根据目前热丝化学气相沉积(Hot Filament Chemical Vapour Deposition,HFCVD)金刚石薄膜制备设备现状:存在热丝多为水平放置碳化变脆后易发生断裂、不能实现CVD金刚石薄膜的连续制备、生产成本高及制备效率低等缺点,依据热丝化学气相沉...根据目前热丝化学气相沉积(Hot Filament Chemical Vapour Deposition,HFCVD)金刚石薄膜制备设备现状:存在热丝多为水平放置碳化变脆后易发生断裂、不能实现CVD金刚石薄膜的连续制备、生产成本高及制备效率低等缺点,依据热丝化学气相沉积法制备金刚石薄膜的原理,应用Solidework三维设计软件进行三维建模,结合机械设计软件制图,研制出了该型金刚石薄膜连续制备HFCVD设备,并给出了连续镀膜的工艺流程,采用该设备成功批量生长出质量良好的金刚石薄膜。展开更多
目的研究金刚石耐磨涂层的摩擦磨损性能,以提高工件的使用寿命.方法利用微波等离子体化学气相沉积技术在氮化硅陶瓷基体表面制备金刚石薄膜.采用扫描电子显微镜、原子力显微镜和拉曼光谱仪对不同参数的金刚石薄膜进行结构表征,利用球-...目的研究金刚石耐磨涂层的摩擦磨损性能,以提高工件的使用寿命.方法利用微波等离子体化学气相沉积技术在氮化硅陶瓷基体表面制备金刚石薄膜.采用扫描电子显微镜、原子力显微镜和拉曼光谱仪对不同参数的金刚石薄膜进行结构表征,利用球-盘式摩擦磨损试验机在干摩擦条件下对薄膜的摩擦学性能进行研究.结果制备的金刚石薄膜表面粗糙度小,结合力良好;金刚石涂层有效降低了氮化硅表面的摩擦因数与磨损率,摩擦因数约为0.12~0.25.在微波功率8 k W、腔体气压6 k Pa、甲烷体积分数8%的参数下制得的涂层具有最低的摩擦因数(0.12)和磨损率(1.18×10-7mm3/(N·m)).结论在氮化硅基体表面沉积金刚石薄膜可以提高氮化硅材料的摩擦磨损性能,提高工件寿命.展开更多
文摘根据目前热丝化学气相沉积(Hot Filament Chemical Vapour Deposition,HFCVD)金刚石薄膜制备设备现状:存在热丝多为水平放置碳化变脆后易发生断裂、不能实现CVD金刚石薄膜的连续制备、生产成本高及制备效率低等缺点,依据热丝化学气相沉积法制备金刚石薄膜的原理,应用Solidework三维设计软件进行三维建模,结合机械设计软件制图,研制出了该型金刚石薄膜连续制备HFCVD设备,并给出了连续镀膜的工艺流程,采用该设备成功批量生长出质量良好的金刚石薄膜。
文摘目的研究金刚石耐磨涂层的摩擦磨损性能,以提高工件的使用寿命.方法利用微波等离子体化学气相沉积技术在氮化硅陶瓷基体表面制备金刚石薄膜.采用扫描电子显微镜、原子力显微镜和拉曼光谱仪对不同参数的金刚石薄膜进行结构表征,利用球-盘式摩擦磨损试验机在干摩擦条件下对薄膜的摩擦学性能进行研究.结果制备的金刚石薄膜表面粗糙度小,结合力良好;金刚石涂层有效降低了氮化硅表面的摩擦因数与磨损率,摩擦因数约为0.12~0.25.在微波功率8 k W、腔体气压6 k Pa、甲烷体积分数8%的参数下制得的涂层具有最低的摩擦因数(0.12)和磨损率(1.18×10-7mm3/(N·m)).结论在氮化硅基体表面沉积金刚石薄膜可以提高氮化硅材料的摩擦磨损性能,提高工件寿命.