金属表面类金刚石防护层的研究

一、引言金属腐蚀问题向来为人们所关注,因而金属表面的保护一直受到重视。近年来,类金刚石薄膜(DLC膜)的研究取得了很大进展,该薄膜具有类似金刚石的许多优良特性,比如:硬度高,电绝缘性优良、化学稳定性极好等,因而具有广阔的应用前景。

铁山矿涌水治理研究与实践

根据不同的水文地质条件及相应的工程施工要求,对井下涌水采取不同的技术手段进行治理。针对治水过程中易出现的问题采取相应的应对措施。使治水效果能满足生产需要,为相同或相似水文地质条件的治水提供相应的施工经验和技术参数。

DLC膜改善扬声器性能的研究

本文介绍了在普通扬声器上涂覆ＤＬＣ膜的工艺，并测试了其性能，结果表明ＤＬＣ膜对扬声器的性能有明显改善。

DLC膜化工设备防腐材料的研究

本文介绍了一种可用于化工设备表面防腐的新材料——类金刚石薄膜（ＤＬＣ膜）。文中给出了ＤＬＣ膜的制备方法及主要工艺参数。我们做了有ＤＬＣ膜保护的防腐试验，结果表明：ＤＬＣ膜对酸碱的防护能力强。

胶结充填后矿柱回采方案的制定与应用

为了充分开采井下的铁矿石资源,对铁山矿胶结充填后矿柱进行回采。根据残留矿柱的地质特征、周边回采充填情况及水文地质条件,确定采用全面法条带式回采方案。通过计算并结合实际情况确定了矿房参数,矿房长10m,回采条带宽6m,矿柱条带宽4m,回采高度3m,203区底柱试验性回采残矿3万余t,回采率45%。

胶结充填在铁山矿的应用

铁山矿是金岭铁矿三个重要铁矿石生产基地之一。在铁矿石回采过程中形成大量空区。铁山矿原采空区采用废石干充。由于掘进废石的减少,采用胶结充填等方式对采空区进行治理。由于采空区形成的时间过长,部分矿柱塌落或回采,空区充填的难度大。为了能实现用尾砂胶结充填的方式对采空区进行治理,想出各种办法解决胶结充填中出现的问题,诸如密闭墙设计和滤排水以及料浆配制充填控制等。实现了高效率的胶结充填,从而消除了采空区所带来的安全隐患。

中深孔爆破中易出现的问题及预防措施

详细地介绍了中深孔爆破中出现岩墙、岩帽、挤孔、抽顶及大块率增加等一系列问题,分析了其发生的原因,提出了相应的预防措施,有效地减少了同类问题发生的概率,保证了安全生产,提高了劳动生产率。

低温等离子体在塑料表面改性上的应用

研究了用低温等离子体对聚乙烯薄片表面的处理。用电子能谱（ＥＳＣＡ）证明聚乙烯薄片表面经低温等离子体处理后，有含氧基团。用扫描电子显微镜（ＳＥＭ）观察到表面形态随处理时间的变化情况。结果表明，只有选择恰当的处理时间和功率，才能得到较好的表面改性效果。

阶段矿房法在缓倾斜矿体回采中的应用

根据矿体赋存情况及周边采区的关系,利用下一中段水平,把阶段矿房法运用到缓倾斜矿体回采中,不仅提高了安全性,而且提高了工作效率和企业的经济效益。

DLC膜改善扬声器性能的研究

本文介绍了在普通扬声器上涂覆ＤＬＣ膜的工艺，并测试了其性能，结果表明ＤＬＣ膜对扬声器的性能有明显改善。

磁控溅射制备超导量子结

本文介绍了用磁控溅射技术制备超导量子结的工艺，对其电学特性进行了测试，分析了影响超导量子结电学特性的各种因素。

超导铌膜的制备及其性能的研究

本文详细分析了制备工艺条件对超导铌膜转变温度Ｔｃ的影响，严格控制溅射条件和溅射过程，成功地淀积出室温─液氮电阻比（β）优于２．２的超导铌膜。

辉光放电改性聚乙烯表面的研究

1 引言 聚乙烯薄膜在食品包装等领域获得广泛应用。为了满足其粘接、涂复及印刷等使用要求,需改变其低表面能态。我们实验了用辉光放电处理低密度聚乙烯薄膜,研究了处理时间、处理放电功率对薄膜表面改性效果的影响。

地下矿山开采末期所面临问题的分析与研究

由金岭铁矿末期开采矿床现状研究,指出末期开采矿山企业所面临的问题。提出了增加资源储备、提高现有储量综合利用率,发挥企业优势,优化产业结构等有效途径,提高企业核心竞争力,保证资源枯竭矿山企业的可持续发展。

超导铌膜的制备及其性能的研究

本文详细分析了工艺条件对铌膜超导转变温度Tc的影响,通过严格控制溅射条件和溅射过程,成功地淀积出室温——液氮电阻比(β值)优于2.2的超导铌膜。

超导Josephson结的制备及其特性研究

本文详细讨论了用微细加工技术制作Josephson结的过程以及影响其电学特性的各种因素,用湿法刻蚀技术制备了面积为4×4μm^2的Josephson结,并在4.4K闭循环制冷机上观察到了较为理想的Josephson效应。

微电子工艺实验教学模式探索

采用微电子工艺实验教学模式,即工艺实验教学由实际操作的工艺实验、工艺录像学习、器件与工艺仿真实验和多媒体辅助实验教学组成,阐述了具体内容。这种微电子工艺实验教学模式的建立,可满足本专业对微电子工艺实验的教学要求,有助于提高专业教学质量、提高学生的实际工作能力和专业素质、培养有竞争力的高质量的微电子人才。

DLC膜作为Ge片减反射膜的研究

本文采用 rfPCVD 方法,以甲苯为工作气体,制备出 DLC 膜,研究了它的光学性能,以及作为激光窗口材料 Ge 片的减反射膜的应用。

类金刚石碳膜作为红外元件减反射膜的研究

本文以甲苯为工作气体,先用高频辉光放电等离子体CVD方法制备出类金刚石碳膜,研究了它的光吸收和红外增透性,以及在Si、Ge等红外元件上作为减反射膜的应用。

DLC膜作为半导体器件表面钝化膜的研究

本文以甲苯为工作气体,采用rfPCVD方法在各种衬底上制备出DLC膜,研究了Al-DLC-Si结构的高频C-V特性,以及作为半导体器件的表面钝化膜的应用。