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抗巨细胞病毒药物-更昔洛韦 被引量:26
1
作者 傅绍军 朱利民 洪枫 《国外医药(抗生素分册)》 CAS 2004年第6期282-286,共5页
第二代抗巨细胞病毒药物更昔洛韦 (GCV)比阿昔洛韦 (ACV )具有更强更广谱的抗病毒作用 ,是高效、低毒、选择性强的病毒抑制剂 ,对人体 6种疱疹病毒感染均有很强的抑制活性 ,已作为抗艾滋病并发致盲性巨细胞病毒 (CMV )感染的一线药物 ;... 第二代抗巨细胞病毒药物更昔洛韦 (GCV)比阿昔洛韦 (ACV )具有更强更广谱的抗病毒作用 ,是高效、低毒、选择性强的病毒抑制剂 ,对人体 6种疱疹病毒感染均有很强的抑制活性 ,已作为抗艾滋病并发致盲性巨细胞病毒 (CMV )感染的一线药物 ;本文综述了抗巨细胞病毒药物更昔洛韦的国内外发展动态 ,药理作用及临床应用 ,文献合成方法以及市场应用前景。 展开更多
关键词 抗巨细胞病毒 更昔洛韦 药物 毒药 临床应用 GCV 巨细胞病毒(CMV) 病毒抑制剂 并发 广谱
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同步辐射真空紫外球面闪耀光栅研究 被引量:5
2
作者 傅绍军 洪义麟 +2 位作者 陶晓明 盛六四 张允武 《中国科学技术大学学报》 CAS CSCD 北大核心 1995年第3期298-301,共4页
采用全息-离子束刻蚀微细加工技术在石英基板上成功地刻蚀出了1200线/mm、闪耀角5°10’的锯齿槽形闪耀光栅.对全息光刻、显影等掩模制作工艺和离子束刻蚀参数的控制等进行了讨论,还给出了在同步辐射光化学光束线上的... 采用全息-离子束刻蚀微细加工技术在石英基板上成功地刻蚀出了1200线/mm、闪耀角5°10’的锯齿槽形闪耀光栅.对全息光刻、显影等掩模制作工艺和离子束刻蚀参数的控制等进行了讨论,还给出了在同步辐射光化学光束线上的测试结果. 展开更多
关键词 同步辐射 闪耀光栅 刻蚀 光刻胶 掩模
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瑞士乳酸杆菌摇瓶发酵条件及产酶条件优化 被引量:11
3
作者 傅绍军 李微 朱利民 《药物生物技术》 CAS CSCD 2005年第6期361-365,共5页
以Lactobacillus helveticusATCC8018为出发菌株,对其液体发酵工艺进行了优化。实验考察了培养液初始pH值,摇床速度,发酵温度,接种量,发酵时间对菌体生长的影响;同时考察了用超声波破碎菌体的条件。实验确定了摇瓶发酵培养的最佳条件:初... 以Lactobacillus helveticusATCC8018为出发菌株,对其液体发酵工艺进行了优化。实验考察了培养液初始pH值,摇床速度,发酵温度,接种量,发酵时间对菌体生长的影响;同时考察了用超声波破碎菌体的条件。实验确定了摇瓶发酵培养的最佳条件:初始pH值6.85,摇床速度115 r/min,发酵温度40℃,接种量5%,发酵40 h后菌体达到稳定生长期;菌体的破碎条件为超声波输出功率为360 W、细胞浓度为20%,超声波每次辐射时间为4 s、间隙时间为6 s,累计辐射时间10 min的效果比较理想。 展开更多
关键词 瑞士乳酸杆菌 液体发酵 破碎条件
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抗HIV和HBV新药L-D4FC 被引量:3
4
作者 傅绍军 朱利民 洪枫 《中国新药杂志》 CAS CSCD 北大核心 2005年第9期1201-1205,共5页
L-D4FC((-)-β-L-2′,3′-双脱氢-2′,3′-双脱氧-5-氟胞苷)是目前报道中最具效力的抗病毒逆转录酶抑制剂,正处于Ⅱ期临床试验中。最新临床研究结果显示,L-D4FC具有疗效高、耐药性好、抗病毒谱宽、不良反应小等优点。该药兼具抗HBV和HI... L-D4FC((-)-β-L-2′,3′-双脱氢-2′,3′-双脱氧-5-氟胞苷)是目前报道中最具效力的抗病毒逆转录酶抑制剂,正处于Ⅱ期临床试验中。最新临床研究结果显示,L-D4FC具有疗效高、耐药性好、抗病毒谱宽、不良反应小等优点。该药兼具抗HBV和HIV双重活性,有可能成为最佳的抗HBV和HIV核苷类似物抑制剂。综述了L-D4FC的药理作用、临床评价及文献合成方法。 展开更多
关键词 L-D4FC 抗HIV病毒药 抗HBV病毒药 药理作用
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离子束刻蚀位相型Ronchi光栅研究 被引量:2
5
作者 傅绍军 洪义麟 +1 位作者 陶晓明 齐开国 《量子电子学》 CSCD 1995年第2期146-149,共4页
本文报道了采用紫外光刻和离子束刻蚀方法制作位相型Ronchi光栅的工艺技术,并对其衍射特性进行了讨论,同时给出实验结果。
关键词 位相型 Ronchi光栅 离子束刻蚀 紫外光刻
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一种制作量子尺寸超微细图形的新方法
6
作者 傅绍军 夏安东 +1 位作者 洪义麟 田扬超 《仪器仪表学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1996年第S1期251-,259,共2页
一种制作量子尺寸超微细图形的新方法傅绍军,夏安东,洪义麟,田扬超(中国科技大学国家同步辐射实验室)0引言具有二维和三维量子限域作用的量子细线和量子点等量子微结构,目前已成为低维物理和材料科学中的一个最活跃的前沿工作。... 一种制作量子尺寸超微细图形的新方法傅绍军,夏安东,洪义麟,田扬超(中国科技大学国家同步辐射实验室)0引言具有二维和三维量子限域作用的量子细线和量子点等量子微结构,目前已成为低维物理和材料科学中的一个最活跃的前沿工作。如何产生这种具有量子尺寸的高质量超... 展开更多
关键词 超微细图形 量子尺寸 量子微结构 国家同步辐射实验室 光栅图形 新方法 透射光栅 中国科技大学 等离子体氧化 电子束曝光
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同步辐射球面闪耀光栅的研制 被引量:8
7
作者 徐向东 洪义麟 +4 位作者 霍同林 周洪军 陶晓明 傅绍军 张允武 《中国科学技术大学学报》 CAS CSCD 北大核心 2000年第2期248-250,共3页
A spherical blazed grating (SBG) of 1200l/mm was successfully fabricated for the Seya Namioka monochromator of photochemistry experiment station at National Synchrotron Radiation Laboratory with the holographic ion be... A spherical blazed grating (SBG) of 1200l/mm was successfully fabricated for the Seya Namioka monochromator of photochemistry experiment station at National Synchrotron Radiation Laboratory with the holographic ion beam technique. In addition to the general process, the photoresist ashing technique is developed for achieving good quality gratings. 展开更多
关键词 离子束刻蚀 光刻胶灰化 同步辐射 球面闪耀光栅
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用于超宽焦斑光束整形的大口径衍射光学元件设计和制作 被引量:6
8
作者 赵逸琼 王建东 +4 位作者 张晓波 李永平 伍源 王旭迪 傅绍军 《量子电子学报》 CAS CSCD 北大核心 2005年第2期150-154,共5页
采用改进混合优化算法首次设计并制作了口径168.7 mm的连续衍射光学元件实现类环形光束入射,输出直径650μm超宽焦斑光束均匀照明。用Nd:YAG脉冲激光器1.064μm波长激光进行实验,获得了与设计尺寸相符、边缘陡峭、无中心尖锐脉冲、具有... 采用改进混合优化算法首次设计并制作了口径168.7 mm的连续衍射光学元件实现类环形光束入射,输出直径650μm超宽焦斑光束均匀照明。用Nd:YAG脉冲激光器1.064μm波长激光进行实验,获得了与设计尺寸相符、边缘陡峭、无中心尖锐脉冲、具有极好的离焦宽容性的宽焦斑,但焦斑顶部不均匀性较大。对此进行了深入的模拟分析,结果表明:焦斑顶部较大的光强调制主要来源于现有的工艺及实验条件误差。 展开更多
关键词 应用光学 衍射光学元件 准梯度下降法 镂空掩膜板 离子束刻蚀
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离子束旋转刻蚀工艺误差对均匀照明的影响 被引量:3
9
作者 徐俊中 赵逸琼 +6 位作者 王炜 李永平 徐向东 周洪军 洪义麟 李涛 傅绍军 《光电工程》 CAS CSCD 北大核心 2001年第6期24-28,共5页
介绍一种离子束旋转刻蚀工艺,该工艺可用于制作真正意义上连续位相分布的衍射光学元件。对工艺系统中离子束不均匀度和基片与掩模板中心对准误差对器件性能的影响作了模拟计算,并根据对误差的模拟分析提出了工艺改进方案。
关键词 旋转刻蚀 误差分析 离子束刻蚀 衍射光学元件 均匀照明
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光刻胶灰化用于全息离子束刻蚀光栅制作 被引量:7
10
作者 徐向东 洪义麟 傅绍军 《真空科学与技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第5期362-364,372,共4页
针对全息离子束刻蚀衍射光栅制作中,光刻胶光栅浮雕图形的制作是至关重要和困难的,引入O2反应离子刻蚀对光刻胶光栅进行灰化处理,给出光刻胶灰化技术在全息离子束刻蚀衍射光栅制作闪耀光栅、浅槽矩形位相光栅、自支撑透射光栅中的具体... 针对全息离子束刻蚀衍射光栅制作中,光刻胶光栅浮雕图形的制作是至关重要和困难的,引入O2反应离子刻蚀对光刻胶光栅进行灰化处理,给出光刻胶灰化技术在全息离子束刻蚀衍射光栅制作闪耀光栅、浅槽矩形位相光栅、自支撑透射光栅中的具体应用。实验结果表明,这一新工艺的突出优点是降低了苛刻的全息曝光、显影要求,使得光栅线条光滑、线空比和槽深可控。 展开更多
关键词 光刻胶灰化 离子束刻蚀 衍射光栅
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用于ICF的位相元件宽容度分析 被引量:3
11
作者 王炜 裴珉 +2 位作者 李永平 李涛 傅绍军 《光电工程》 CAS CSCD 1999年第5期63-68,共6页
分析了用于惯性约束核聚变驱动器的大口径连续型位相元件的宽容度问题,并用计算机模拟了具有一定的频带宽度及随机的位相光强畸变的入射光波对靶场均匀照明的影响。结果显示,所设计的位相元件具有较大的适应性。
关键词 位相元件 宽容度分析 惯性约束 核聚变
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核苷类药物酶法合成研究进展 被引量:14
12
作者 樊华伟 傅绍军 +1 位作者 邵志宇 朱利民 《生物技术通讯》 CAS 2005年第6期690-692,共3页
由于核苷类似物具有很高的抗病毒活性,因为而已成为医药工作者研究的重点。运用酶法合成核苷类似物,已经显示了巨大的优势。本文综述了酶法合成核苷类似物的产生菌种和酶系,以及它们的催化机理,并罗列了已经用于生产或较有使用价值的菌种。
关键词 酶催化 抗病毒药物 核苷磷酸化酶 N-脱氧转移酶
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新型四季通用腰果酚醛酰胺固化剂性能研究及在防腐涂料中的应用 被引量:1
13
作者 傅绍军 李旭锋 伍双全 《中国涂料》 CAS 2023年第8期25-33,55,共10页
合成了腰果酚醛酰胺固化剂,同时考察了腰果酚醛酰胺固化剂、聚酰胺固化剂和腰果酚醛胺固化剂的各项性能。实验结果表明,腰果酚醛酰胺融合了酚醛胺与聚酰胺的诸多优点,同时也弥补了聚酰胺固化剂和酚醛胺固化剂单独使用或混拼使用的部分... 合成了腰果酚醛酰胺固化剂,同时考察了腰果酚醛酰胺固化剂、聚酰胺固化剂和腰果酚醛胺固化剂的各项性能。实验结果表明,腰果酚醛酰胺融合了酚醛胺与聚酰胺的诸多优点,同时也弥补了聚酰胺固化剂和酚醛胺固化剂单独使用或混拼使用的部分技术缺陷。该类型固化剂具有低温快干、柔韧性好、操作期较长的特点;涂膜室温固化和低温固化后性能优异,具有良好的物理机械性能、耐化学溶剂性能和耐盐雾腐蚀性能。 展开更多
关键词 环氧树脂固化剂 腰果酚醛酰胺 四季通用 高固低黏 防腐性能
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酶法合成6-氯嘌呤核苷 被引量:2
14
作者 樊华伟 傅绍军 朱利民 《药物生物技术》 CAS CSCD 2006年第2期127-130,共4页
利用菌种Lactobacillus helveticus(ATCC 10697)所产生的N-脱氧核糖转移酶,以底物鸟苷和6-氯嘌呤为原料通过碱基交换合成6-氯嘌呤核苷,并优化了反应条件,25 m1的锥形瓶装有反应液10 ml,结果显示最佳反应条件如下:底物最适反应浓度为3... 利用菌种Lactobacillus helveticus(ATCC 10697)所产生的N-脱氧核糖转移酶,以底物鸟苷和6-氯嘌呤为原料通过碱基交换合成6-氯嘌呤核苷,并优化了反应条件,25 m1的锥形瓶装有反应液10 ml,结果显示最佳反应条件如下:底物最适反应浓度为30 mmol/L(鸟苷)和10 mmol/L(6-氯嘌呤),菌体添加量8%~10%(湿重),反应温度40℃,0.1 mol/L磷酸缓冲液(pH值6.0),摇床转速120 r/min,反应时间24 h,6-氯嘌呤核苷收率可达到51.6%,具有较好的应用前景. 展开更多
关键词 6-氯嘌呤核苷 瑞士乳杆菌 N-脱氧核糖转移酶 酶法合成
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光刻胶灰化技术用于同步辐射闪耀光栅制作 被引量:5
15
作者 徐向东 周洪军 +3 位作者 洪义麟 霍同林 陶晓明 傅绍军 《微细加工技术》 2000年第3期35-38,共4页
在分析光刻胶光栅浮雕图形缺陷成因的基础上 ,首次将光刻胶灰化工艺引入到全息 离子束刻蚀制作闪耀光栅工艺中 ,并成功地为国家同步辐射实验室光化学站制作了 1 2 0 0 1 /mm ,闪耀波长为 1 30nm的锯齿槽形光栅。测试结果表明光刻胶灰化... 在分析光刻胶光栅浮雕图形缺陷成因的基础上 ,首次将光刻胶灰化工艺引入到全息 离子束刻蚀制作闪耀光栅工艺中 ,并成功地为国家同步辐射实验室光化学站制作了 1 2 0 0 1 /mm ,闪耀波长为 1 30nm的锯齿槽形光栅。测试结果表明光刻胶灰化处理对制作大面积优质的光刻胶光栅非常有效和实用。 展开更多
关键词 全息光刻 离子束刻蚀 光刻胶灰化工艺
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软X射线透射光栅支撑结构的制作工艺研究 被引量:2
16
作者 徐向东 洪义麟 +4 位作者 田扬超 霍同林 周洪军 陶晓明 傅绍军 《微细加工技术》 2001年第3期22-25,共4页
在简述软X射线自支撑透射光栅制作工艺的基础上 ,重点研究支撑结构制作中的紫外光刻和电镀两步工艺。紫外光刻中的菲涅耳衍射会造成光刻胶不能显影到底或起保护作用的光刻胶面积减小、厚度减薄 ;比较了两个不同电镀条件下的电镀实验结... 在简述软X射线自支撑透射光栅制作工艺的基础上 ,重点研究支撑结构制作中的紫外光刻和电镀两步工艺。紫外光刻中的菲涅耳衍射会造成光刻胶不能显影到底或起保护作用的光刻胶面积减小、厚度减薄 ;比较了两个不同电镀条件下的电镀实验结果 ,结果表明低的温度和电流密度 ( 40℃、1 .5mA/cm2 )下的镀膜致密、光滑 ,应力小 ,对光栅结构无任何影响 ;高的温度和电流密度 ( 47℃、5.6mA/cm2 )下的镀膜相对粗糙、应力大 ,造成光栅线条的扭曲、并拢 ,甚至拉断光栅线条。 展开更多
关键词 全息光刻 透射光栅 软X射线 微电镀 制作工艺
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亚微米结构高Tc超导探测器研制
17
作者 刘心田 陆惠秀 +5 位作者 刘兴海 李标 褚君浩 胡一贯 洪义麟 傅绍军 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1998年第5期381-385,共5页
应用同步辐射技术对YBCO超导薄膜进行光刻,获得0.8μm间隔的折线结构,研制成亚微米结构高Tc超导薄膜红外探测器,敏感元接收红外辐射能量提高约42%.器件的最好探测率D*达到1.8×1010cmH1/2ZW-1... 应用同步辐射技术对YBCO超导薄膜进行光刻,获得0.8μm间隔的折线结构,研制成亚微米结构高Tc超导薄膜红外探测器,敏感元接收红外辐射能量提高约42%.器件的最好探测率D*达到1.8×1010cmH1/2ZW-1,工作温度约90K. 展开更多
关键词 红外探测器 超导器件 YBCO 高TC 亚微米
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合肥国家同步辐射光源软X射线束空间相干性实验研究
18
作者 徐向东 洪义麟 +3 位作者 霍同林 周洪军 陶晓明 傅绍军 《光子学报》 EI CAS CSCD 2000年第12期1087-1089,共3页
本文从实验角度对合肥国家同步辐射实验室软 X射线束的空间相干性进行了研究 .利用放置在物面上的高分辨正性光刻胶 ,记录了中心波长为 3.2 nm的波带片和针孔直径为30 μm组合的光场分布 (光斑 ) ,获得相应条件下的爱里斑及空间相干直... 本文从实验角度对合肥国家同步辐射实验室软 X射线束的空间相干性进行了研究 .利用放置在物面上的高分辨正性光刻胶 ,记录了中心波长为 3.2 nm的波带片和针孔直径为30 μm组合的光场分布 (光斑 ) ,获得相应条件下的爱里斑及空间相干直径实验数据 ;完成了一个双缝干涉实验 . 展开更多
关键词 软X射线 空间相干性 干涉 同步辐射光源
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LIGA技术制作微细金属图形的研究
19
作者 田扬超 傅绍军 +1 位作者 洪义磷 胡一贯 《仪器仪表学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1996年第S1期208-209,共2页
本文介绍了用LIGA技术制作微细金属图形的原理及工艺过程,讨论了影响金属图形质量的因素,同时报导了国家同步辐射实验室用LIGA技术研究微细金属图形的结果。
关键词 技术制作 光刻胶 同步辐射光刻 国家同步辐射实验室 工艺过程 图形质量 LIGA 微细加工技术 中国科学技术大学 金属层
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氮化硅窗口在大气环境软X射线接触成像中的应用研究
20
作者 徐向东 洪义麟 +3 位作者 霍同林 陶晓明 蒋诗平 傅绍军 《真空科学与技术》 CSCD 北大核心 2001年第1期47-50,共4页
成功地研制了将软X射线引入大气中的氮化硅窗口。根据具体数据 ,对大气环境下软X射线接触成像的水窗软X射线衰减进行了估算 ;给出成像实验结果并观察到了氮化硅膜上的微粒图像叠加在样品图像上的现象。所得结果与理论估算相一致。即使用... 成功地研制了将软X射线引入大气中的氮化硅窗口。根据具体数据 ,对大气环境下软X射线接触成像的水窗软X射线衰减进行了估算 ;给出成像实验结果并观察到了氮化硅膜上的微粒图像叠加在样品图像上的现象。所得结果与理论估算相一致。即使用 3 2nm的软X射线时 ,同一样品在大气环境中所需的曝光量约为真空中的两倍。这些结果将十分有益于大气环境下的软X射线接触显微术及软X射线扫描透射显微术的研究。 展开更多
关键词 软X射线 线性吸收系数 接触成像 氮化硅窗口 显微成像 显微术
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