含酰胺基有机硅表面活性剂的合成及性能

以γ-氨丙基二乙氧基甲基硅烷、六甲基二硅氧烷、NA-酸酐、碳酸钠为原料,经3步得到阴离子有机硅表面活性剂。用单因素法考察了投料比、冰浴搅拌0.5 h后继续反应时间和温度对中间体Ⅱ收率的影响。经1HNMR和IR对产物进行结构表征,测定目标产物表面张力、临界胶束浓度和润湿性能。在25℃时,阴离子有机硅表面活性剂的表面张力为34.00mN/m,临界胶束浓度为3.98×10^(-4)mol/L,润湿性能较好。

烟酸类表面活性剂的合成研究

以烟酸为原料,通过卤置换反应、酰胺化反应、季铵化3步反应,合成[3,3'-(对苯二氨甲酰基)]双N-烷基吡啶溴盐表面活性剂目标产物。用IR、1HNMR、13CNMR和MS对目标产物进行确认和表征,并通过单因素试验,确定了较佳的合成条件:n(双(烟酰基)对苯二胺)∶n(溴代烷)=1∶2.6,反应温度140℃,反应时间6 h。利用紫外分光光度法测量目标产物的临界反胶团浓度CrMC分别为2.09×10-5、2.27×10-5和2.39×10-5mol/L。

含噻唑杂环结构的阳离子表面活性剂性能研究

以噻唑、氯乙酰氯和长链叔胺为原料,通过酰胺化反应和季铵化反应合成了一系列含噻唑杂环结构的阳离子表面活性剂(A_n,n=10,12,14,16)。在25℃条件下,系列A表面活性剂的cmc值为0.27~5.14mmol/L,γ_(cmc)值为37.3~42.9mN/m,稳泡性≥87%,乳化时间为376~983s;A_(12)对大肠杆菌和枯草芽孢杆菌的最低抑菌浓度(MIC)分别为8.0和2.1μg/mL。相同条件下,传统表面活性剂十二烷基二甲基苄基氯化铵(1227)的cmc值为9.51mmol/L,稳泡性为44%,乳化时间为366s,其对大肠杆菌和枯草芽孢杆菌的MIC值分别为17.4μg/mL和16.8μg/mL。

噻唑类表面活性剂的合成研究

以2-氨基噻唑、氯乙酰氯为原料,合成2-(2-氯乙酰胺基)噻唑中间体。中间体分别与N,N-二甲基癸基叔胺、N,N-二甲基十二烷基叔胺、N,N-二甲基十四烷基叔胺、N,N-二甲基十六烷基叔胺反应合成一系列噻唑类表面活性剂。通过单因素实验,考察了反应温度、反应时间及反应原料投料比对目标产物收率的影响。利用1HNMR和IR对目标产物结构进行表征。通过电导率法测得噻唑类表面活性剂的临界胶束浓度(cmc)值分别为1.94×10^(-2)、5.01×10^(-3)、1.62×10^(-3)、4.78×10^(-4)mol/L。

苯并咪唑类衍生物PO_4^(3-)荧光分子探针

以对苯二胺、氯乙酰氯、苯并咪唑和溴代正戊烷为原料合成了荧光分子探针——1,4-双(3-正戊基苯并咪唑氯化铵-1-乙酰氨基)苯(M),收率为80.1%。用核磁共振氢谱和傅里叶红外光谱对其结构进行了表征,采用荧光光谱考察了其在水溶液(HEPES缓冲溶液,pH=7.4)中对阴离子的识别性能。结果表明:M对PO_4^(3-)具有快速、直接、较高的选择性识别性能,在1.0×10-5mol/L的M溶液中滴加9.0×10-4mol/L的PO_4^(3-)后荧光发射波长红移36 nm,荧光强度增强至2.9倍,与PO_4^(3-)结合后的荧光发射强度不受其他常见阴离子的干扰。

苯胺类表面活性剂的合成研究

以对苯二胺、氯乙酰氯和长链N,N-二甲基烷基胺(n=12,14,16)为原料,经两步反应,合成一系列苯胺类表面活性剂(a,b,c)。通过单因素试验,确定合成目标产物较佳工艺条件为:反应温度80℃,反应时间7h,中间体二氯乙酰基对苯二胺与长链N,N-二甲基烷基胺反应物质的量比为1∶2.5。利用IR,1 H NMR和13C NMR对产品进行结构表征。用电导率法测得苯胺类表面活性剂a,b,c的CMC值分别为9.56×10-4 mol/L,1.77×10-4 mol/L,1.19×10-4 mol/L。