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氧化铁超微粉相变过程研究
被引量:
19
1
作者
冯蕴道
何贤昶
+1 位作者
曾桓兴
沈瑜生
《硅酸盐学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1994年第3期309-313,共5页
对用低温PCVD方法制备的氧化铁超微粉从初始生成态到800℃退火后不同阶段的晶化和相变过程进行了较系统的研究。结果表明,初始生成物为β-Fe_2O_3,退火后逐渐转变为γ-Fe_2O_3,继而转变为α-Fe_2O_3...
对用低温PCVD方法制备的氧化铁超微粉从初始生成态到800℃退火后不同阶段的晶化和相变过程进行了较系统的研究。结果表明,初始生成物为β-Fe_2O_3,退火后逐渐转变为γ-Fe_2O_3,继而转变为α-Fe_2O_3,到800℃形成单一的α-Fe_2O_3,这些相变和晶化过程是一种缓慢的渐变过程。
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关键词
氧化铁
超微粉
相变
晶化
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职称材料
MO-PECVD SnO_(2-x)气敏薄膜
被引量:
1
2
作者
李支文
冯蕴道
+1 位作者
崔宇平
沈瑜生
《功能材料》
EI
CAS
CSCD
1993年第2期123-128,共6页
以金属有机化合物(MO)四甲基锡[sn(CH_3)_4]为源物质,利用等离子体增强化学气相沉积技术,分别在单晶硅片、三氧化二铝陶瓷基片上淀积了纯净的SnO_(2-x)薄膜,对淀积的一些工艺条件,膜的结构、成分和薄膜元件的气敏性能进行了研究,并与普...
以金属有机化合物(MO)四甲基锡[sn(CH_3)_4]为源物质,利用等离子体增强化学气相沉积技术,分别在单晶硅片、三氧化二铝陶瓷基片上淀积了纯净的SnO_(2-x)薄膜,对淀积的一些工艺条件,膜的结构、成分和薄膜元件的气敏性能进行了研究,并与普通PECVDSnO_(2-x)薄膜元件的气敏性能作了比较,对SnO_(2-x)膜的气敏机理作了探讨。
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关键词
半导体材料
气敏薄膜
气相淀积
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职称材料
氧化铁超微粉相变过程研究
3
作者
冯蕴道
何贤昶
《上海轻工业高等专科学校学报》
1996年第3期43-47,共5页
对用低温PCVD方法制备的氧化铁超微粉从初始生成态到800℃退火后不同阶段的晶化和相变过程进行了较系统的研究。结果表明,初始生成物为β-Fe2O3,退火后逐渐转变为γ-Fe2O3,到800℃形成单一的α-Fe2O3,...
对用低温PCVD方法制备的氧化铁超微粉从初始生成态到800℃退火后不同阶段的晶化和相变过程进行了较系统的研究。结果表明,初始生成物为β-Fe2O3,退火后逐渐转变为γ-Fe2O3,到800℃形成单一的α-Fe2O3,这睦相变和晶化过程是一种缓慢的渐变过程.
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关键词
氧化铁
超微粉
相变过程
PCVD
制备
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职称材料
制备方法对SnO_2超微粉气敏性的影响
被引量:
3
4
作者
刘勇
沈瑜生
+1 位作者
孙彤
冯蕴道
《中国科学技术大学学报》
CAS
CSCD
北大核心
1994年第2期225-229,共5页
本文采用透射电镜(TEM),光电子能谱(XPS)等手段,对溶液沉淀法和低温等离子体法制备的SnO2超微粉的微结构进行了分析比较.通过计算得到了它们的表面氧吸附活化能值,说明不同的制备方法对粉料的活性有很大影响,从而影...
本文采用透射电镜(TEM),光电子能谱(XPS)等手段,对溶液沉淀法和低温等离子体法制备的SnO2超微粉的微结构进行了分析比较.通过计算得到了它们的表面氧吸附活化能值,说明不同的制备方法对粉料的活性有很大影响,从而影响用这种粉料制备的气敏元件的气敏特性.
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关键词
气敏特性
氧化锡
超微粉
微结构
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职称材料
题名
氧化铁超微粉相变过程研究
被引量:
19
1
作者
冯蕴道
何贤昶
曾桓兴
沈瑜生
机构
上海轻工业专科学校
出处
《硅酸盐学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1994年第3期309-313,共5页
基金
国家自然科学基金
文摘
对用低温PCVD方法制备的氧化铁超微粉从初始生成态到800℃退火后不同阶段的晶化和相变过程进行了较系统的研究。结果表明,初始生成物为β-Fe_2O_3,退火后逐渐转变为γ-Fe_2O_3,继而转变为α-Fe_2O_3,到800℃形成单一的α-Fe_2O_3,这些相变和晶化过程是一种缓慢的渐变过程。
关键词
氧化铁
超微粉
相变
晶化
Keywords
iron oxide, super fine powder, phase transformation, crystallization
分类号
TQ138.11 [化学工程—无机化工]
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职称材料
题名
MO-PECVD SnO_(2-x)气敏薄膜
被引量:
1
2
作者
李支文
冯蕴道
崔宇平
沈瑜生
机构
中国科学技术大学
上海轻工业专科学校
出处
《功能材料》
EI
CAS
CSCD
1993年第2期123-128,共6页
基金
国家自然科学基金项目
文摘
以金属有机化合物(MO)四甲基锡[sn(CH_3)_4]为源物质,利用等离子体增强化学气相沉积技术,分别在单晶硅片、三氧化二铝陶瓷基片上淀积了纯净的SnO_(2-x)薄膜,对淀积的一些工艺条件,膜的结构、成分和薄膜元件的气敏性能进行了研究,并与普通PECVDSnO_(2-x)薄膜元件的气敏性能作了比较,对SnO_(2-x)膜的气敏机理作了探讨。
关键词
半导体材料
气敏薄膜
气相淀积
Keywords
metallorganic compound,PECVD(plasma enhanced chemical vapor deposition)SnO_(2-x),Gas-sensing or gas Sensor
分类号
TN304.055 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
氧化铁超微粉相变过程研究
3
作者
冯蕴道
何贤昶
机构
上海轻工业高等专科学校基础部
上海交通大学
出处
《上海轻工业高等专科学校学报》
1996年第3期43-47,共5页
文摘
对用低温PCVD方法制备的氧化铁超微粉从初始生成态到800℃退火后不同阶段的晶化和相变过程进行了较系统的研究。结果表明,初始生成物为β-Fe2O3,退火后逐渐转变为γ-Fe2O3,到800℃形成单一的α-Fe2O3,这睦相变和晶化过程是一种缓慢的渐变过程.
关键词
氧化铁
超微粉
相变过程
PCVD
制备
分类号
TQ586.1 [化学工程—精细化工]
TQ138.11 [化学工程—无机化工]
下载PDF
职称材料
题名
制备方法对SnO_2超微粉气敏性的影响
被引量:
3
4
作者
刘勇
沈瑜生
孙彤
冯蕴道
出处
《中国科学技术大学学报》
CAS
CSCD
北大核心
1994年第2期225-229,共5页
基金
国家自然科学基金
文摘
本文采用透射电镜(TEM),光电子能谱(XPS)等手段,对溶液沉淀法和低温等离子体法制备的SnO2超微粉的微结构进行了分析比较.通过计算得到了它们的表面氧吸附活化能值,说明不同的制备方法对粉料的活性有很大影响,从而影响用这种粉料制备的气敏元件的气敏特性.
关键词
气敏特性
氧化锡
超微粉
微结构
Keywords
precipitation, PECVD, surface adsorption energy, gas sensitivity.
分类号
TN304.9 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
氧化铁超微粉相变过程研究
冯蕴道
何贤昶
曾桓兴
沈瑜生
《硅酸盐学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1994
19
下载PDF
职称材料
2
MO-PECVD SnO_(2-x)气敏薄膜
李支文
冯蕴道
崔宇平
沈瑜生
《功能材料》
EI
CAS
CSCD
1993
1
下载PDF
职称材料
3
氧化铁超微粉相变过程研究
冯蕴道
何贤昶
《上海轻工业高等专科学校学报》
1996
0
下载PDF
职称材料
4
制备方法对SnO_2超微粉气敏性的影响
刘勇
沈瑜生
孙彤
冯蕴道
《中国科学技术大学学报》
CAS
CSCD
北大核心
1994
3
下载PDF
职称材料
已选择
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