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晶体微粒光旋转频率受其厚度影响的实验分析
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作者 魏勇 肖长江 刑经纬 《半导体光电》 CAS 北大核心 2015年第2期236-239,共4页
为优化双折射晶体微粒的旋转频率,基于光致旋转技术对晶体微粒在偏振光自旋角动量作用下的转动进行了理论分析,通过给定参数模拟了石英(SiO2)晶体微粒旋转频率与其厚度和激光有效功率的变化关系曲线。依此优化了光致旋转的实验装置,并... 为优化双折射晶体微粒的旋转频率,基于光致旋转技术对晶体微粒在偏振光自旋角动量作用下的转动进行了理论分析,通过给定参数模拟了石英(SiO2)晶体微粒旋转频率与其厚度和激光有效功率的变化关系曲线。依此优化了光致旋转的实验装置,并在此装置上对不同厚度的石英晶体微粒的旋转频率进行了测量。结果表明,微粒的旋转频率与微粒厚度呈现周期性曲线变化关系,并且旋转频率与有效激光功率成正比,实验测得石英晶体微粒的最高旋转频率为9.2Hz,与理论模拟结果基本吻合。该结论为光驱动微机械马达实现技术的进一步深入研究提供了基础理论和技术保障。 展开更多
关键词 激光光学 光致旋转 自旋角动量 旋转频率
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