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抛光垫在蓝宝石衬底化学机械抛光中的应用研究
被引量:
5
1
作者
周海
王黛萍
+2 位作者
王兵
陈西府
冶远祥
《机械设计与制造》
北大核心
2009年第8期88-90,共3页
在分析化学机械抛光中常用抛光垫的材质、性能、表面结构基础上,研究了抛光垫对蓝宝石衬底抛光质量的影响规律:材质硬的抛光垫可提高衬底的平面度;材质软的抛光垫可改善衬底的表面粗糙度;表面开槽的抛光垫可提高抛光效率;表面粗糙的抛...
在分析化学机械抛光中常用抛光垫的材质、性能、表面结构基础上,研究了抛光垫对蓝宝石衬底抛光质量的影响规律:材质硬的抛光垫可提高衬底的平面度;材质软的抛光垫可改善衬底的表面粗糙度;表面开槽的抛光垫可提高抛光效率;表面粗糙的抛光垫可提高抛光效率;对抛光垫进行适当的修整可使抛光垫表面粗糙;用聚氨酯类抛光垫能够使得蓝宝石衬底的抛光面小于0.3nm的表面粗糙度。
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关键词
蓝宝石
衬底片
化学机械抛光
抛光垫
下载PDF
职称材料
蓝宝石晶片抛光过程运动仿真及实验分析
被引量:
5
2
作者
王兵
顾建峰
+4 位作者
何辉辉
汤云霞
周海
陈西府
冶远祥
《现代制造技术与装备》
2008年第4期17-18,25,共3页
本文分析了双面抛光机的抛光原理,建立了晶片在抛光过程中运动的数学模型,采用VC语言对双面抛光加工进行运动仿真,分析了不同参数对抛光效果的影响,获得了最合理的抛光运动参数,并且在抛光机上得到了验证。
关键词
蓝宝石
化学机械抛光
运动分析
计算机仿真
下载PDF
职称材料
化学机械抛光工艺中的抛光垫
被引量:
5
3
作者
周海
王黛萍
+2 位作者
王兵
陈西府
冶远祥
《机械工程与自动化》
2008年第6期73-75,共3页
抛光垫是晶片化学机械抛光中决定表面质量的重要辅料。研究了抛光垫对光电子晶体材料抛光质量的影响:硬的抛光垫可提高晶片的平面度;软的抛光垫可改善晶片的表面粗糙度;表面开槽和表面粗糙的抛光垫可提高抛光效率;对抛光垫进行适当的修...
抛光垫是晶片化学机械抛光中决定表面质量的重要辅料。研究了抛光垫对光电子晶体材料抛光质量的影响:硬的抛光垫可提高晶片的平面度;软的抛光垫可改善晶片的表面粗糙度;表面开槽和表面粗糙的抛光垫可提高抛光效率;对抛光垫进行适当的修整可使抛光垫表面粗糙。
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关键词
化学机械抛光
抛光垫
表面粗糙度
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职称材料
题名
抛光垫在蓝宝石衬底化学机械抛光中的应用研究
被引量:
5
1
作者
周海
王黛萍
王兵
陈西府
冶远祥
机构
盐城工学院
兴化祥盛光电子材料公司
出处
《机械设计与制造》
北大核心
2009年第8期88-90,共3页
基金
江苏省自然科学基础研究项目(BK2008197)
江苏省科技厅科技攻关项目(BE2007077)
+1 种基金
江苏省高校自然科学基础研究项目(06KJB460119)
江苏省大学生实践创新训练计划项目(07SSJCX026)
文摘
在分析化学机械抛光中常用抛光垫的材质、性能、表面结构基础上,研究了抛光垫对蓝宝石衬底抛光质量的影响规律:材质硬的抛光垫可提高衬底的平面度;材质软的抛光垫可改善衬底的表面粗糙度;表面开槽的抛光垫可提高抛光效率;表面粗糙的抛光垫可提高抛光效率;对抛光垫进行适当的修整可使抛光垫表面粗糙;用聚氨酯类抛光垫能够使得蓝宝石衬底的抛光面小于0.3nm的表面粗糙度。
关键词
蓝宝石
衬底片
化学机械抛光
抛光垫
Keywords
Sapphire
Substrate
Chemical mechanical polishing
Polishing pad
分类号
TH161 [机械工程—机械制造及自动化]
TN205 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
蓝宝石晶片抛光过程运动仿真及实验分析
被引量:
5
2
作者
王兵
顾建峰
何辉辉
汤云霞
周海
陈西府
冶远祥
机构
盐城工学院
盐城工学院机械工程学院
兴化祥盛光电子材料公司
出处
《现代制造技术与装备》
2008年第4期17-18,25,共3页
基金
江苏省科技厅科技攻关项目(BE2007077)
江苏省高校自然科学基础研究项目(06KJB460119)
+1 种基金
江苏省大学生实践创新训练计划项目(07SSJCX011)
盐城市科技局科技发展计划项目(YK2007018)
文摘
本文分析了双面抛光机的抛光原理,建立了晶片在抛光过程中运动的数学模型,采用VC语言对双面抛光加工进行运动仿真,分析了不同参数对抛光效果的影响,获得了最合理的抛光运动参数,并且在抛光机上得到了验证。
关键词
蓝宝石
化学机械抛光
运动分析
计算机仿真
Keywords
sapphire, chemistry machinery polishing, movement analysis, computer simulation
分类号
TG175 [金属学及工艺—金属表面处理]
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职称材料
题名
化学机械抛光工艺中的抛光垫
被引量:
5
3
作者
周海
王黛萍
王兵
陈西府
冶远祥
机构
盐城工学院
兴化祥盛光电子材料公司
出处
《机械工程与自动化》
2008年第6期73-75,共3页
基金
江苏省科技厅科技攻关项目(BE2007077)
江苏省自然科学基础研究项目(BK2008197)
+1 种基金
江苏省高校自然科学基础研究项目(06KJB460119)
江苏省大学生实践创新训练计划项目(07SSJCX026)
文摘
抛光垫是晶片化学机械抛光中决定表面质量的重要辅料。研究了抛光垫对光电子晶体材料抛光质量的影响:硬的抛光垫可提高晶片的平面度;软的抛光垫可改善晶片的表面粗糙度;表面开槽和表面粗糙的抛光垫可提高抛光效率;对抛光垫进行适当的修整可使抛光垫表面粗糙。
关键词
化学机械抛光
抛光垫
表面粗糙度
Keywords
chemical mechanical polishing
polishing pad
surface roughness
分类号
TG580.692 [金属学及工艺—金属切削加工及机床]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
抛光垫在蓝宝石衬底化学机械抛光中的应用研究
周海
王黛萍
王兵
陈西府
冶远祥
《机械设计与制造》
北大核心
2009
5
下载PDF
职称材料
2
蓝宝石晶片抛光过程运动仿真及实验分析
王兵
顾建峰
何辉辉
汤云霞
周海
陈西府
冶远祥
《现代制造技术与装备》
2008
5
下载PDF
职称材料
3
化学机械抛光工艺中的抛光垫
周海
王黛萍
王兵
陈西府
冶远祥
《机械工程与自动化》
2008
5
下载PDF
职称材料
已选择
0
条
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