在(111)Si基底上直接溅射合成PbTiO_3薄膜以及Pb损失的抑制

利用射频磁控溅射系统，采用 Ｔｉ、Ｐｂ组合靶，以 Ｏ２为反应气体，在（ １１１） Ｓｉ基板上直接沉积 ＰｂＴｉＯ３薄膜，通过对不同基底温度以及沉积后的薄膜在不同的氧气氛中来用不同的降温速率降温制备。通过对所得的薄膜的结构和组成以及光学和电学特性的测试、分析得出：在５３５℃时沉积、溅射后直接充入 １０７Ｐａ的氧气并且以 ３℃／ｍｉｎ的速率降至室温，制备出了性能较好的具有钙钛矿结构的ＰｂＴｉＯ３薄膜。并对薄膜的形成机理进行了探讨。

对蓝宝石衬底上射频溅射的PbTiO_3薄膜的光学特性研究

使用射频溅射和组合靶在蓝宝石 (α Al2 O3)基底上制备出了结构较好的PbTiO3 薄膜 ,提出了一种利用透射光谱来简单有效地分析弱吸收薄膜的光学特性及与光学相关的其它物理特性的方法。得出了该薄膜在 40 0nm～2 40 0nm区域内的折射率、消光系数等参量与波长的变化关系和与之相符合的柯西 (Cauchy)色散公式 ,并通过外推的方法估算出了薄膜的光学能量带隙为 3.6 5eV。