同步辐射光束线中柔性铰链的研究

详细推导了直圆柔性铰链所受力矩和角偏移量及受力和线性位移之间的对应关系等运动方程 ;对直圆柔性铰链材料的选取、直圆柔性铰链参数的设计进行了分析 ;介绍了在同步辐射单色器中以直圆柔性铰链为基础投角、滚角、摆角调节结构。

弧矢聚焦双晶单色器性能的提高

本文从理论上分析了聚焦双晶单色器的双晶在不同方向偏离理想位置所引起的双晶Bragg角偏差Δθ ,为设计研制单色器双晶的安装精度或微动调试精度提供了理论依据 。

同步辐射弧矢聚焦双晶单色器传输效率的研究

本文对理想弧矢聚焦双晶单色器的相对传输效率进行理论分析 ;对第一晶体受高热负载发生的形变及第二晶体的鞍型形变对单色器的传输效率影响的原因 ,抑制第一晶体热形变、第二晶体鞍型形变所采取的结构和方法进行了简单的叙述 ;并对采取直接水冷的第一晶体和背部加肋的第二晶体进行了 SHADOW光学追踪分析 ;进而得出整个单色器的实际传输效率 .

同步辐射弧矢聚焦晶体压弯原理

本文通过优化晶体弯曲过程的旋转点 ,理论上分析了弧矢聚焦晶体弯曲原理、弯曲所造成的系统误差以及弯曲过程中晶体面形精度的变化 ;

弧矢聚焦双晶单色器聚焦误差分析

简单介绍了弧矢聚焦单色仪的分光原理及结构原理 ,分析了同步辐射弧矢聚焦双晶单色器实际转轴偏离理想转轴ΔS及晶面偏离与导轨的理想夹角Δα对出射光高度的影响 ,并对弧矢聚焦晶体压弯半径的压弯精度Δh对实验站聚焦光斑展宽的作用进行了理论推导。当ΔS≤ 31μm、Δα ≤ 1′,就可以确保出射光线高度误差Δh≤ 2 5 μm ;当对称压弯第二晶体所需微位移器的行程≥ 1mm、精度≤ 1.2 5 μm时 ,可满足聚焦光斑的展宽≤ 0 .5mm要求 ,且当压弯半径R的弯曲精度在ΔR≤ 0 .75 %R的范围内不需对晶体压弯。

半圆盘式液体折射率计

本文介绍了一种光电液体折射率计的理论解析、测量原理、系统构成与实验结果 ,从理论研究与实验结果表明本折射率计有较好可行性。

Sagittal聚焦晶体柔性铰链压弯机构研究

分析了弧矢聚焦晶体弯曲原理及柔性铰链运动方程 ,阐述了弧矢聚焦晶体柔性铰链压弯机构的原理 ,同时提出了抑制子午形变的有效方法。该压弯机构在 5— 2 0keV能量扫描范围内 ,弧矢聚焦比为 3:1,聚焦曲率相对误差 <0 .75 % ,聚焦光斑弥散为 2 5 % ,在 10keV时聚焦面形误差 <2”。

实现公平机制 构建和谐社会

本文分析了社会主义和谐社会的本质与内涵,探讨了公平与和谐的关系,提出以社会公平建设为切入点,实现构建社会主义和谐社会的目标,并从六个方面提出了通过实现公平机制,构建社会主义和谐社会的对策建议。

离子束溅射制备氧化物薄膜沉积速率调整方法

采用正交试验设计方法,系统研究了离子束溅射HfO2、Ta2O5和SiO2薄膜的沉积速率与工艺参数(基板温度、离子束压、离子束流和氧气流量)之间的关联性。采用正交表L9(34)设计了9组实验,采用时间监控的离子束溅射沉积方法,分别制备HfO2、Ta2O5和SiO2薄膜,并对三种薄膜的27个样品采用椭圆偏振法测量并计算物理厚度,继而获得沉积速率。实验结果表明:对Ta2O5和SiO2薄膜沉积速率影响的工艺参数相同,影响权重从大到小依次为离子束流、离子束压、氧气流量和基板温度;对HfO2薄膜沉积速率影响的工艺参数按权重从大到小依次为离子束流、离子束压、基板温度和氧气流量。研究结果为调整HfO2、Ta2O5和SiO2薄膜沉积速率提供了依据。

离子束溅射参数与Ta_2O_5薄膜特性的关联性

离子束溅射技术是制备Ta2O5薄膜的重要技术之一。采用正交试验设计方法,系统研究了Ta2O5薄膜的折射率、折射率非均匀性、消光系数、沉积速率和应力与工艺参数(基板温度、离子束压、离子束流和氧气流量)之间的关联性。通过使用分光光度计和椭圆偏振仪测量Ta2O5薄膜透过率光谱和反射椭偏特性,再利用全光谱反演计算的方法获得薄膜的折射率、折射率非均匀性、消光系数和物理厚度。Ta2O5薄膜的应力通过测量基底镀膜前后的表面变形量计算得到。实验结果表明:基板温度是影响Ta2O5薄膜特性的共性关键要素,其他工艺参数的选择与需求的薄膜特性相关。研究结果对于制备不同应用的Ta2O5薄膜制备工艺参数选择具有指导意义。

弱吸收单面薄膜光学特性的表征方法

光谱法是测量光学薄膜光学性能的重要方法之一,能够直接表征薄膜-基底系统的光学特性,如:反射率、透过率和吸收率。通过研究薄膜-基底系统的光传输特性,推导出在基底具有弱吸收的一般条件下薄膜-基底系统反射率、透射率和吸收率的表达式,确定了通过测量单面和双面抛光基底及其薄膜特性间接获得薄膜单面光学特性的方法;在实验中使用Lambda-900分光光度计对熔融石英基底的HfO2薄膜进行了测试,并通过测量误差分析,薄膜的单面反射率误差为1.00%,单面透过率的误差为0.601%。研究结果表明文中方法可适用于各类薄膜单面特性的表征与评价。

同步辐射硬X射线弧矢聚焦单色化技术的研究

介绍了光束在5～25keV弧矢聚焦单色仪中的单色化及聚焦原理。光束弧矢聚焦单色化原理是指以Bragg定律(2dsinθ=nλ)为基础,改变Bragg角θ,获得所需的波长λ来实现光束的单色化。根据Bragg角θ和压弯晶体的弧矢半径R之间的关系,使单色光束通过弧矢聚焦晶体改变方向并实现单色光聚焦;说明了以柔性铰链为基础的弧矢压弯原理、压弯晶体鞍型形变的抑制、保证出射光与入射光高差固定的结构原理、压弯晶体衍射面面形误差的有限元分析结果;给出了实验结果。

双晶单色器弧矢聚焦晶体面形有限元分析

简要介绍了弧矢聚焦双晶单色器的基本原理、聚焦晶体的压弯以及鞍形形变的抑制,提出了柔性铰链弧矢聚焦晶体压弯机构,对弧矢聚焦晶体衍射面的子午形变和弧矢弯曲面形进行了有限元分析;用光学追踪程序SHADOW得出了弧矢聚焦晶体衍射面面形对单色器的光通量和分辨率的影响。

同步辐射光束弧矢聚焦单色化技术

本文介绍了同步辐射 (SR)光束 5～ 2 5 Ke V弧矢聚焦双晶单色仪的单色化及聚焦原理 ,即以 Bragg定律为基础 ,改变 Bragg角θ,获得所需的波长λ实现光束的单色化 ;根据 Bragg角θ和压弯晶体的弧矢半径 ,R之间的关系 ,使单色光束通过压弯晶体改变方向实现单色光聚焦。文中并说明了基于柔性铰链的压弯晶体的压弯原理、压弯晶体鞍形变的抑制。