CMP综合终点检测研究

在对电机电流终点检测、光学终点检测以及抛光垫温度检测三种终点检测技术的检测原理、特点及其装置分析讨论的基础上,对终点检测硬件电路的设计效果进行了验证。采用STRASBAUGH的Nvision软件进行移植,设置其增益、漂移量、数字过滤器的频率和类型。以W作为抛光对象,以TiN作为阻挡层,优化了工艺参数菜单设置并实施抛光,在实时形成信号曲线的基础上,由主机综合三种终点检测信号的情况,判断出精准的终点位置,为CMP抛光终点的监测和抛光垫的修整和更换提供科学的依据。

光刻技术及其战略选择

光刻是集成电路及其它半导体器件制造的核心工艺,号称关键性和战略性技术。本文首先对光刻的概念及其相关词语的含义进行了探讨,试图澄清一些模糊的认识,而后简要地回顾了光刻技术发展的历史教训,重点讨论90年代的光刻技术及其最佳选择。

关于日语中所谓形容动词的词性问题

有关形容动词的词性问题在日语学界长期存在着争论,争论的焦点是:作为词类的划分,它是属于名词(包括体言)范畴,还是动词范畴;是形容动词范畴,还是形容词范畴。第二次世界大战以后,尤其到了六十年代和七十年代,有些日本语言学家对其国内通用的“学校文法”,特别是对普遍采用的形容动词的学说不断提出异议。直到今天这一问题尚未得到根本的解决。与此同时,这一观点至今还影响着我国。