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掺硅类金刚石膜的摩擦学性能研究
被引量:
13
1
作者
兰惠清
崔俊豪
加藤孝久
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2011年第1期61-66,共6页
以甲苯(C7H8)和四甲基硅烷(Si(CH3)4)的混合气体为反应气源,使用离子气相沉积技术制备了不同Si含量(原子比)(不超过20%)的掺硅类金刚石(Si-DLC)薄膜,用X射线光电子谱和拉曼光谱测出薄膜和对磨钢球上转移膜的微观结构,纳米压痕仪、摩擦...
以甲苯(C7H8)和四甲基硅烷(Si(CH3)4)的混合气体为反应气源,使用离子气相沉积技术制备了不同Si含量(原子比)(不超过20%)的掺硅类金刚石(Si-DLC)薄膜,用X射线光电子谱和拉曼光谱测出薄膜和对磨钢球上转移膜的微观结构,纳米压痕仪、摩擦试验机和电子探针微分析仪分别得到薄膜的硬度、摩擦系数、磨痕和转移膜的元素变化结果。结果表明,添加少量Si能提高Si-DLC薄膜的硬度,但是Si含量的进一步增加则使薄膜的硬度降低。而薄膜的摩擦系数始终随着Si含量的增加而减少。从摩擦实验后钢球表面转移膜的进一步分析,我们认为该薄膜的低摩擦特性是由于转移膜的增加和石墨化两者共同造成的结果。
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关键词
掺硅类金刚石膜
结构
摩擦
硬度
下载PDF
职称材料
题名
掺硅类金刚石膜的摩擦学性能研究
被引量:
13
1
作者
兰惠清
崔俊豪
加藤孝久
机构
北京交通大学机械与电子控制工程学院
东京大学机械系
出处
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2011年第1期61-66,共6页
基金
国家自然科学基金资助项目(50805007)
教育部留学回国人员科研启动金资助项目
文摘
以甲苯(C7H8)和四甲基硅烷(Si(CH3)4)的混合气体为反应气源,使用离子气相沉积技术制备了不同Si含量(原子比)(不超过20%)的掺硅类金刚石(Si-DLC)薄膜,用X射线光电子谱和拉曼光谱测出薄膜和对磨钢球上转移膜的微观结构,纳米压痕仪、摩擦试验机和电子探针微分析仪分别得到薄膜的硬度、摩擦系数、磨痕和转移膜的元素变化结果。结果表明,添加少量Si能提高Si-DLC薄膜的硬度,但是Si含量的进一步增加则使薄膜的硬度降低。而薄膜的摩擦系数始终随着Si含量的增加而减少。从摩擦实验后钢球表面转移膜的进一步分析,我们认为该薄膜的低摩擦特性是由于转移膜的增加和石墨化两者共同造成的结果。
关键词
掺硅类金刚石膜
结构
摩擦
硬度
Keywords
Si-DLC films
Structures
Tribological properties
Hardness
分类号
TB332 [一般工业技术—材料科学与工程]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
掺硅类金刚石膜的摩擦学性能研究
兰惠清
崔俊豪
加藤孝久
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2011
13
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职称材料
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参考文献
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