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氧化铁超微粉相变过程研究 被引量:19
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作者 冯蕴道 何贤昶 +1 位作者 曾桓兴 沈瑜生 《硅酸盐学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1994年第3期309-313,共5页
对用低温PCVD方法制备的氧化铁超微粉从初始生成态到800℃退火后不同阶段的晶化和相变过程进行了较系统的研究。结果表明,初始生成物为β-Fe_2O_3,退火后逐渐转变为γ-Fe_2O_3,继而转变为α-Fe_2O_3... 对用低温PCVD方法制备的氧化铁超微粉从初始生成态到800℃退火后不同阶段的晶化和相变过程进行了较系统的研究。结果表明,初始生成物为β-Fe_2O_3,退火后逐渐转变为γ-Fe_2O_3,继而转变为α-Fe_2O_3,到800℃形成单一的α-Fe_2O_3,这些相变和晶化过程是一种缓慢的渐变过程。 展开更多
关键词 氧化铁 超微粉 相变 晶化
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MO-PECVD SnO_(2-x)气敏薄膜 被引量:1
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作者 李支文 冯蕴道 +1 位作者 崔宇平 沈瑜生 《功能材料》 EI CAS CSCD 1993年第2期123-128,共6页
以金属有机化合物(MO)四甲基锡[sn(CH_3)_4]为源物质,利用等离子体增强化学气相沉积技术,分别在单晶硅片、三氧化二铝陶瓷基片上淀积了纯净的SnO_(2-x)薄膜,对淀积的一些工艺条件,膜的结构、成分和薄膜元件的气敏性能进行了研究,并与普... 以金属有机化合物(MO)四甲基锡[sn(CH_3)_4]为源物质,利用等离子体增强化学气相沉积技术,分别在单晶硅片、三氧化二铝陶瓷基片上淀积了纯净的SnO_(2-x)薄膜,对淀积的一些工艺条件,膜的结构、成分和薄膜元件的气敏性能进行了研究,并与普通PECVDSnO_(2-x)薄膜元件的气敏性能作了比较,对SnO_(2-x)膜的气敏机理作了探讨。 展开更多
关键词 半导体材料 气敏薄膜 气相淀积
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氧化铁超微粉相变过程研究
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作者 冯蕴道 何贤昶 《上海轻工业高等专科学校学报》 1996年第3期43-47,共5页
对用低温PCVD方法制备的氧化铁超微粉从初始生成态到800℃退火后不同阶段的晶化和相变过程进行了较系统的研究。结果表明,初始生成物为β-Fe2O3,退火后逐渐转变为γ-Fe2O3,到800℃形成单一的α-Fe2O3,... 对用低温PCVD方法制备的氧化铁超微粉从初始生成态到800℃退火后不同阶段的晶化和相变过程进行了较系统的研究。结果表明,初始生成物为β-Fe2O3,退火后逐渐转变为γ-Fe2O3,到800℃形成单一的α-Fe2O3,这睦相变和晶化过程是一种缓慢的渐变过程. 展开更多
关键词 氧化铁 超微粉 相变过程 PCVD 制备
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制备方法对SnO_2超微粉气敏性的影响 被引量:3
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作者 刘勇 沈瑜生 +1 位作者 孙彤 冯蕴道 《中国科学技术大学学报》 CAS CSCD 北大核心 1994年第2期225-229,共5页
本文采用透射电镜(TEM),光电子能谱(XPS)等手段,对溶液沉淀法和低温等离子体法制备的SnO2超微粉的微结构进行了分析比较.通过计算得到了它们的表面氧吸附活化能值,说明不同的制备方法对粉料的活性有很大影响,从而影... 本文采用透射电镜(TEM),光电子能谱(XPS)等手段,对溶液沉淀法和低温等离子体法制备的SnO2超微粉的微结构进行了分析比较.通过计算得到了它们的表面氧吸附活化能值,说明不同的制备方法对粉料的活性有很大影响,从而影响用这种粉料制备的气敏元件的气敏特性. 展开更多
关键词 气敏特性 氧化锡 超微粉 微结构
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