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新型工艺处理半导体行业废水工程实例
1
作者
王礼春
徐文祥
+4 位作者
张雨萌
郑登虎
凌水义
王晓刚
田永康
《山西化工》
CAS
2023年第9期234-236,共3页
半导体行业作为芯片的唯一来源,生产制造过程中废水的处理问题日益加剧,特别是多种废水处理工艺。以江苏无锡某新建6寸、12寸半导体生产制造及GaAs封测项目为例进行工艺研究,针对其系统含氟废水、氨氮废水、有机废水、酸碱废水和重金属...
半导体行业作为芯片的唯一来源,生产制造过程中废水的处理问题日益加剧,特别是多种废水处理工艺。以江苏无锡某新建6寸、12寸半导体生产制造及GaAs封测项目为例进行工艺研究,针对其系统含氟废水、氨氮废水、有机废水、酸碱废水和重金属废水等采用加药化混沉淀法、短程硝化+新型厌氧氨氧化、混凝沉淀法等工艺使其出水满足排放标准。旨在为半导体行业混合废水处理提供参考,以供同行之间学习交流。
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关键词
半导体废水
短程硝化
厌氧氨氧化
混凝沉淀
MBR工艺
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职称材料
题名
新型工艺处理半导体行业废水工程实例
1
作者
王礼春
徐文祥
张雨萌
郑登虎
凌水义
王晓刚
田永康
机构
江苏中电创新环境科技有限公司
出处
《山西化工》
CAS
2023年第9期234-236,共3页
文摘
半导体行业作为芯片的唯一来源,生产制造过程中废水的处理问题日益加剧,特别是多种废水处理工艺。以江苏无锡某新建6寸、12寸半导体生产制造及GaAs封测项目为例进行工艺研究,针对其系统含氟废水、氨氮废水、有机废水、酸碱废水和重金属废水等采用加药化混沉淀法、短程硝化+新型厌氧氨氧化、混凝沉淀法等工艺使其出水满足排放标准。旨在为半导体行业混合废水处理提供参考,以供同行之间学习交流。
关键词
半导体废水
短程硝化
厌氧氨氧化
混凝沉淀
MBR工艺
Keywords
semiconductor wastewater
short range nitrification
anaerobic ammonia oxidation
coagulation sedimentation
MBR process
分类号
X76 [环境科学与工程—环境工程]
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出处
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被引量
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1
新型工艺处理半导体行业废水工程实例
王礼春
徐文祥
张雨萌
郑登虎
凌水义
王晓刚
田永康
《山西化工》
CAS
2023
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