期刊文献+
共找到5篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
二维飞片形状的测量和数据处理
1
作者 傅兴海 于君 《爆炸与冲击》 EI CAS CSCD 北大核心 1990年第2期163-169,共7页
本文介绍了一种测量二维形状飞片的光探测系统及其数据处理方法。为了便于说明,用一个一点起爆爆轰事件作为实际示例。其数据处理结果与闪光x光测量结果作了比较,发现在飞片形状和压力两方面都能很好地符合。
关键词 飞片 冲击波 数据 处理 爆轰 形状
下载PDF
清暑汤在夏季热证中的应用
2
作者 傅兴海 《江西中医药》 1996年第S2期22-23,共2页
清暑汤在夏季热证中的应用傅兴海(上海淞江县洞泾镇医院淞江201601)关键词夏季热,中医药疗法,清暑汤盛夏季节,暑气当令,气候炎热,人们因感受夏令暑热病邪而易发生急性热证。又由于夏月暑热既盛而雨湿也多,天暑下迫,地湿... 清暑汤在夏季热证中的应用傅兴海(上海淞江县洞泾镇医院淞江201601)关键词夏季热,中医药疗法,清暑汤盛夏季节,暑气当令,气候炎热,人们因感受夏令暑热病邪而易发生急性热证。又由于夏月暑热既盛而雨湿也多,天暑下迫,地湿上蒸,所以暑湿往往相伙为病而成暑热... 展开更多
关键词 夏季热 中医药疗法 清暑汤
下载PDF
择优取向MgO在Si衬底上的直流溅射制备及其性能表征 被引量:2
3
作者 傅兴海 尹伊 +1 位作者 张磊 叶辉 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2009年第7期5007-5012,共6页
采用直流磁控溅射并通过优化工艺参数,在(100)Si衬底上成功制备了高度(100)择优的MgO薄膜和MgO/TiN双层膜结构.对(100)MgO择优取向温度影响机理做了详细讨论,并利用XRD,AFM,FESEM等手段研究了在(100)Si和(100)TiN/Si两种衬底上,不同工... 采用直流磁控溅射并通过优化工艺参数,在(100)Si衬底上成功制备了高度(100)择优的MgO薄膜和MgO/TiN双层膜结构.对(100)MgO择优取向温度影响机理做了详细讨论,并利用XRD,AFM,FESEM等手段研究了在(100)Si和(100)TiN/Si两种衬底上,不同工艺条件下MgO薄膜的表面和断面微观结构,表征了MgO薄膜的柱状生长结构和与TiN薄膜的良好外延关系.在对薄膜光学特性的研究中,利用Sellmeier模型获得了Si上MgO薄膜在可见光波段的折射率参数(550 nm处折射率为1.692),利用非均匀模型获得了TiN/Si衬底上的MgO薄膜在可见光波段的折射率参数(靠近空气层的薄膜在550nm处折射率为1.716). 展开更多
关键词 MgO薄膜 择优取向 直流溅射 折射率拟合
原文传递
择优取向MgO缓冲层上制备的硅基Ba_(0.7)Sr_(0.3)TiO_3薄膜的结构和性能研究 被引量:1
4
作者 尹伊 傅兴海 +1 位作者 张磊 叶辉 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2009年第7期5013-5021,共9页
分别采用sol-gel法和磁控溅射法在Si(001)单晶衬底上制备出(111)和(001)取向的MgO缓冲层薄膜,随后在其上生长Ba0.7Sr0.3TiO3(BST30)铁电薄膜.通过X射线衍射,扫描电子显微镜,原子力显微镜等方法研究了薄膜的微结构.实验结果发现,在较厚的... 分别采用sol-gel法和磁控溅射法在Si(001)单晶衬底上制备出(111)和(001)取向的MgO缓冲层薄膜,随后在其上生长Ba0.7Sr0.3TiO3(BST30)铁电薄膜.通过X射线衍射,扫描电子显微镜,原子力显微镜等方法研究了薄膜的微结构.实验结果发现,在较厚的MgO(001)缓冲层上可长出(101)取向的BST30薄膜,而在较薄的MgO(111)缓冲层上则表现出(101)和(111)取向相互竞争的现象,随着MgO(111)缓冲层厚度的增加,BST30薄膜的(101)取向被抑制,而(001)取向逐渐增强.利用反射率测定仪、阻抗分析仪研究了BST30薄膜的光学和电学性能.通过改进的单纯形法拟合反射率曲线,得到了BST30及其MgO缓冲层薄膜的光学常数,由BST30薄膜的电压-电流特性(I-V曲线),发现MgO缓冲层对BST30薄膜的漏电流有明显的阻隔作用,可以有效消除BST30膜层的p-n结效应. 展开更多
关键词 Ba0.7Sr0.3TiO3 铁电薄膜 择优取向 SOL-GEL
原文传递
高择优取向铌酸锶钡薄膜的射频磁控溅射制备 被引量:3
5
作者 李跃甫 叶辉 傅兴海 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2008年第2期1229-1235,共7页
采用溶胶-凝胶法在(100)Si单晶上预先制备出掺钾(K)的铌酸锶钡(SBN)缓冲层,利用射频磁控溅射法在缓冲层KSBN上沉积出高择优取向的铌酸锶钡薄膜,获得了磁控溅射法制备择优取向铌酸锶钡薄膜的相关工艺参数,研究发现,KSBN缓冲层能够很有效... 采用溶胶-凝胶法在(100)Si单晶上预先制备出掺钾(K)的铌酸锶钡(SBN)缓冲层,利用射频磁控溅射法在缓冲层KSBN上沉积出高择优取向的铌酸锶钡薄膜,获得了磁控溅射法制备择优取向铌酸锶钡薄膜的相关工艺参数,研究发现,KSBN缓冲层能够很有效地克服衬底与SBN薄膜之间较大的晶格失配,在氧气氩气的比例为1∶2,工作气压为1·0Pa,溅射功率300W,衬底温度300℃,退火温度为800℃的工艺条件下,能够获得c轴高度择优取向的铌酸锶钡铁电薄膜.利用X射线衍射仪,原子力显微镜等仪器分析了薄膜的微结构.通过研究SBN薄膜的电流-电压特性(I-V曲线),发现了类似于半导体p-n结的特性,且结效应的强弱与结晶性能的好坏和是否有缓冲层KSBN相关. 展开更多
关键词 磁控溅射 高择优取向 p-n结效应
原文传递
上一页 1 下一页 到第
使用帮助 返回顶部