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题名自制上海牌4F、5F与天津牌III型胶片曝光曲线
被引量:1
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作者
管斐章
俞银兴
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机构
华东电力试验研究所
南市发电厂
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出处
《华东电力》
1986年第1期69-71,共3页
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文摘
目前各电厂在X光射线探伤中,经常使用上海4F、5F与天津Ⅲ型胶片。在工作中自制曝光曲线表,在操作中可带来很大的方便。以往由于不同操作者凭个人工作经验选用各自的参数,难以得到理想的底片黑度值,影响了最后评片效果。现利用阶梯型试块,使曝光用上海TX—1505型携带式X射线探伤机,经反复试验所得曝光曲线及应用数学回归分析法计算直线方程:kV=a+bT。根据所得曝光曲线及直线方程式,选择曝光参数,可获得最佳底片黑度,有利于评片效果。
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关键词
曝光曲线
直线方程
所得
III
底片
铅箔增感屏
黑度
上海牌
天津
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分类号
G6
[文化科学—教育学]
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