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题名非接触式预对准系统及控制技术研究
被引量:1
- 1
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作者
刘玄博
孙广翔
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机构
中国电子科技集团公司第四十五研究所
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出处
《电子工业专用设备》
2014年第2期18-22,32,共6页
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文摘
高精度高效率的预对准系统是现代集成电路(IC)生产中实现晶圆自动传输的重要部件。介绍了预对准台的大致设计结构,分析了目前常见的找心算法以及存在的问题,进而提出新的找圆心算法。之后针对带切边晶圆片的切边方向定位算法进行了分析归纳,总结出完整的切边定位算法。
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关键词
预对准
圆心校正
切边校正
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Keywords
Pre-align
Circle fitting
Wafer loader fitting
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分类号
TN605
[电子电信—电路与系统]
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题名微直流伺服电机在光刻机中的应用研究
被引量:1
- 2
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作者
刘玄博
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机构
中国电子科技集团公司第四十五研究所
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出处
《电子工业专用设备》
2008年第6期43-45,共3页
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文摘
从实际应用出发,介绍了微直流伺服电机在光刻机中的选型分析。根据具体负载要求,确定所需电机相应的参数,从而得到能满足驱动需求的最优化的电机。
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关键词
光刻机
直流伺服电机
连续转矩
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Keywords
Mask aligner
DC servo motor
Continuum torque
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分类号
TM383.41
[电气工程—电机]
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题名光刻机自动对准工作台控制系统设计
- 3
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作者
刘玄博
周庆奎
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机构
中国电子科技集团公司第四十五研究所
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出处
《电子工业专用设备》
2014年第1期42-44,56,共4页
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文摘
光刻机自动对准工作台是光刻机的核心执行功能部件,直接影响着光刻机找平、锁紧、微分离、自动对准执行等关键功能动作;结构设计紧凑精巧,包含复杂气动控制和高速、精密运动控制。运动控制的精度决定着对准精度,目前接触接近式掩模光刻机的对准精度达到0.5μm,因此工作台运动控制的精度应小于0.5μm。
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关键词
掩模光刻机
工作台
控制系统
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Keywords
Mask aligner
Alignment stage
Control system
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分类号
TN305
[电子电信—物理电子学]
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题名双面光刻机运动控制系统设计分析
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作者
刘玄博
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机构
中国电子科技集团公司第四十五研究所
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出处
《电子工业专用设备》
2015年第4期30-35,共6页
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文摘
针对双面光刻机运动控制需求,提出模块化的设计方案,重点分析了对准工作台PID调节方法,实现了高动态响应、高精度运动控制。
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关键词
双面光刻机
运动控制
PID控制
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Keywords
Double-sided maskaligner
Motion control
PID control
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分类号
TN305
[电子电信—物理电子学]
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题名掩模光刻机中找平控制研究
被引量:2
- 5
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作者
周庆奎
刘玄博
李霖
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机构
中国电子科技集团公司第四十五研究所
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出处
《电子工业专用设备》
2010年第11期1-3,30,共4页
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文摘
基片与掩模版(或找平版)找平技术是掩模光刻机中的一个关键技术,找平的结果直接决定了光刻机的分辨率精度。找平的目的就是要实现掩模版平面和基片平面的平行,实现基片与掩模版在移动到设定的一个微小间隙后,基片上的各点到掩模版的距离相同,从而保证基片上图形的一致性,提高设备的分辨率。找平过程的控制主要在对找平的判断、压力采集反馈、找平压力的控制等方面。
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关键词
掩模光刻机
找平
分辨率
找平判断
压力采集
找平压力控制
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Keywords
Mask Aligner
Compensation
Resolution
Compensation judgment Pressure sampling
Pressure controlling
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分类号
TN305
[电子电信—物理电子学]
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题名光学光刻技术向纳米制造挺进
- 6
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作者
葛劢冲
刘玄博
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机构
中国电子科技集团公司第四十五研究所
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出处
《电子工业专用设备》
2004年第3期22-26,共5页
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文摘
概述了光学光刻技术向纳米制造挺进过程中光源、光学系统、照明技术、掩模设计、抗蚀剂、光学邻近效应校正、工作台等方面的进展以及光学光刻技术在大批量生产应用中的优势,并介绍了国外开发极紫外光刻技术的技术指标,预测了光学光刻技术的前景。
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关键词
光学光刻
光学邻近效应校正
下一代光刻
纳米制造
优势与前景
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Keywords
Photolithography
OPC
NGL
Nano-fabrication
Advantages and prospects
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分类号
TN350.7
[电子电信—物理电子学]
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题名中国共产党民主监督中自律与他律的关系
- 7
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作者
刘玄博
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机构
武汉大学马克思主义学院
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出处
《青年与社会》
2015年第2期19-19,共1页
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文摘
文章阐述中国共产党民主监督中自律与他律,即党内监督与党外监督的含义,同时指出了当前我党党内监督存在的不足之处,论述了我党党内监督与党外监督的内在关系。对发展、完善我党民主监督工作,提高和加强我党执政能力,永葆我党纯洁性与先进性具有一定的理论意义与实践意义。
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关键词
自律与他律
党内监督
党外监督
内在关系
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分类号
D613
[政治法律—中外政治制度]
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题名碳化硅材料及器件的制造装备发展现状
被引量:9
- 8
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作者
高德平
付丙磊
贾净
颜秀文
刘玄博
周哲
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机构
中电科电子装备集团有限公司
北京生产力促进中心
中国电子科技集团公司第四十五研究所
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出处
《电子工艺技术》
2017年第4期190-192,211,共4页
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文摘
当前碳化硅产业的快速发展对装备国产化提出了更高的要求,迫切需要通过借鉴国外先进技术,进行产学研结合的协同创新,全面提升研发、制造能力,满足市场要求,推动我国宽禁带半导体产业的自主可控发展。对当前碳化硅材料及器件制造装备的国内外现状、主要技术难点进行了综述,并对其发展趋势进行了展望。
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关键词
碳化硅
制造装备
宽禁带半导体
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Keywords
SiC
manufacturing equipment
wide bandgap semiconductor
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分类号
TN3
[电子电信—物理电子学]
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