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水蒸气添加对纳秒脉冲激励氩气DBD放电特性的影响 被引量:9
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作者 储海靖 刘峰 +1 位作者 庄越 方志 《高电压技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2021年第3期885-893,共9页
为了制备高能效、高活性且均匀稳定的大气压等离子体源,利用纳秒脉冲电源驱动氩气介质阻挡放电(dielectricbarrierdischarge,DBD),并添加H2O增强等离子体活性。通过电学及光学诊断方法,系统分析研究了H2O体积分数对放电特性的影响规律,... 为了制备高能效、高活性且均匀稳定的大气压等离子体源,利用纳秒脉冲电源驱动氩气介质阻挡放电(dielectricbarrierdischarge,DBD),并添加H2O增强等离子体活性。通过电学及光学诊断方法,系统分析研究了H2O体积分数对放电特性的影响规律,并利用图像灰度标准差方法和等效电路模型方法,定量计算了放电均匀性和放电微观参量。结果表明,纳秒脉冲激励氩气DBD中H2O体积分数较低(0%~0.2%)时具有较好均匀性,当H2O体积分数升高后,其吸附电子引起空间电场畸变,产生明亮放电细丝导致放电均匀性降低,过量H2O添加会使放电熄灭;由于添加少量H2O可促进等离子体中电离过程,传输电荷、放电平均功率及能量效率随着H2O体积分数增加而增加,并在H2O体积分数为0.1%时达到极大值,之后随着H2O体积分数增加而减少。通过OH和Ar激发态粒子发射光谱强度表征等离子体活性,发现当H2O体积分数达到0.1%时,OH和Ar谱线强度达到最大,Ar激发态粒子发射光谱强度比值表明电子能量随着H2O体积分数增加而升高,在H2O体积分数为0.1%时达到最大值,之后降低。 展开更多
关键词 纳秒脉冲 介质阻挡放电 水蒸气 放电特性 均匀性
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交流和纳秒脉冲Ar/H_(2)O介质阻挡放电聚丙烯材料表面亲水改性对比研究 被引量:2
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作者 庄越 刘峰 +1 位作者 储海靖 方志 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2021年第6期138-146,共9页
为了提高等离子体对聚合物材料表面处理的应用效果,优化亲水处理的条件,研究了交流和纳秒脉冲氩气介质阻挡放电(DBD)中添加适量H2O,对聚丙烯(PP)亲水改性的处理效果。利用电学和光学诊断方法,系统地对比了交流DBD和纳秒脉冲DBD的放电特... 为了提高等离子体对聚合物材料表面处理的应用效果,优化亲水处理的条件,研究了交流和纳秒脉冲氩气介质阻挡放电(DBD)中添加适量H2O,对聚丙烯(PP)亲水改性的处理效果。利用电学和光学诊断方法,系统地对比了交流DBD和纳秒脉冲DBD的放电特性,结果表明,纳秒电源驱动DBD具有更高的放电瞬时功率,更好的放电均匀性和更高的能量效率。通过测量不同水蒸气含量下DBD的OH发射光谱强度,确定了PP材料亲水性处理中H2O添加的最优含量。利用交流和纳秒脉冲电源驱动DBD分别对PP材料进行亲水改性的处理,测量了不同条件下改性处理后的表面水接触角,并利用原子力显微镜(AFM)和傅里叶红外光谱(FTIR)分别对处理前后PP材料的表面物理形貌和表面化学成分进行分析。结果发现,经DBD处理后PP材料的水接触角明显降低,表面粗糙度明显增大,表面的亲水性含氧基团,羟基(-OH)和羰基(C=O)的数量大幅增加。相比交流电源,纳秒脉冲DBD处理的改性效果更好,其处理后的材料表面水接触角,比交流DBD处理的低5°左右,表面粗糙度也有所提升。而水蒸气的加入可使PP材料的表面水接触角进一步减小4°左右,表面粗糙度明显提升。研究结果为优化DBD聚合物材料表面改性实验条件及处理的效果提供了重要的参考依据。 展开更多
关键词 聚丙烯 材料表面改性 水蒸气 介质阻挡放电 纳秒脉冲电源
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The investigation of OH radicals produced in a DC glow discharge by laser-induced fluorescence spectrometry 被引量:1
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作者 刘峰 庄越 +2 位作者 储海靖 方志 王文春 《Plasma Science and Technology》 SCIE EI CAS CSCD 2021年第6期12-20,共9页
In this paper the OH radicals produced by a needle-plate negative DC discharge in water vapor,N_(2)+H_(2)O mixture gas and He+H_(2)O mixture gas are investigated by a laser-induced fluorescence(LIF)system.With a balla... In this paper the OH radicals produced by a needle-plate negative DC discharge in water vapor,N_(2)+H_(2)O mixture gas and He+H_(2)O mixture gas are investigated by a laser-induced fluorescence(LIF)system.With a ballast resistor in the circuit,the discharge current is limited and the discharges remain in glow.The OH rotation temperature is obtained from fluorescence rotational branch fitting,and is about 350 K in pure water vapor.The effects of the discharge current and gas pressure on the production and quenching processes of OH radicals are investigated.The results show that in water vapor and He+H_(2)O mixture gas the fluorescence intensity of OH stays nearly constant with increasing discharge current,and in N_(2)+H_(2)O mixture gas the fluorescence intensity of OH increases with increasing discharge current.In water vapor and N_(2)+H_(2)O mixture gas the fluorescence intensity of OH decreases with increasing gas pressure in the studied pressure range,and in He+H_(2)O mixture gas the fluorescence intensity of OH shows a maximum value within the studied gas pressure range.The physicochemical reactions between electrons,radicals,ground and metastable molecules are discussed.The results in this work contribute to the optimization of plasma reactivity and the establishment of a molecule reaction dynamics model. 展开更多
关键词 laser-induced fluorescence OH radicals rotational temperature water vapor
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