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SiH_4的制造方法
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作者 八(金刄)吉文 林良一 韩美 《低温与特气》 CAS 1986年第4期20-25,共6页
SiH4历来用作制造半导体用多晶硅、外延膜生长、硅器件钝化膜和聚硅膜等的原料气。目前，以发现非晶硅(a-Si：H)为契机，有关SiH4的应用研究就活跃起来了。而且，非晶硅的一部分已作为非晶形太阳电池和静电复印机用的感光磁鼓出售，体... SiH4历来用作制造半导体用多晶硅、外延膜生长、硅器件钝化膜和聚硅膜等的原料气。目前，以发现非晶硅(a-Si：H)为契机，有关SiH4的应用研究就活跃起来了。而且，非晶硅的一部分已作为非晶形太阳电池和静电复印机用的感光磁鼓出售，体现了对SiH4的一部分需要。 展开更多
关键词 SIH4 制造方法 静电复印 太阳电池 非晶硅 多晶硅 半导体 膜生长 原料气 钝化膜 硅器件 非晶形
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