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微光刻中的驻波效应研究
1
作者
冯伯编
张锦
+1 位作者
范建兴
陈芬
《微细加工技术》
1998年第2期51-60,共10页
本文阐述了驻波效应的成因及其对微细图形光刻,特别是对深亚微米和亚半微米光刻的影响;分析了驻波强度分布;根据抗蚀剂的物理和化学机制,建立了抗蚀剂显影过程的数学和物理模型,并开展了计算机模拟和光刻曝光实验;研究了减小驻波...
本文阐述了驻波效应的成因及其对微细图形光刻,特别是对深亚微米和亚半微米光刻的影响;分析了驻波强度分布;根据抗蚀剂的物理和化学机制,建立了抗蚀剂显影过程的数学和物理模型,并开展了计算机模拟和光刻曝光实验;研究了减小驻波效应的方法;给出了部分模拟和实验结果。
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关键词
驻波效应
光刻技术
集成电路
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职称材料
题名
微光刻中的驻波效应研究
1
作者
冯伯编
张锦
范建兴
陈芬
机构
中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室
出处
《微细加工技术》
1998年第2期51-60,共10页
基金
微细加工光学技术国家重点实验室基金
文摘
本文阐述了驻波效应的成因及其对微细图形光刻,特别是对深亚微米和亚半微米光刻的影响;分析了驻波强度分布;根据抗蚀剂的物理和化学机制,建立了抗蚀剂显影过程的数学和物理模型,并开展了计算机模拟和光刻曝光实验;研究了减小驻波效应的方法;给出了部分模拟和实验结果。
关键词
驻波效应
光刻技术
集成电路
Keywords
Standing wave effect
Optical lithography
Simulation
分类号
TN405.7 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
微光刻中的驻波效应研究
冯伯编
张锦
范建兴
陈芬
《微细加工技术》
1998
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