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SiO2薄膜制备方法、性能及其应用的研究进展
被引量:
8
1
作者
俞立宸
季鑫
+2 位作者
高磊
顾雁豪
周晟吉
《上海工程技术大学学报》
CAS
2019年第3期215-218,277,共5页
综述了二氧化硅(SiO2)薄膜的制备方法和研究进展,介绍了磁控溅射、溶胶凝胶法和真空镀等SiO2薄膜制备方法及其优缺点,论述SiO2薄膜在光学、电学和光电等性能研究方面的新进展,最后对SiO2薄膜的应用和发展进行了展望.
关键词
SIO2薄膜
制备方法
磁控溅射
光学性能
下载PDF
职称材料
题名
SiO2薄膜制备方法、性能及其应用的研究进展
被引量:
8
1
作者
俞立宸
季鑫
高磊
顾雁豪
周晟吉
机构
上海工程技术大学数理与统计学院
出处
《上海工程技术大学学报》
CAS
2019年第3期215-218,277,共5页
基金
上海工程技术大学大学生创新资助项目(cx1821007)
文摘
综述了二氧化硅(SiO2)薄膜的制备方法和研究进展,介绍了磁控溅射、溶胶凝胶法和真空镀等SiO2薄膜制备方法及其优缺点,论述SiO2薄膜在光学、电学和光电等性能研究方面的新进展,最后对SiO2薄膜的应用和发展进行了展望.
关键词
SIO2薄膜
制备方法
磁控溅射
光学性能
Keywords
SiO2 film
preparation method
magnetron sputtering
optical property
分类号
TG174 [金属学及工艺—金属表面处理]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
SiO2薄膜制备方法、性能及其应用的研究进展
俞立宸
季鑫
高磊
顾雁豪
周晟吉
《上海工程技术大学学报》
CAS
2019
8
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