VCAD法沉积氮化钛膜的X-射线研究

用 VCAD 法在不锈钢和工模具钢基体上沉积均匀、致密的 TiN 膜时,TiN 膜的色泽、结晶取向和点阵常数均可能随着工艺参数的改变而改变,论文作者用 XRD 法研究了不同条件下该 TiN 膜的结构和点阵常数的变化,以及择优取向度,并对膜的行为差异作了分析,结果表明:随着涂层中氮含量的增加,点阵常数值增大;TiN_x 的色泽与氮含量有关;择优取向主要取决于偏压。

用直流等离子化学气相沉积法在硬质合金上沉积氮化钛膜的研究

用直流等离子化学气相沉积法在硬质合金上沉积ＴｉＮ膜，研究了沉积工艺参数对膜层结构、膜层成分、断口形貌和膜层硬度的影响．结果表明，在５００～７００℃温度范围内，可以沉积出单相的ＴｉＮ膜，膜层结构致密，硬度可达Ｈｖ２１５６０Ｎ／ｍｍ２．在５００片刀片装炉量的情况下，沉积室中不同部位的刀片均可得到相同结构和优异性能的膜层，因此采用此沉积法可以实现批量化生产．

铜钛合金形变时效过程中强化机理的研究

Cu—2.4 wt%Ti 合金是一种新型弹性材料,在固溶、形变、时效过程中,其强度与塑性均明显提高.目前国内外对这种特性的机理研究文章不多,本文用微观畸变与相析出理论解释了这一特性,对该合金经860℃固溶、50%形变、450℃时效不同时间的强化机制进行了研究.用 SEM 观察了不同条件下的显微组织的形貌及析出相的分布;用 XRD 应力测定法(方差法)测定了衍射线的宽化度,计算出不同状态下的微观畸变量(微观应力的表征)与嵌镶块大小.对结果进行了讨论.