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超长钨丝阵列锐化的研究 被引量:1
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作者 朱长纯 张晓永 +1 位作者 吴春瑜 刘光冶 《电子器件》 CAS 1994年第3期99-102,共4页
本文报告了玻璃介质钨丝阵列场发射阴极欧姆接触的三种制造方法,以及场发射尖端阵列的锐化工艺—提拉法和倒提拉法。同时给出了锐化结果的电镜照片。
关键词 场致发射阴极 腐蚀 欧姆接触
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