化学气相沉积法制备大面积石墨烯及其光谱学表征

化学气相沉积（CVD）法是近年来发展起来的制备石墨烯的新方法。该方法产物具有生长面积大、质量高等优点，逐渐成为制备石墨烯的主要方法。用CVD法在常压下通过全面优化实验参量，以镍箔为基底制备了大面积少数层和单层石墨烯，用拉曼光谱，场发射扫描电子显微镜（SEM）和原子力显微镜（AFM）手段表征，通过分析常压下不同温度、不同载气成分比等实验参数，最终获得制备高质量、大面积、少数层石墨烯的最佳参量，用双共振理论解释少数层和单层石墨烯的拉曼光谱中2D峰强度随石墨烯层数变化而变化的原理。CVD法制备的石墨烯具有面积大、低成本、可测量性强、可用于大批量生产的优点，为工业用途石墨烯的制备提供了有效途径。