利用塔菲尔(Tafel)极化曲线测试方法和电化学阻抗(EIS)测试方法,研究了镍基合金925在饱和H2S盐水环境下腐蚀过程不同时段的电化学行为。结果表明:在饱和H2S盐水作用下,试验开始至第9 d时腐蚀电位一直在降低,最低-418 m V,随后腐蚀电位...利用塔菲尔(Tafel)极化曲线测试方法和电化学阻抗(EIS)测试方法,研究了镍基合金925在饱和H2S盐水环境下腐蚀过程不同时段的电化学行为。结果表明:在饱和H2S盐水作用下,试验开始至第9 d时腐蚀电位一直在降低,最低-418 m V,随后腐蚀电位逐渐升高,第17 d时腐蚀电位达-301 m V,而腐蚀电流在第5 d之前降低至1.2μA,第9 d升高至2.57μA,之后一直降低1.55μA。电化学阻抗谱显示高频区的容抗弧越来越小,扩散特征增强,可能是形成的腐蚀钝化膜不够致密。综合分析认为试验进行5 d后原有的氧化膜破坏,开始形成新的保护膜,9 d后合金钝化效果明显,合金耐腐蚀性增强。展开更多