CHARACTERIZATION Chemical vapor deposition Growth (materials) Semiconductor materials SUBSTRATES
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Growth of ZnO Thin Films on Lattice-Matched Substrates by Pulsed-Laser Deposition
15
作者 余庆选 徐波 +3 位作者 吴气虹 廖源 王冠中 方容川 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2003年第12期2235-2238,共4页
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Photoluminescence of a ZnO/GaN Heterostructure Interface 被引量:1
16
作者 刘书见 余庆选 +2 位作者 王健 廖源 李晓光 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2009年第7期324-327,共4页
Growth of a ZnO/GaN heterostructure is carried out using pulsed laser deposition. By etching the ZnO layer from the ZnO/GaN structure, the photoluminescence (PL) of the associated GaN layer shows that the donor- acc... Growth of a ZnO/GaN heterostructure is carried out using pulsed laser deposition. By etching the ZnO layer from the ZnO/GaN structure, the photoluminescence (PL) of the associated GaN layer shows that the donor- acceptor luminescence of CaN shifts to about 3.27eV, which is consistent with the electroluminescence (EL) of n-ZnO/p-GaN already reported. XPS shows that oxygen diffuses into the CaN crystal lattice from the surface to 20nm depth. The PL spectra at different temperatures and excitation densities show that oxygen plays the role of potential fluctuation. The associated PL results of the interface in these LEDs could be helpful to understand the mechanism of EL spectra for ZnO/CaN p-n junctions. 展开更多
关键词 Electronics and devices Condensed matter: electrical magnetic and optical Semiconductors Surfaces interfaces and thin films Optics quantum optics and lasers
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应力和掺杂对Mg:GaN薄膜光致发光光谱影响的研究 被引量:14
17
作者 徐波 余庆选 +3 位作者 吴气虹 廖源 王冠中 方容川 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2004年第1期204-209,共6页
对化学气相沉积 (MOCVD)法在宝石衬底上生长的Mg掺杂GaN薄膜的表面及其GaN缓冲层的光致发光 (PL)光谱进行了测量 ,用Raman光谱和x射线衍射 (XRD)对GaN薄膜中的应力进行确定 ,通过PL光谱中的中性束缚激子跃迁能量的变化确定薄膜中应力的... 对化学气相沉积 (MOCVD)法在宝石衬底上生长的Mg掺杂GaN薄膜的表面及其GaN缓冲层的光致发光 (PL)光谱进行了测量 ,用Raman光谱和x射线衍射 (XRD)对GaN薄膜中的应力进行确定 ,通过PL光谱中的中性束缚激子跃迁能量的变化确定薄膜中应力的影响 ,从而研究Mg掺杂对p型GaN的DAP跃迁影响规律 . 展开更多
关键词 应力 镁掺杂 氮化镓薄膜 光致发光 化学气相沉积 拉曼光谱 激子跃迁能量 发光二极管
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