Cu含量对Ni-Cu-P化学镀层组织结构和性能影响

利用化学镀法制备出Ni-Cu-P合金镀层,研究了镀液中CuSO4·5H2O含量对合金镀层沉积速率和成分的影响。通过XRD和SEM表征了不同CuSO4·5H2O质量浓度下Ni-Cu-P合金镀层的组织结构和表面形貌,运用极化曲线评价了合金镀层在质量分数为3.5%NaCl溶液中的耐蚀性能。结果表明,随着镀液中CuSO4·5H2O质量浓度的增加,镀层沉积速率和P含量不断下降,Ni-P镀层中P的质量分数为14.98%。当镀液中CuSO4·5H2O质量浓度为1.0 g/L时,P的质量分数为4.21%;镀层中Cu的含量随着镀液中CuSO4·5H2O含量的增加而增加。当添加量为1.0 g/L时,镀层中Cu的质量分数达19.04%;镀层的结晶度随着Cu含量的上升不断增大,Cu的加入使镀层的表面形貌更加光滑;镀层的耐蚀性能随着镀液中CuSO4·5H2O含量的增加先上升后下降,当镀液中CuSO4·5H2O质量浓度为0.4 g/L时,Ni-Cu-P镀层表现出最优的耐蚀性能。

Ni-SiC复合电镀工艺的优化及镀层结构表征

利用电沉积法制备出Ni-SiC复合镀层,研究了阴极电流密度、温度、pH、搅拌速率、表面活性剂等工艺参数对镀层显微硬度和沉积速率的影响,通过正交试验得出了最佳工艺参数:阴极电流密度4A/dm2,SiC微粒悬浮量60g/L,温度40°C,pH2.5,搅拌速率300r/min。用SEM、XRD和TEM分析了镀层的表面形貌、组织结构及镀层中粒子的分布,结果表明:SiC微粒均匀分布于复合镀层中,镀层表面平整光滑,显微组织均匀、致密,其显微硬度也较纯镍镀层有显著提高。

化学镀Ni-Cu-P镀层在3种腐蚀介质中冲蚀行为的研究

通过改变冲蚀介质的种类与浓度、冲蚀介质流速、冲蚀时间、冲蚀攻角等,研究了化学镀Ni-Cu-P合金镀层的耐冲蚀性能.结果表明:在(wt%)2%的氢氧化钠介质中,化学镀Ni-Cu-P合金镀层耐冲蚀性能最佳;在稀盐酸中冲蚀有以下规律:随着盐酸浓度的增加,冲蚀失重逐渐增加;随着冲蚀速度的增大,试样的冲蚀失重逐渐增加,二者之间符合指数关系,冲蚀失重的变化有一临界液体流速;在攻角为45°时冲蚀失重最大.相比化学镀Ni-P镀层,化学镀N i-Cu-P镀层具有更好的耐冲蚀性能.

澄清剂对高应变点玻璃的澄清效果研究

高应变点玻璃是近年来发展的一种新型玻璃,有着优异的抗冲击性能和抗划伤性能,在CIGS薄膜太阳能电池玻璃基板和触控设备上有着广泛的应用。本文研究了不同澄清剂和澄清剂含量对澄清效果的影响,定量的研究了在澄清过程中气泡熔占比;气泡直径平均尺寸;气泡个数的变化,建立了适合高应变点玻璃的澄清方案,对玻璃企业的生产,提供一些指导性的建议。

高长径比银纳米线的制备及其透明导电薄膜的性能

采用简单高效的一步多元醇法以FeCl_3·6H_2O为成核控制剂,在低温、静置的条件下成功合成了产量高、形貌尺寸均匀、银线平均长度80~110μm、平均直径为40~80 nm,长径比大于1000的高长径比Ag纳米线。将制得银纳米线通过无水乙醇分散,得到一系列质量体积浓度的银线分散液,利用旋涂装置在PET上制备成膜,得到薄膜方阻仅6Ω/sq、可见光透过率80%左右性能良好的银纳米线透明导电薄膜,并探讨了旋涂层数、旋涂速度对各质量体积浓度薄膜性能的影响。

表面活性剂对Ni-SiC复合电镀的影响

以瓦特型镀镍液为母液,在一定的工艺条件下复合电沉积Ni-SiC镀层,选用三种典型表面活性剂,即非离子型表面活性剂OP-10,阳离子型十六烷基三甲基溴化铵(CTAB),以及阴离子型十二烷基苯磺酸钠(LAS),通过对比实验,研究了它们对Ni-SiC复合电镀的影响,结果表明,LAS能显著改善镀层的表面质量,但对粒子复合量的贡献不大;OP-10能显著提高镀层的粒子复合量和硬度;CTAB能有效提高SiC颗粒的悬浮性能,促进SiC粒子与金属镍的共沉积。

粒径对电沉积Ni-SiC复合镀层性能的影响

采用复合电沉积的方法,在一定的工艺条件下制备出Ni-SiC复合镀层。通过摩擦磨损试验、电化学腐蚀试验,并利用扫描电镜观察镀层的磨损和腐蚀形貌,综合分析了SiC颗粒大小对镀层性能的影响。结果表明:当SiC粒径为2μm,添加量为60 g.L-1时,镀层的显微硬度最高,耐磨性能最佳;复合镀层的耐蚀性比纯镍镀层和钢基体优越,但随着SiC粒径的增大,镀层的耐蚀性反而有所下降。

Ni—P-纳米TiO2化学复合镀层工艺研究

用化学沉积法制备了纳米Ni-P-TiO2复合镀层。研究了TiO2含量PH值、温度等对沉积速度的影响，及热处理温度对镀层硬度和磨损的影响。

澄清剂对高铝硅酸盐玻璃的澄清效果研究

高铝硅酸盐玻璃组成中Al_2O_3的含量一般大于10%以上,是近年来发展的一种新型玻璃,有着优良的热力学性能,尤其在硬度、韧性和抗划伤等方面表现突出,是电子信息产品的触摸屏幕和手写屏的优选保护材料。本文研究了澄清剂的种类和含量对高铝硅酸盐玻璃澄清效果的影响,定量地研究了在澄清过程中气泡熔占比、气泡直径平均尺寸、气泡个数的变化,研究分析了适合高铝硅酸盐玻璃的澄清方案。结果表明:在1 600℃熔化温度下,Na_2SO_4的澄清效果要明显优于SnO_2,当Na_2SO_4含率为2.0%时高铝硅酸盐玻璃的澄清效果最佳。

澄清剂氧化锡对TFT-LCD基板玻璃澄清效果的影响

TFT-LCD基板玻璃是薄膜晶体管液晶显示器面板的前后两片关键玻璃材料,基板玻璃作为面板的重要组成部分,基板玻璃的性能的持续提升主要取决于玻璃配方的迭代优选和玻璃生产工艺的协调改进,这也是全球基板玻璃制造企业不断创新发展的核心技术优势所在。本工作主要研究了澄清剂氧化锡含量对TFT-LCD基板玻璃澄清效果的影响,通过高温熔融观察系统定量研究了澄清过程中气泡熔占比、气泡平均直径、气泡个数的变化,建立了适合TFT-LCD基板玻璃的澄清方案,期望对玻璃企业的生产提供一些指导性的建议。

热处理工艺对溶胶-凝胶法制备ZnO:Al薄膜光电性能的影响

采用溶胶-凝胶法以提拉的方式在普通玻璃基底上制备出ZnO:Al(AZO)薄膜。通过X射线衍射仪、场发射扫描电子显微镜、方块电阻测试仪、Hall效应测试仪、紫外-可见-红外分光光度计研究了薄膜物相、微观结构、光电性能;分析了不同热处理方式对于薄膜光电性能的影响。结果表明:经10次提拉所制备薄膜可见光透过率85%左右。热处理工艺的选择对于提升AZO薄膜的电学性能至关重要,相比于空气气氛和真空下的热处理,采用具有还原性的5%H_2和95%N_2的混合气氛热处理得到了具有最好电学性能的AZO薄膜。在550℃还原气氛下保温60 min得到薄膜方块电阻约为300Ω/□,电阻率约为3.3×10^(-3)Ω·cm。

B2O3对SiO2-Al2O3-B2O3-R2O系高碱铝硅酸盐玻璃熔化性能的影响

研究了B2O3引入量对玻璃结构、黏度、澄清状态及硬度、电阻率性能等的影响规律。结果表明:B2O3含量的增加,导致密度、硬度等力学性能成比例降低;B2O3使玻璃液的特征黏度快速降低,但当B2O3含量超过质量分数4%时,其贡献值会降低;B2O3含量的增加使玻璃液的高温电阻率降低,但样品的电阻率在1 600℃时趋于3.10Ω·cm;B2O3质量含量的增加促进了玻璃液的澄清,但质量含量大于4%时,影响程度减小;出于性能和工艺难度的平衡考量,B2O3质量含量为4%是较佳的选择。