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高压功率VDMOS场效应晶体管版图设计
1
作者
李中江
夏俊峰
+1 位作者
刘美溶
薛发龙
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
1989年第6期1-4,共4页
高压功率VDMOS场效应晶体管在国内尚属开发新产品.本文就高压功率VDMOS场效应晶体管的版图设计考虑作一介绍.实际设计了耐压450伏、电流容量为5安培的VDMOS场效应晶体管版图.试制结果说明设计是可行的.
关键词
功率VDMOS
场效应晶体管
版图
设计
全文增补中
题名
高压功率VDMOS场效应晶体管版图设计
1
作者
李中江
夏俊峰
刘美溶
薛发龙
机构
八七七厂
出处
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
1989年第6期1-4,共4页
文摘
高压功率VDMOS场效应晶体管在国内尚属开发新产品.本文就高压功率VDMOS场效应晶体管的版图设计考虑作一介绍.实际设计了耐压450伏、电流容量为5安培的VDMOS场效应晶体管版图.试制结果说明设计是可行的.
关键词
功率VDMOS
场效应晶体管
版图
设计
分类号
TN386.102 [电子电信—物理电子学]
全文增补中
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
高压功率VDMOS场效应晶体管版图设计
李中江
夏俊峰
刘美溶
薛发龙
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
1989
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