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偏压对TiAlN涂层微观结构、力学和摩擦学性能的影响
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作者 曹红帅 刘福家 +5 位作者 李好 罗文忠 齐福刚 卢立伟 赵镍 欧阳晓平 《Transactions of Nonferrous Metals Society of China》 SCIE EI CAS CSCD 2022年第11期3596-3609,共14页
采用磁过滤真空阴极弧在ZL109合金表面沉积由TiAl和TiAlN组成的TiAlN多层涂层,并系统研究偏压对涂层微观结构和性能的影响。结果表明,涂层具有以TiAlN相为主的多相结构。随着偏压的增大,由于原子迁移率和晶格畸变的增加,TiAlN择优取向由... 采用磁过滤真空阴极弧在ZL109合金表面沉积由TiAl和TiAlN组成的TiAlN多层涂层,并系统研究偏压对涂层微观结构和性能的影响。结果表明,涂层具有以TiAlN相为主的多相结构。随着偏压的增大,由于原子迁移率和晶格畸变的增加,TiAlN择优取向由(200)晶面向(111)晶面转变。同时,涂层的硬度、弹性模量和附着力表现出相同的变化趋势,即先增大后减小。当偏压为75 V时,TiAlN涂层具有最高的硬度(~30.3 GPa)、弹性模量(~229.1 GPa)、附着力(HF 2)和最低的磨损率(~4.44×10^(−5)mm^(3)/(N·m))。与未涂覆ZL109合金相比,TiAlN涂层合金表面的力学和摩擦学性能得到有效提高。 展开更多
关键词 TIALN涂层 磁过滤真空阴极弧 偏压 微观结构 力学性能 磨损
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